硫酸盐电沉积Zn-Fe合金工艺的研究

通过正交试验研究了酸性硫酸盐体系电沉积低铁含量的Zn-Fe合金镀层工艺,结果表明该体系的镀液配方简单,镀液稳定,操作简便,成本低廉。以柠檬酸钠和柠檬酸分别为络合剂和缓冲剂的镀液pH值稳定。通过Hull糟试验还发现,该镀液的电流密度范围宽,镀层结晶细致、光亮平整。     

工艺条件对化学镀Ni-Co-P合金的影响

采用硼酸为缓冲剂 ,柠檬酸钠为络合剂化学镀Ni Co P合金。考察了镀液pH值、钴离子浓度和温度对化学镀Ni Co P沉积速度的影响 ;研究了钴离子浓度对镀层组成的影响 ,获得了化学镀Ni Co P合金的最佳工艺条件为 :镀液pH值为 7.0 ,操作温度 90℃ ,CoSO4 ·7H2 O浓度为 11g/L。此工艺下镀液稳定性好 ,镀层沉积速度快 ;所得镀层为非晶结构。     

Ni-Fe-P三元合金的快速化学镀制备工艺研究

采用化学镀方法,在A3钢表面制备Ni-Fe-P三元合金,通过SEM,EDS,XRD,OM等表征手段对合金镀层成分、结构和形貌进行分析,并使用增重法、氯化钯加速法分别对镀层的沉积速率、镀液的稳定性进行分析。探讨了主盐、还原剂、络合剂、稳定剂、pH值、温度等工艺参数对沉积速率、镀层形貌、成分、镀液稳定性的影响,获得了镀速快、镀层均匀、镀液稳定性好的工艺配方。在采用复合络合剂的体系中,当主络合剂柠檬酸钠的浓度为60g/L,辅助络合剂氨基乙酸的浓度为5g/L时,化学镀沉积速率可以达到20.2mg.cm-2.h-1,并且镀液保持了较好的稳定性。     

Fe-Ni合金电沉积的电化学行为

利用线性扫描法和循环伏安法分别讨论了镀液中Fe2+和Ni2+浓度、pH值、温度、光亮剂、配位剂含量对Fe-Ni合金电沉积的电化学行为的影响。结果表明,镀液的pH值降低,温度升高时,Fe-Ni合金共沉积的阴极极化减小,镀液中Fe2+浓度增加,Ni2+浓度减小,Fe-Ni合金共沉积的阴极极化增大;加入光亮剂和配位剂时,有利于提高镀层的致密性,同时镀层的耐腐蚀性增强。通过计算Fe-Ni合金共沉积电极反应的表观活化能,阴极电极电势在-1.0～-1.2V时,表观活化能均40kJ/mol,说明Fe-Ni合金的共沉积过程为电化学步骤控制。XRD表明Fe-Ni合金为固溶体晶体结构,SEM表明镀层表面光亮平滑。     

混合配体络合剂对镍磷合金镀层耐蚀性和沉积速率的影响

研究了络合剂对镍磷合金镀沉积速率的耐蚀性。结果表明，在相同条件下，不同配位基的络合剂及其混合配体的镀液所获镀层的沉积速率和耐蚀性存在很大差别，使用适当的混合配体络合剂的镀液能够获得较高沉积速率的镀层和优良的镀层表面形态，从而使得镍磷合金镀层具有极强的耐蚀性。     

Zn-Fe-La三元合金电沉积工艺研究

为了获得光亮、致密和耐蚀性好的Zn-Fe-La三元合金镀层,试验研究了氯化物体系中电沉积Zn-Fe-La三元合金的工艺条件.通过考察镀液成分、pH值、添加荆、稀土盐对合金镀层的影响,确立适宜的镀液配方和工艺条件.结果表明,最佳配方及工艺条件:60～120 g/L FeSO4·7H2O,30～50g/L znCl2·7H2O,4～10g/L LaCl3,10 g/L C6H8O7·H2O,40 g/L C6 H5Na 3O7·2H2O,100 g/L KCl,2 g/L抗坏血酸,6 g/L苄又丙酮,7mL/L ZF光亮剂,2 g/L聚乙二醇(分子量大于6000),pH值为3,施镀时间10 min,电流密度J=3.5 A/dm2,室温.在该工艺条件下,可在水溶液中电沉积出稀土含量为4.61%的Zn-Fe-La三元合金.同时,稀土的加入能改变镀层成分,增大合金电沉积的阴极极化,同时镀层的耐蚀性较Zn-Fe合金镀层提高了约1倍.     

有机多膦酸盐电镀锌镍合金的研究

研究了用有机多膦酸盐（HEDP）作络合剂,ZNP作添加剂电镀光亮锌镍合金,探讨了络合剂、氯化物含量、[Zn^2＋]/[Ni^2＋]比、阳极电流密度、温度、辅助络合剂对合金中镍含量的影响,测定了合金镀层中物相组成及镀液稳定性,通过筛选得出最佳最镀光亮锌镍合金的镀液组成及工艺条件,并讨论了锌镍合金的异常共沉积机理。     

乙醇溶液电沉积La-Ni合金工艺研究

以氯化镍、氯化镧为主盐,以柠檬酸铵为络合剂的乙醇镀液中可以实现电沉积La-Ni合金镀层。研究表明,镀液中[La^3 ]/[Ni^2 ]比值增加,升高镀液温度,提高电流密度均可使镀层La含量提高。最佳镀液组成及工艺条件下,镀层La含量为15％左右,镀层光亮、结晶细致,镀液分散能力、覆盖能力良好,阴极电流效率可达70％,SEM、XRD分析表明镀层为非晶态,XPS分析表明,镀层中镍、镧的化学状态为Ni、LaH2和少量的La、La2O3。通过对镀液的循环伏安曲线测量,初步探讨了La与Ni共沉积的机理,其共沉积特性符合诱导共沉积规律。     

超声波搅拌镀锌

不管镀液中有无光亮剂,超声波搅拌可增加锌酸盐镀锌的电流效率、沉积速度和最大电流密度。普通镀液采用超声波可得到表面光滑、结构整齐、轮廓分明的镀层。光亮镀液应用超声波可增加镀层的显微硬度。     

化学沉积Ni-Mo-P合金工艺参数对性能的影响

研究了镀液pH值和温度等工艺参数对化学镀Ni Mo P合金镀层耐蚀性和硬度的影响。试验结果表明 ,镀液 pH值升高 ,镀层的沉积速度和硬度升高 ,而耐蚀性下降 ;镀液温度升高 ,镀层的沉积速度升高     

来稿摘登

化学镀可获得均匀平滑的复层,因而广泛用于电子工业.在高密度磁存储器中的应用便是一例,化学镀钴与PH、T和镀液组成有关,其中络合剂和镀液PH值最为重要. 对各种不同的钴胺镀液研究表明,最佳配方是:硫酸钴0.1M,次磷酸钠0.2M,焦磷酸钠0.4M,硫酸铵0.5M,该镀液稳定性好,沉积速度高,镀层细致,最佳工作条件为,PH10.5,T70℃.利用这些条件,可获得半光亮镀层,沉积速度3.5μm/hr,镀层磁性Hc=320Oe,Br/Bs=0.70(膜厚为1.0μ).     

铝黄铜基体电沉积Ni-P合金工艺

为了提高铝黄铜的耐蚀性能,采用次亚磷酸盐体系电镀Ni-P合金,从镀层沉积速度和外观角度,研究了镀液组成、pH值、电流密度、温度对镀层的影响,得出了最佳的工艺条件:40～60 g/L硫酸镍,8～10g/L氯化镍,8～12 g/L次亚磷酸钠,10～14 g/L柠檬酸,25～35g/L硼酸,pH值2.5～3.0,电流密度45～55 mA/cm2,温度58～70℃.采用本工艺得到的镀层均匀、光亮,耐蚀性优于铝黄铜.     

化学镀铜液再生

一、前言通过补充成分,使镀铜液再生,可重复利用镀液中的的络合剂和碱。配方中的硫酸铜是铜离子源,甲醛是还原剂,氢氧化钠及碳酸钠保持镀液pH值在10以上。络合剂约制铜沉积1mol铜需2mol甲醛和4mol碱;因有副反应实际需要量量大些,即部分甲醛与碱会生成甲醇与甲酸根。 2CHHO+OH→CH_3OH+HCOO (2) 经过PdCl_2——SnCl_2催化和活化过的工作,在按下表配制的浓、稀两种镀液中均能沉积出平滑光亮的铜层。镀液     

硫酸盐体系中直流电沉积参数对纳米晶锌镀层的影响

酸性硫酸盐直流电沉积纳米晶锌镀层比脉冲电沉积投入小、时间短、操作简单.为此,采用直流电沉积工艺在酸性硫酸锌镀液体系中制备了纳米晶锌镀层,并对沉积工艺参数进行了优选.运用XRD,SEM,AFM等研究了添加剂、pH值、温度等对纳米晶锌镀层的影响.结果表明,在基础镀液中加入0.2 g/L十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、0.2 g/L苄叉丙酮(BA)和0.2 g/L聚乙二醇(PEG)混合剂,在镀液pH=2,温度25℃,电流密度为1.0A/cm2时,可获得光亮致密的纳米晶锌镀层,其平均晶粒尺寸最小约为38.6 nm.     

电镀Ag-Cd合金工艺研究

研究了氰化物体系电沉积银镉合金的工艺。研究表明，提高镀液Cd^2 和Ag^ 浓度比、提高电流密度、降低温度、增加镀液中络合剂和辅助络合剂的浓度都能使镀层镉含量提高，从而确定了电沉积含镉15％-18％的Ag-Cd合金镀层的最佳镀液组成和工艺条件。XRD分析表明，镉含量为17％的银镉合金镀层中含有金属间化合物AgCd。AgCd的存在，大大提高了镀层的硬度、耐磨性，但降低了其塑性，使镀层变脆。SEM观察含Cd17％的Ag-Cd合金镀层的形貌发现，镀层结晶细致，颗粒分布均匀。通过对不同镉含量的合金镀层的硬度测试，确定含镉15％-18％的Ag-Cd合金镀层硬度最高。利用阴极极化曲线分析了Ag-Cd合金的共沉积特征。     

PET表面低温碱性化学镀镍工艺

为了能在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)表面获得连续、光亮的化学镀镍层,并同时保持镀液的稳定和较快的镀速,研究了镀液中Ni2+浓度、配位剂浓度和工艺参数对低温碱性化学镀镍磷合金镀速的影响,重点研究了添加剂对镀层的影响,最后确定了最佳工艺参数.结果表明,Cu2+是较好的光亮剂,盐酸胍能够明显提高沉积速率.     

NdFeB磁体表面化学镀Ni-Co-p合金及其耐腐蚀性能研究

采用化学镀方法制备Ni-Co-P三元合金镀层以改善NdFeB磁体的耐腐蚀性能.优化了镀液配方以及施镀工艺,研究了镀液pH值和金属离子配比([Co2 ]/[Ni2 Co2 ])对沉积速度和镀层成分的影响,测量了NdFeB基体和不同镀层在3.5%(质量分数,下同)NaCl溶液中的极化曲线.结果表明,随镀液pH值增加,沉积速度提高,镀层中Co含量升高,Ni含量和P含量逐渐降低;随镀液中Co2 比例增加,沉积速度下降,镀层中Co含量升高,Ni和P含量降低.化学镀Ni-Co-P合金后的NdFeB磁体在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速度降低了约两个数量级;当镀液金属离子配比[Co2 ]/[Ni2 Co2 ]=0.3时,镀层耐腐蚀性能最好,且优于相同施镀条件下所得到的Ni-P镀层.     

以ABSB为光亮剂的抗坏血酸体系电镀光亮镍铁合金

一、前言光亮镍铁合金镀层具有优越的物理、化学性能,因而国内外给予较高的评价,并获得部分应用.目前,国内外光亮镍铁合金镀液大多采用羟基羧酸如柠檬酸及其盐作为Fe~(2+)离子的稳定剂,以炔属醇或它与环氧类化合物的缩合物为光亮剂.但是此类镀液稳定性较差,pH值容易上升,光亮剂不稳     

一次钾盐镀锌故障的处理

我厂滚镀锌为弱酸性钾盐镀锌,槽液共计3200L,有一次镀件出现滚桶眼,出槽件虽然光亮,但经浸光后表面发黑,钝化后无钝化膜,更不见有锌镀层.1 故障分析经查镀槽日记,在半月以前按1ml/L加入H_2O_2,同时加入1g/L活性炭处理,分析化验后补充氯化钾、氯化锌及光亮剂CT-2A、CT-2B.大致原因:(1)重金属杂质高;(2)双氧水含量高(镀液中未彻底除掉);(3)镀液温度低;(4)含有机杂质高;(5)缺少光亮剂;(6)导电线路不畅通;(7)光亮剂比例失调;(8)pH值不正常.     

化学镀Ni-Co-W-P合金镀层性能研究

为改善化学镀Ni-Co-W-P合金工艺镀速慢、镀层耐腐蚀性能差、析氢过电位高等问题,研究了镀液组分、pH值、温度、转速、表面.活性剂对45钢上化学镀Ni-Co-W-P合金镀层沉积速度、耐腐蚀性能、镀层厚度、孔蚀率、表面形貌和硬度的影响,得出最佳镀液配方:6 g/L CoSO4,24g/L NiSO4,20 g/L NaH2PO2,20g/L Na2WO4·2H2O,20 g/L(NH4)2S04,24 g/L Na3C6H5O7,11g/L苹果酸,pH值7.0～7.5,温度80℃,搅拌速度30 r/min.结果表明,当pH为7.0～7.5时,沉积速度最大,孔蚀率最少;温度为80℃时,镀层综合性能好,超过80℃时,镀液的稳定性开始下降;转速为30 r/min时,合金镀层的沉积速度达到最大值;加入50 mg/L表面活性荆十二烷基磺酸钠的Ni-Co-W-P合金镀层试样的腐蚀电位(0.191 V)大于未加入十二烷基磺酸钠表面活性荆(0.040 8V)的.