K_2SiF_6不经过滤直接水解滴定测SiO_2

本法基于K_2SiF_6沉淀后,不过滤分离,用KOH溶液中和母液中的酸至中性,当溶液中存在适量的F~-和K~+离子时,它们既能抑制K_2AlF_6等干扰物质的水解,又不影响K_2SiF_6完全水解.避免了现行K_2SiF_6法过滤分离的麻烦手续,防止了因转移和洗涤时K_2SiF_6的部分损失引起的负误差,消除了因可能产生K_2AlF_6沉淀引起的正误差.其准确度不低于动物胶重量法.用本法测定标准样品,标准偏差在0.20～0.24%间.为测定含SiO_2在40～80%的瓷用硅酸盐样品提供了一个准确快速的方法.     

K2SiF6容量法测定SiO2的操作

K2SiF6容量法测定SiO2在我国推行已久，但由于各种原因，这种操作方法的优势没有充分发挥出来；即使在分析方法逐渐仪器化的今天，出于标定仪器的需要，正确掌握：K2SiF6容量法的操作仍有其重要的意义。     

用氟硅酸［H_2SiF_6］生产高纯SiO_2的方法

用氟硅酸［Ｈ＿２ＳｉＦ＿６］生产高纯ＳｉＯ＿２的方法有关文献详述了以氟硅酸为原料制ＳｉＯ＿２的无废弃物工艺。用该法可同时得到两个市场需要的产品。一个是高纯度的二氧化硅，它是玻璃表面处理剂的原料；另一个是含量不低于９２％的氟化钙。（郦东浩）用氟硅酸［H...     

K2SiF6容量法测定SiO2的注意事项

目前我国大多数水泥企业及质检部门广泛采用K2SiF6容量法测定水泥及原材料中SiO2,该方法具有快速、准确、易操作等特点。但因为目前随着水泥企业不断改制,检验人员流动比较频繁,分析人员缺少正规的、系统的理论和实际操作方面的培训,对这个方法不能够很好地掌握,造成检验结果不稳定、准确度不高等问题。本文就该方法的注意事项做一说明。     

浅谈氟硅酸钾容量法测定SiO2的原理与操作

1.引言 水泥企业进行生、熟料的分析时,SiO_2的测定大多采用NH_4CI凝聚重量法。立窑企业,由于熟料中不溶物含量较高,采用该方法会使测定结果偏高0.20～0.30％,由此引起相应的熟料KH值偏低0.20～0.30,已接近或超过了KH的控制偏差,因而必须采用Na_2CO_3烧结或碱熔试样进行处理。而应用碱熔试样K_2SiF_6容量法测定SiO_2简便、快速、准确,可满足日常生产检验要求。现就     

氟硅酸钾容量法测定二氧化硅的操作要点

1 测定原理。水泥生产中．物料中二氧化硅质量分数的分析测量质量．直接影响到水泥生料和熟料饱和比的确定。我公司对物料中SiO2的分析测定采用氟硅酸钾容量法。其测定原理是：在有过量的氟离子和钾离子存在下的强酸性溶液中，硅酸能与氟离子作用能生成氟硅酸离子，并进而与钾离子作用生成氟硅酸钾沉淀。该沉淀在热水中水解并生成相应质量的氢氟酸．最后用NaOH溶液进行滴定，就可以求得样品中SiO2的质量分数。其反应式如下。     

K2SiF6沉淀容量法测定H2SiF6和Na2SiO3

Ｋ_２ＳｉＦ_６沉淀容量法测定Ｈ_２ＳｉＦ_６和Ｎａ_２ＳｉＯ_３朱光华（江西第二机床厂，３４３４００）１前言装饰性滚镀铬、尺寸复合镀铬都要用Ｈ２ＳＯ４和Ｈ２ＳｉＦ６作催化剂。由于含有Ｈ２ＳｉＦ６的镀铬溶液可采用较高的电流密度，电流效率较高１８～２５％，光...     

重量法测定石膏中SiO_2的探讨

<正>石膏是生产石膏胶凝材料和石膏建筑制品的主要原料,也是硅酸盐水泥的缓凝剂。石膏的化学成分对其使用非常重要。测定石膏的化学成分一般依据GB/T 5484《石膏化学分析方法》。对于SiO2的测定,GB/T 5484—2012《石膏化学分析方法》规定了K2SiF6容量法和硅钼蓝分光光度法,没有给出重量法测定SiO2的分析方法。为了优化重量法测定石膏中SiO2的分析步骤,本文通过分解试样方法的选择,探讨重量     

容量法测定SiO2方法的改进

0 前言 氟硅酸钾容量法测定SiO_2,已在水泥分析中得到广泛应用。但由于重现性不好,使该方法的准确性不易掌握。 在实际工作中,沉淀及水解条件并不难掌握,其结果不稳,主要是由于沉淀中残留的游离酸的影响所致。对于除去残留酸目前常用5％氯化钾洗液洗涤后,再用氢氧化钠中和的方法。但中和点受洗涤程     

Na2SiF6容量法测定SiO2的化学计量点及终点误差计算

Ｎａ_２ＳｉＦ_６容量法测定ＳｉＯ_２的化学计量点及终点误差计算彭大龙云南省昆明搪瓷厂（６５０１０１）１引言Ｎａ２ＳｉＦ６容量法测定ＳｉＯ２，早已广泛应用于水泥、耐火材料中。但该法的化学计量点（旧称等当点）及指示剂的选择不尽一致［１，２］。文献［１］报?..     

重量法测定陶瓷原材料中SiO_2的理论依据

本文论述了《GB/T4734-1996陶瓷材料及制品化学分析方法》中测定SiO_2的理论依据。     

SiF_4气体中(SiF_3)_2O的净化方法

高纯度四氟化硅(SiF4)是电子工业中的一种重要原料,能用于光导纤维、太阳能电池和水泥硬化剂等的原料。详细介绍了SiF4气体中(SiF3)2O的生成原理和(SiF3)2O的净化方法,六氟二甲硅醚的纯化方法有活性炭吸附法,与含氟化氢的浓硫酸,氟气,氟化剂等物质发生反应,其中详细介绍了活性炭对四氟化硅气体中的杂质的净化效果。     

旋转法制备K_2O—PbO—SiO_2溶胶─凝胶薄膜

采用正硅酸乙酯（TEOS）、醋酸铅和醋酸钾制备了10K2O10PbO80SiO2溶胶。平板玻璃上溶胶─凝胶薄膜由旋转法沉积而成。     

4111－K_2E6凝汽器换管改造

介绍４１１１－Ｋ２Ｅ６凝汽器的概况，分析了运行状况差的原因，对换ＢＦｅ１０－１－１管改造的关键技术、施工工艺、改造效果及推广应用情况作了阐述     

H_2SiF_6-H_2O气液平衡体系中氟的分配比模型

针对H_2SiF_6-H_2O体系,建立气液平衡模型,得到氟元素在气液两相的分配比随温度和氟硅酸质量摩尔浓度变化的模型表达式:ln D=4.59×10~(-4)t~2-0.044 4 t+8.44+2/3(-1.53×(3m)~(1/2)/1+(3m)~(1/2)+8.64m/(1+1.5m)~2+0.18m)。绘制50~85℃、氟硅酸质量摩尔浓度≤1.2 mol/kg时,H_2SiF_6-H_2O体系的气液平衡相图。计算氟硅酸溶液绝热闪蒸过程中氟的逃逸量,为湿法磷酸尾气净化工艺提供理论依据。     

K_2O—PbO—SiO_2相图对降低粉彩铅溶出量的作用

景德镇的粉彩瓷,是一向为国内外人士所喜爱的一种独特的工艺品。她具有悠久的历史,随着今天现代科学技术的发展,人们对食具的卫生标准也提出了新的要求。对于粉彩瓷中的饮食器皿,不仅要求保持其传统的外观特色,而且对其内在指际——铅溶出量,也作了相应的限制。一般地说来,其铅溶出来不能超过7P.P.m(即百万分之七,P.P.m,为parts permillion 的缩写)。最近,美国对盛装食液的深凹容器又作了新的规定,不能超过3P.P.m;其他国家也有要求愈来愈严格的趋势。瓷器的铅溶出量来自画面,而画面又主要取决于所使用的颜料。粉彩画面比新彩或其它彩饰画得满而厚,颜料的用量就多,这也就给铅溶出量带来了很不利的影响。因此,对提高     

K_6[P_2W_(15)Ti_3O_(62)]/SiO_2的合成、表征和催化性能

采用饱和浸渍法将Dawson型杂多酸盐K6[P2W15Ti3O62]负载到二氧化硅上,通过控制焙烧温度,得到4个温度:150℃、200℃、250℃、300℃下的4种负载型杂多酸盐催化剂,得到产品K6[P2W15Ti3O62]/SiO2。用红外吸收光谱、紫外吸收光谱等测试手段,对合成配合物的结构和性质进行了表征。红外光谱表明杂多酸盐K6[P2W15Ti3O62]具有Dawson结构,且负载后的谱图上同时具有二氧化硅的结构。说明杂多酸盐已经成功负载在SiO2上。然后以催化合成乙酸乙酯为模型反应考察了其催化活性,得到了催化反应的最佳条件。并比较了4种负载型杂多酸盐催化剂活性。