化学镀Ni-P工艺对镀层结构和性能的影响

研究了化学镀Ni-P镀层时的施镀温度，pH等工艺参数对Ni-P合金镀层结构状态，P含量和耐盐雾腐蚀性能的影响，指出优选和控制工艺参数是保证镀层质量的关键。     

化学镀Ni-P合金的耐磨性研究

研究了化学镀Ni-P镀层在不同温度的热处理后的磨损实验结果,并探讨了化学镀Ni-P镀层的磨损机理,结果表明,镀层经过400℃热处理后,硬度最高,但镀层经600℃热处理后耐磨性达到最佳。     

化学镀镍钴磷合金

对化学镀三元合金Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ镀层的材料性进行了研究，特别对Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ在元合金化学镀层的初期沉积行为及金相结构等进行了探讨，并讨论了磷含量对镀层的影响。     

化学镀Ni—Sn—P三元合金的工艺和性能的研究

在确定的化学镀Ni-Sn-P镀液组成的条件下，研究了工艺参数（镀液温度和PH）对沉积速度和镀层中含锡量及含磷量的影响，并对该合金镀层的结构，孔隙率及耐蚀性能进行了测试，结果表明：在一定的工艺条件下获得的非晶态合金镀层具有较小的孔隙率和良好的耐蚀性能。     

化学镀Ni—P—B合金的工艺和耐蚀性的研究

研究化学镀Ni-P-B合金的工艺,对镀液的稳定性以及镀层的结构和耐蚀性进行了分析和研究。实验表明:采用含有稳定剂CdSO_4的镀液施镀,可得到结合力强和非晶态结构的Ni-P-B合金镀层,并具有优良的耐蚀性。     

化学镀Ni-Co-P合金工艺研究

为了改善化学镀Ni-Co-P合金工艺存在的镀速慢、镀层质量差等问题,研究了镀液组分、表面活性剂、pH值、稳定剂、配位剂对化学镀Ni-Co-P合金镀层沉积速度、耐蚀性、孔蚀率的影响,得出最佳镀液配方和工艺:26 g/L CoSO4,28 g/L NiSO4,22 g/L NaH2PO2,80 g/L Na3C6H5O7,69 g/L(NH4)2SO4,1 mg/L KI,50 mg/L十二烷基苯磺酸钠,pH=8,温度85℃.本研究结果为化学镀Ni-Co-P合金工艺提供了依据,较有实用价值.     

工艺条件对聚苯胺粉体Ni-Co-P合金镀层的影响

利用化学镀工艺对聚苯胺粉体表面进行金属化改性,使其在雷达波吸收方面具有电损耗的同时兼具磁损耗性能.通过实验获得一组较好的化学镀Ni-Co-P配方,在此基础上讨论主盐浓度、主盐浓度比、镀覆时间等控制对镀层沉积速度的影响因素,研究了镀覆时间对镀层组分的影响.获得了化学镀Ni-Co-P合金的最佳工艺条件为:pH=9、温度85℃、硫酸镍质量浓度18g/L、硫酸钴质量浓度9g/L,此时镀液稳定,沉积速度快.     

化学镀Ni－P合金喷淋工艺

采用喷淋工艺在大型工件局部欲镀面制各Ｎｉ－Ｐ合金镀层，解决了大型工件化学镀Ｎｉ－Ｐ合金的困难。     

化学镀Ni－Sn－P三元合金的工艺和性能的研究

在确定的化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ镀液组成的条件下，研究了工艺参数（镀液温度和ｐＨ）对沉积速度和镀层中含锡量及含磷量的影响，并对该合金镀层的结构、孔隙率及耐蚀性能进行了测试。结果表明：在一定的工艺条件下获得的非晶态合金镀层具有较小的孔隙率和良好的耐蚀性能。     

化学镀Ni-W-P合金沉积机理初探

通过对化学镀的Ni-W-P合金镀层镀态下的表面形貌特征及镀层断面组织的观察与分析,研究了化学镀Ni-W-P合金镀层的沉积机理。结果表明,合金原子优先在基底金属表面能量较高的划痕、蚀孔边缘处沉积。Ni-W-P非晶态合金镀层由圆形基元以交错层叠方式叠加而成。     

化学镀Ni-P合金的氢化物-电化学联合机理

在NiSO4-NaH2PO2体系中的化学镀反应，是一个在多相体系中进行的复杂物理－化学过程，因此，存在多种关于它的理论或看法。作者采用量子化学方法研究证实，在化学镀镍过程中，镍能有效地夺取H2PO2^－中的活泼氢并能与之形成氢化物；并通过诱发铜片化学镀镍实验证实化学镀Ni-P合金中必然存在电化学步骤。据此，作者认为化学沉积Ni-P合金的机理是氢化物－电化学联合机理。     

化学镀Ni-W-P混合电位研究

测量了化学镀Ni—P和Ni—W—P过程混合电位随时间的变化，并分析其变化规律。指出Emix的正移与pH值随时间而降低有关，而且pH值的降低合加速化学镀的诱发过程。低碳钢诱发化学镀Ni—W—P会在混合电位—时间曲线上出现两个电位阶梯，其原因在于低碳钢在给定的镀液体系中稳定电位不够负，不能提供足够的能量使化学镀Ni—W—P快速发生，只有当表面形成达到一定覆盖度的具有催化活性的Ni原于层后，才能迅速地诱发化学镀过程；而Ni—P和Ni—W—P的稳定电位足够负．可以使化学镀过程快速诱发．故仅有一个电位阶梯。     

铝合金上化学镀Ni-Co-P合金工艺及镀层性能的初步研究

研究了铝硅合金基体化学镀Ni-Co-P镀层的工艺对镀层性能的影响.通过正交试验,得出镀液pH值、硫酸镍、硫酸钴以及次磷酸钠的含量对镀层厚度、硬度和成分的影响规律,发现增大镀液pH值和增加硫酸镍含量、次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于增加镀层膜厚;增大镀液pH值、硫酸镍和次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于提高镀层硬度.     

空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层研究

用化学镀的方法将空心微珠改性,使它具有电、磁等性能,是拓宽空心微珠应用领域的一种新方法.以AgNO3代替常见的贵金属盐PdCl2为活化剂,在空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层,用X射线衍射仪、能谱仪和扫描电镜对其进行了分析表征.结果表明,以AgNO3活化剂代替常用的PdCl2活化剂,可在空心微珠表面得到Ni-Co-P合金镀层,同时分析了以AgNO3代替常用的PdCl2活化剂制备Ni-Co-P合金镀层的形成机理.本方法能改善Ni-Co-P合金镀层的性能,成本低,具有良好的应用前景.     

Co2+与(Co2++Ni2+)摩尔浓度比对Ni-Co-P合金化学镀层组织与性能的影响

通过改变化学镀液中金属离子Co2+与(Co2++Ni2+)的摩尔浓度比获得了不同的Ni-Co-P合金化学镀层。研究了钴的引入对Ni-Co-P合金镀层的沉积速率及组织性能的影响。结果表明:随着Co2+与(Co2++Ni2+)摩尔浓度比的增加,镀层的沉积速率不断下降,镀层中P含量逐渐减小,镀层表面的胞状组织由大到小;镀层硬度随Co2+与(Co2++Ni2+)摩尔浓度比的增加先升高后降低,Co2+与(Co2++Ni2+)摩尔浓度比为0.4时,硬度最大达554.12HV,镀层具有优良的耐硫酸腐蚀性能,Co2+与(Co2++Ni2+)摩尔浓度比为0.6时,镀层耐蚀性最强。     

NdFeB磁体表面化学镀Ni-Co-p合金及其耐腐蚀性能研究

采用化学镀方法制备Ni-Co-P三元合金镀层以改善NdFeB磁体的耐腐蚀性能.优化了镀液配方以及施镀工艺,研究了镀液pH值和金属离子配比([Co2 ]/[Ni2 Co2 ])对沉积速度和镀层成分的影响,测量了NdFeB基体和不同镀层在3.5%(质量分数,下同)NaCl溶液中的极化曲线.结果表明,随镀液pH值增加,沉积速度提高,镀层中Co含量升高,Ni含量和P含量逐渐降低;随镀液中Co2 比例增加,沉积速度下降,镀层中Co含量升高,Ni和P含量降低.化学镀Ni-Co-P合金后的NdFeB磁体在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速度降低了约两个数量级;当镀液金属离子配比[Co2 ]/[Ni2 Co2 ]=0.3时,镀层耐腐蚀性能最好,且优于相同施镀条件下所得到的Ni-P镀层.     

全光亮化学镀镍磷合金工艺研究

研究出了一种新型不含铅的全光亮化学镀镍工艺,获得了全光亮的镍磷合金镀层.通过试验分析镀液中添加剂、无机盐、主盐、施镀时间、pH值和施镀温度对化学镀镍磷合金层光亮度的影响;检测了有关性能.结果表明:所得化学镀镍磷合金镀层的光亮度、耐蚀性等性能优于常规化学镀镍磷合金镀层.CuSO4、TaSO4无机盐的添加使溶液稳定性(氯化钯稳定试验)从30 s提高到90 s,同时也提高了化学镀镍磷合金镀层耐蚀性,在5%NaCl溶液中的年腐蚀量从1.1 mg/cm2降为0.     

新型化学镀镍光亮剂的研究

研制了一种新型的化学镀镍光亮剂，通过扫描电和X射线衍射分析表明，高磷合金镀层为非晶态结构，光亮剂在化学镀过程中没有参与反应，却加快了磷化沉积速度，提高了镀层中磷的含量，增强了镀层表面的光亮度，改善了镀层表面的质量，而且反应过程出光速度快，镀液稳定可靠。