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相似文献
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P^+—GexSi1—x/p—Si异质结红外探测器性能的提高   总被引:3,自引:0,他引:3  
通过采用层叠结构、增加SiO2介质腔和铝反射镜、背面蒸镀SiO抗反射层等措施,使P^+-GexSi1-x/p-Si异质结内光发射红外探测器在77K下的性能提高到在不加偏置电压的条件下响应范围2 ̄8μm,D(5.5,1000,1)^*=1.1×10^10cmHz^1/2/W,量子效率可达4%。其Dp^*已达到实用的PtSi红外探测器的量级。另外,在器件的结构设计中,我们采用了一种改进的电极结构,以提  相似文献   

3.
用分子束外延方法生长了p^+-GexSi1-x/p-Si异质结,并用平面工艺制成了内光电红外探测器,器件截止响应波长达9μm,在52K时,Rv500K=3.3×10^3V/W。  相似文献   

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GexSi1—x/Si超晶格红外探测器最佳结构   总被引:3,自引:1,他引:3  
李国正  张浩 《半导体光电》1995,16(3):242-244
通过对GexSi1-x/Si超晶格机理的研究,算出了GexSi1-x/Si超晶格红外探测器的最佳结构参数,以对1.3μm红外光有最大的利用率。  相似文献   

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本对P^+-GexSi1-x/P-Si异质结内光发射以长红探测器的电极结构进行了改进,并在国内首次报道了这种器件在77K下的电学特性和光学响应特性。  相似文献   

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用分子束外延方法生长了p+-GexSi1-x/p-Si异质结,并用平面工艺制成了内光电红外探测器,器件截止响应波长达9μm,在52K时,Rv500K=3.3×103V/W.  相似文献   

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首次报导了一种改进结构的P^+Ge0.3Si0.7/P-Si异质结内光发射长波长红外探测器在77K下的电学特性和光学响应特性。  相似文献   

11.
文章主要介绍 Ge_xSi_(1-x)/Si 超晶格量子阱长波红外探测器和新颖的红外焦平面阵列的现状。  相似文献   

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通过对GexSi(1-x)/Si红外探测器结构及机理的研究,建立了计算量子效率的模型,并计算了内量子效率与波长的关系,与他人的实验结果符合得很好。  相似文献   

13.
通过对GexSi1-x/Si超晶格机理的研究,算出了GexSi1-x/Si超晶格红外探测器的最佳结构参数,以对1.3μm红外光有最大的利用率。  相似文献   

14.
朱文章 《半导体光电》1992,13(4):398-401
采用电容耦合法,在18~300K 温度范围内测量了一系列 Ge_xSi_(1-x)/Si应变层多量子阱和 Ge/Si 超薄超晶格在不同温度下的红外光电压谱。实验结果表明,在长波段有强的光电压信号。文中还对 Ge_xSi_(1-x)/Si 量子阱和超晶格的能带排列和光伏效应作了讨论。  相似文献   

15.
根据光集成技术对脊形光波导的要求 ,通过系统的分析和优化设计得出了GexSi1 -x/Si脊形光波导的最佳结构参数。对波长为 1 .3μm的光波 ,其数值孔径在光波导的输入、输出端均和单模光纤的相匹配 ,其最佳Ge组分为 0 .0 3和 0 .0 4。符合大截面且和单模光纤芯径相当的脊高分别为 4~ 1 0 μm和 4.0~ 5 .9μm ,脊宽分别为 8.8~ 1 0 .0 μm和 5 .9~ 1 0 .0 μm。  相似文献   

16.
介绍了应变层Ge_xSi_(1-x)/Si异质结构的生长、材料特性及其在异质结双极晶体管(HBT)、双极反型沟道场效应晶体管(BICFET)、调制掺杂场效应晶体管(MODFET)、谐振隧道二极管、负阻效应晶体管(NERFET)、毫米波混合隧道雪崩渡越时间(MITATT)二极管和光电探测器等器件中的应用状况,并指出了其发展前景。  相似文献   

17.
GexSi1—x/Si应变层超晶格光伏特性研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用电容耦合法测量了Ge_xSi_(1-x)/Si应变层超晶格在不同温度下的光伏特性.在Ⅱ型能带排列的样品中观测到价带-导带子带和价带子带-导带光跃迁的4个峰.对所有样品测得的光伏截止波长都比理论预期值小.还对光电压随温度的变化作了初步解释.  相似文献   

18.
对于处在亚稳态生长区域内阱宽为15um锗组分x=0.25、0.33、0.40的单量子阱样品,及阱宽相同x=0.45、0.53的单量子阱样品,首先通过喇曼光谱测量了样品的应变弛豫程度,发现当锗组分增加到X≥0.45时,其应变开始逐渐弛豫,然后通过测量深能组瞬态谱(DLTS),研究应变弛豫程度不同的样品中形成的缺陷性质。在X=0.25、0.33、0.40样品中均可以观察到量子阱中载流子发射产生的DLTS峰,由它求得的能带们移值与理论预计值符合。对于X=0.45、0.53样品阱中载流子发射信号已被缺陷信号淹没,表明此时样品的缺陷浓度很大。相应的缺陷情况是:对于应变未弛豫的样品(X=0.25),DLTS测得的缺陷为一点缺陷;对于应变基本未弛豫的样品(X=0.33、0.40)DLTS测得的缺陷主要为一组界面缺陷;而应变部分弛豫的样品(X=0.45、0.53),DLTS测得的缺陷与前三种样品不同,样品的缺陷可能与形成的穿透位错有关。通过电化学腐蚀,可以确定这些缺陷均位于异质界面附近。  相似文献   

19.
刘犀 《半导体光电》1994,15(2):101-108
文章旨在介绍适应于长波红外焦平面阵列技术发展的红外探测器,由于篇幅的关系,本文着重评述InAsSb应变层超晶格红外探测器和GaAs/GaAlAs多量子阱红外探测器的特点、器件结构、主要制作工艺,性能参数,以及急需要解决的一些问题。  相似文献   

20.
GexSi1—xSi应变层和超晶格及其临界厚度   总被引:1,自引:0,他引:1  
罗江财 《半导体光电》1993,14(1):35-40,47
异质外延层的性能和质量,往往取决于异质结构的特性。文章讨论了Ge_xSi-(1-x)/Si 应变层和应变层超晶格中的应变、位错和临界厚度,并比较了实验结果。  相似文献   

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