光隔离器及其相关的磁光材料

本文简要介绍了磁光隔离器的理论、结构和分类 ,并提出了该器件今后发展的几个问题 ,最后介绍了几种磁光材料     

稀土铁石榴石磁光材料及其应用

本文综述了稀土铁石榴石磁光材料及磁光器件研究的最新进展；对最具应用价值的高掺Ｂｉ系列和掺Ｃｅ系列石榴石磁光材料作了介绍，在磁光器件方面选择了最具代表性的磁光隔离器和光纤电渗／磁场测试仪加以讨论。     

磁光波导型器件研究进展

首先介绍了法拉第磁光效应,然后重点介绍了磁光波导调制器和磁光波导隔离器的发展及存在的问题,并对其原理进行了讨论,最后简单论述了磁光波导开关原理及发展情况。     

稀土铁石榴石磁光材料及其应用

本文综述了稀土铁石榴石磁光材料及磁光器件研究的最新进展；对最具应用价值的高掺Ｂｉ系列和掺Ｃｅ系列石榴石磁光材料作了介绍；在磁光器件方面选择了最具代表性的磁光隔离器和光纤电流／磁场测试仪加以讨论     

磁光透明陶瓷的研究进展

磁光材料是指从紫外到红外波段具有磁光效应的光功能材料, 按照材料的类型可将其分为磁光玻璃、磁光晶体、磁光透明陶瓷等。其中, 磁光透明陶瓷是近年来出现的一种新型磁光介质材料, 具有高Verdet常数、大尺寸、高热导率、高激光损伤阈值等优点, 因而是用于高功率激光器中法拉第隔离器最理想的材料之一。目前已经报道的磁光透明陶瓷材料主要包括铽镓石榴石(Tb₃Ga₅O₁₂, TGG)陶瓷、铽铝石榴石(Tb₃Al₅O₁₂, TAG)陶瓷以及一些倍半氧化物陶瓷, 如氧化铽(Tb₂O₃)陶瓷、氧化钬(Ho₂O₃)陶瓷、氧化镝(Dy₂O₃)陶瓷等。本文首先介绍了几种常见的磁光效应, 详细阐述了法拉第效应和克尔效应的基本原理。着重对几种磁光透明陶瓷材料的研究进展、材料性能、应用前景进行了综述和介绍, 并对这几种磁光透明陶瓷的性能进行了比较和分析, 指出了它们存在的问题和今后的研究方向。     

光纤传感器用磁光玻璃的研究进展

简述了磁光玻璃中Faraday效应的本质特征；综述了磁光玻璃的研究进展；对在光纤传感器中有潜在应用前景的高掺稀土玻璃材料作了介绍，并对当前磁光玻璃研究中存在的问题进行了讨论。     

磁光超分辨近场结构存储技术

介绍分析了近场存储基本原理和现状，对实现磁光近场存储的一种新方法－磁光超分辨近场结构的应用原理、最新进展及发展方向进行了综述。     

新一代磁光材料及器件研究进展

磁光材料是典型的多功能材料,其应用频率覆盖了射频、微波、毫米波、THz波和光波段,是一类优秀的全波段材料.首先对磁光材料发展的动态进行了分析;其次就磁光材料应用于磁光盘、光纤通信器件、THz器件等进行了讨论;最后,对作者课题组的一些新的研究工作做了介绍,以期能对这一领域的发展起到促进作用.     

光功能材料

介绍了几种典型的光功能材料，并对激光材料、非线性光学材料、光记录材料的研究进展及应用开发进行了综述。     

Ce掺杂对TbFeCo材料磁光性能影响的研究

采用射频磁控溅射方法制备了TbFeCo非晶磁光薄膜，并在TbFeCo中引入轻稀土元素Ce，测试了薄膜的磁光性能。研究了薄膜成分对其磁光性能的影响。结果表明；在TbFeCo薄膜中掺入少量Ce时，薄膜的磁光克尔角及矫顽力都有所提高，矩形度也增加了。但随Ce掺入量的增加，薄膜的磁光性能发生恶化，较好的掺杂在10.31?左右。     

磁记录和磁光记录材料及其发展

本文介绍了磁记录和磁光记录方式及其原理,磁记录及磁光记录材料的特性、制法和应用,以及在当代信息社会的重要作用和发展前景。     

稀土法拉第磁光玻璃研究新进展

稀土法拉第磁光玻璃是一种新型的功能材料,因其各向均匀性好、磁光性能优异、成本低廉而在光纤通信和传感等领域有着广阔的应用前景.介绍了磁光玻璃法拉第效应的基本原理;讨论了稀土离子种类及其浓度、基质玻璃、入射波波长、电子有效跃迁波长和绝对温度对法拉第磁光效应的影响;总结了磁光玻璃的制备方法和当前磁光玻璃研究中存在的问题.     

磁光薄膜在椭偏测量中的应用

由费尔德常数大的石榴石磁光薄膜制成的磁光调制器具有体积小，驱动功率低等优点，将它应用于椭偏测量中，可以降低对激光器输出光强稳定性的要求，测量准确度也会得到较大的提高。     

SmDyFeCo磁光薄膜的磁特性研究

采用射频磁控溅射方法制备了ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压，溅射功率对ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜磁特性的影响。实验表明，和ＤｙＦｅＣｏ非晶薄膜相比，ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶薄膜的矫顽力Ｈｃ随温度变化更为缓慢，并且具有更大的垂直磁各向异性常数，因而具有更好的记录特性，本征磁光克尔角可达０．３１，可以作为一种实用化的磁光记录介质。     

计算机辅助Bi-YIG磁光薄膜材料设计的专家系统研究

分析了Bi-YIG磁光薄膜材料生长及其性能特点,着重介绍了计算机辅助设计的专家系统在这一领域的应用——Bi-YIG,磁光薄膜材料的设计及性能预测。     

SOI光电子集成

SOI（Silicon-on-Insulator)光电子集成已成为十分引人注目的研究课题，其工艺与CMOS工艺完全兼容，可以实现低成本的SOI基整片集成光电子回路。本文综述了近几年来SOI集成光电子器件的发展以及一些最新的研究进展，着重分析几种最新型光无源器件的工作原理和结构，包括SOI光波导、SOI光波导耦合器、SOI光波导开关、相位阵列波导光栅（PAWG）、基于SOI的光探测器等，并介绍了中国科学院半导体所集成光电子国家重点实验室的研究进展。     

电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响

采用射频磁控溅射法制备了非晶TbFeCo薄膜及其保护层AlN薄膜，并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响。结果表明，AlN薄膜可以增强薄膜磁光效应，同时，AlN薄膜对TbFeCo磁光薄膜的矫顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响。其原因来自于溅射过程中N和Al原子对TbFeCo薄膜表面的轰击而导致的界面特性的改变。     

新型掺钆铁石榴石磁光薄膜材料

对新型掺钇石榴石磁光薄膜材料的制备工艺、磁光特性及理论分析进行了较全面的评述，并指出今后研究的方向。     

离子掺杂钇铁石榴石磁光材料研究进展

综述了钇铁石榴石型磁光材料的研究进展,以及通过离子掺杂提高单晶和薄膜材料的比法拉第旋转角、改善材料温度稳定性以及近年来受到重视并有望在磁光器件中得到广泛应用的低成本钇铁石榴石纳米晶/有机分散介质复合薄膜材料的研究进展与存在的问题,概述了目前实际使用中的磁光法拉第转子材料的应用情况,并展望了高性能磁光材料的发展。     

非晶硅液晶光阀

本文介绍反射式非晶硅液晶光阀的研制方法，并对其光电性能进行了研究，提出非晶硅液晶光阀的参数设计模型。