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为了研究X射线入射方向对界面剂量增强的影响,通过建立一个典型的金/硅界面结构模型,采用MCNP蒙卡计算程序计算50keV能量X射线以不同的方向入射界面时在规定的区域内产生的能量沉积,进而得到剂量增强系数. 相似文献
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CMOS电路X射线辐射剂量增强效应 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了CMOS电路在X射线辐射环境下性能的退化及剂量增强效应,测量了相对剂量增强系数,对不同工艺CMOS电路的剂量增强系数进行了比较,并对高原子序数材料的X射线剂量增强机理进行了讨论。 相似文献
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X射线在重金属-硅界面的剂量增强系数的计算 总被引:1,自引:1,他引:0
当X射线射入不同材料组成的界面时,在低Z材料的一侧将产生剂量增强。介绍了界面剂量增强效应的基本原理,并用MCNP Monte-Carlo程序计算了钨-硅、钽-硅界面的剂量增强系数。 相似文献
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剂量增强效应的半经验理论计算 总被引:1,自引:1,他引:0
采用一种半经验电子输运模型,改进了部分参数计算方法,编制了能够快速计算光子剂量增强效应的计算程序,计算了^60Coγ射线辐照Au/Al界面时Al中的剂量分布,与实验结果进行了比较,并分析了各种组分的次级电子对剂量增强因子贡献。 相似文献
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在器件的金属化层及封装等结构中,高原子序数材料在低能X射线的辐照下,会在相邻的低原子序数材料中产生剂量增强效应,从而使得器件性能严重退化。主要介绍了柯伐封装的CMOS器件,在X射线和γ射线辐照下,其辐照敏感参数阈值电压和漏电流随总剂量的变化关系。并对实验结果进行了比较,得出低能X射线辐照对器件损伤程度大于γ射线,对剂量增强效应进行了有益的探讨。 相似文献
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陈盘训 《核电子学与探测技术》1997,17(1):7-10
本文介绍典型双极晶体管在X射线辐射环境下性能的退化及剂量增强效应,实际测量了双极晶体管X射线辐射剂量增强系数,研究了双极器件剂量增强效应机理。 相似文献
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X射线剂量增强环境下电子系统辐射效应和加固 总被引:1,自引:0,他引:1
陈盘训 《核电子学与探测技术》1997,17(2):81-85
本文研究在X射线剂量增强环境下电子系统的薄弱性及应采取的加固方法,给出了组成电子系统各类器件和集成电路剂量增强系数,从实验结果出发,指出最佳的屏蔽X射线的方法。 相似文献
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当X射线入射到不同材料组成的界面时,在低Z材料的一侧将产生剂量增强。本文介绍了界面剂量增强效应的基本原理,并用蒙特卡罗程序EGSnrcMP模拟计算了钨和硅、钽和硅界面的剂量增强因子。计算结果表明,在X射线能量为30~200 keV时,界面附近硅一侧存在较大的剂量增强效应。 相似文献
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通过调研分析,发现ESA/SCC 22900和MIL-STD-883G方法1019.7在剂量率的选择等方面存在较大差异。针对美国宇航局NASA发布的TID试验报告中总剂量及其对应的剂量率值进行统计分析,了解到不同工艺器件进行TID试验时采取多步骤辐射,辐射过程中所选择的剂量率几乎均小于1rad(Si)/s,且剂量率随总剂量不断改变。当总剂量低于30krad(Si)时,曲线分布没有规律,随机性较大;当总剂量大于30krad(Si)时,剂量率随总剂量的增加而增加,但不满足线性关系。针对不同剂量率辐射后器件失效机理的分析研究,得出器件在低剂量率辐射下失效的主要原因是界面态,而在高剂量率辐射失效的主要原因是辐射感生氧化物陷阱电荷。 相似文献
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设计了一种多层平行板金电离室,应用测量法测量了^60Coγ射线在金与低原子序数材料交界时界面及金中的剂量分布。 相似文献
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比较分析了近年来国际上主要研究机构/组织在生物剂量评估工作中剂量率限值的研究成果。欧洲ERICA项目和PROTECT项目使用FREDERICA效应数据库中的辐射效应数据估计单个生物物种的关键毒理数据EDR10,使用不同物种的EDR10与剂量率数据,建立物种敏感分布(SSD)曲线,采取物种敏感分布法推算出生物的筛选剂量率。在此基础上,结合我国放射生态学研究现状,提出了我国生物剂量率限值研究的相关建议。 相似文献
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电子束扫描宽度改进与扫描宽度上的剂量分布 总被引:4,自引:0,他引:4
对一台GJ-2型电子加速器的扫描装置作了技术改造,产品上的扫描宽度增加58%。对扫描宽度、辐照功率和吸收剂量等做了测试并对辐照工艺进行了研究。结果表明,生产效率提高了69%。 相似文献