三元合金的电沉积—1972～1978年间的发展(上)

本文评论性地回顾了1972～1978年间自水溶液中电沉积三元合金及其实际应用的文献,尤其是关于合金类型和镀液的特性。这些合金分属两个标题下讨论:磁性合金和非磁性合金。后者又分为(a)含有第三种金属的(Ⅰ)Ni—Co,(Ⅱ)Ni—Fe,(Ⅲ)Ni—Cu,(Ⅳ)Ni—Sn,(Ⅴ)Fe—Co以及(Ⅵ)Sn—Co的三元合金;(b)其它合金。它表明从所研究的各种基本镀液中可镀取组成范围颇宽的合金。本文分析了合金的耐蚀性、硬度、显微硬度和结构;讨论了各种镀液中添加剂对沉积层的组成和性能的作用;也讨论了磁性和阴极材料对磁性、电流效率和极化的影响。从这些合金镀液中镀取的三元合金薄膜有很大的工业价值,尤其对计算机和电子工业是如此。并能用作装饰和防护性镀层。     

防止不锈钢还原气氛高温变色镀层的研制

通过大量试验,研制成功一种新型的镀镍溶液。结果表明,这种新型的镀镍溶液具有优良的电化学性能,极低的镀层内应力,采用这种工艺在不锈钢(1Crl8Ni9Ti)上镀镍可有效地防止其在高温(900℃)氢气气氛下变黑和镀层起泡。实验中比较了两种不同添加剂镀液的电化学性能,包括均镀能力、深镀能力和阴极电流效率等,并测定了镀层的内应力,分析其原因与影响。     

浅析节镍镀层的前景

一在电镀行业中防护装饰性电镀一直占有很大的比重,这一领域的研究也最为活跃。防护装饰性镀层的选择,不同时期各有侧重。早先多以镀镍为主,随着镍资源紧缺(尤其在第二次世界大战后),寻找节镍镀层的研究发展极为迅速。镀铜、镀合金等工艺得到推广应用,并占据一定的市场。在和平环境下,镍矿的采集、冶炼又得到发展;电镀技术方面双层镍(或多层镍)、微孔铬、镍铁合金等工艺相继问世;各种镀镍光亮剂、整平剂开发应用,镀层镍用量减少,耐蚀性提高,各种镀镍,镀镍基合金技术发展很快,节镍镀层渐渐提得少了,发展也趋平     

电沉积非晶态合金镀层磁性的控制

磁性元件薄膜化促进了磁性镀层的开发与应用。综述了镀液及镀层成分、电沉积工艺、镀层厚度及热处理对电沉积非晶态镀层性能的影响，以便在实际应用中控制非晶态合金镀层的磁性。     

镍基合金镀层的研究现状

电镀镍层具有良好的耐蚀性、耐磨性和装饰性,电镀镍基合金及其复合镀层能够进一步提高电镀镍层的综合性能,受到了广泛的研究和应用。综述了脉冲电镀和超声波搅拌对镀层性能的影响,介绍了电镀镍基合金及其复合镀层的研究现状和发展趋势。     

Nd-Ni-Fe-SiC复合电沉积工艺的研究

运用电沉积法制备含稀土Nd的Ni-Fe-SiC复合镀层,研究了Fe2+/Ni2+的摩尔比、Nd(NO3)3的质量浓度、镀液中SiC的质量浓度、电流密度、镀液温度等因素对镀层硬度和沉积速率的影响规律,确定了复合电镀的最佳工艺参数为:Fe2+/Ni2+的摩尔比0.10,Nd(NO3)35.5～6.5mg/L,SiC11g/L,3A/dm2,55℃。性能测试表明:该工艺下得到的Nd-Ni-Fe-SiC复合镀层具有良好的综合性能。     

RC型电镀镍铁合金工艺

以柠檬酸盐为络合剂的电镀镍铁合金只能用阴极移动作搅拌,不能用空气搅拌。能用空气搅拌的 RC型电镀镍铁合金工艺在国内尚属首次在生产上应用。它是以 RC 镍铁稳定剂络合铁离子并抑制镀液中三价铁离子的增长。它的特点是镀液中铁离子浓度低而能获得含铁量高的镀层。镀层均匀,允许电流密度大,生产效率高,容易获得不同铁含量的镀层。镀层全光亮,整平性、韧性、防腐蚀性能均良好。RC 本身稳定性好,比柠檬酸盐消耗慢,还可用于阴极移动吊镀及滚镀镍铁合金。     

新型化学镀镍工艺

介绍了一种新型化学镀镍工艺.分析了各单因素及组合方案对镀速、镀液稳定性及镀层性能的影响.结果表明,使用组合光亮剩的镀液镀速高,稳定性好,获得的镀层孔隙率低、耐蚀性好、硬度高.     

添加剂对喷射电沉积纳米晶Co-Ni合金的影响

在氯化镍-硫酸钴体系电解液中采用添加剂喷射电沉积纳米晶Co-Ni合金,测定了其阴极极化曲线.研究了添加剂对阴极过电位、电流效率、镀层中Co含量、镀层的相结构、晶粒尺寸、表面形貌及显微硬度、软磁性能等影响.结果表明:添加剂增加了极化作用,影响了Co、Ni电沉积的动力学过程.当添加剂为2.5g/L时,与未加添加剂相比较,阴极过电位从3.594V增大到4.755 V,电流效率和沉积层中Co含量变化不大,但沉积层晶粒尺寸从12.8 nm明显降低到5.5 nm,维氏硬度从423升高到511,同时Co-Ni合金的软磁性能得以提高.     

ZY—03型高磷化学镀镍工艺研究

采用工业级原料,研究开发了ＺＹ－０３型高磷化学镀镍工艺。试验重点考察了镀液各组分及工艺条件对镀速及镀层耐蚀性能的影响,并测试了镀液的使用寿命及镀层性能。     

ZY─03型高磷化学镀镍工艺研究

采用工业级原料,研究开发了ZY—03型高磷化学镀镍工艺。试验重点考察了镀液各组分及工艺条件对镀速及镀层耐蚀性能的影响,并测试了镀液的使用寿命及镀层性能。     

单因素法筛选氨基磺酸电镀镍添加剂

为得到综合性能良好的镍镀层,用氨基磺酸盐型镀液为基础镀液,以镀层结合强度、气孔率、沉积速率和光亮度等性能为评判标准,通过单因素实验法筛选综合作用良好的添加剂。与B#、C#、D#、E#、F#相比,A#对综合性能的改善效果最理想。另外,为了保证既能达到目的,又不浪费材料。此外,电流密度作为电镀过程的一个重要工艺参数,它不仅影响电镀镍的光亮性,而且影响着电镀镍的沉积速率和镀层形貌。综合可得,添加剂A#添加量为A2,电流密度为2 A/dm2时,所得综合性能较优。     

深孔镀镍工艺及其添加剂

提出深孔、盲孔零件如电池壳等电镀镍工艺及镀液配方，研制成功ＢＨ－光亮剂和ＢＨ－深镀剂。同时对镀液和镀层性能进行了测试。     

镀液中金属离子浓度比对化学镀Ni-Co-P薄膜的形貌及磁性能的影响

采用化学镀法在硅基底上直接施镀了Ni-Co-P磁性薄膜,通过调整镀液中金属盐浓度比控制镀层中镍、钴含量,优化薄膜软磁性能。采用SEM、EDAX、XRD和VSM研究了镀液中不同的镍、钴浓度比对薄膜形貌、成分、厚度、镀速、结构和磁性能的影响。结果表明：化学镀Ni-Co-P薄膜由瘤状Ni-Co颗粒组成,镀态的Ni-Co-P镀层由非晶相构成。随着镀液中Co²⁺浓度的增加,镀层中Co元素的含量增多,Ni元素的含量降低,但镀层的镀速减缓,当镀液中Co²⁺含量过高时,施镀非常困难,而镀液中金属盐浓度比对镀层中非金属元素P的沉积量影响不大。Ni-Co-P合金薄膜的饱和磁化强度随着镀层中Co元素含量的增加有上升趋势,矫顽力同时呈现下降趋势。当镀液中c(Ni²⁺)∶c(Co²⁺)=2∶3时,制备的Ni-Co-P镀层软磁性能最好,其饱和磁化强度达到820 emu/cc,矫顽力仅为4 Oe。     

镍-纳米二氧化钛复合镀层的制备及性能

以多孔泡沫镍为基体,通过在瓦特镀镍液中复合电沉积,得到Ni-TiO2复合镀层.研究了阴极电流密度、pH、时间、镀液中纳米TiO2质量浓度及分散剂种类对Ni-TiO2复合镀层的TiO2含量、表面形貌及光催化性能的影响.通过正交试验得到最佳工艺条件为:TiO2质量浓度10g/L,pH=4.0,阴极电流密度30 mA/cm2...     

无铅无镉光亮化学镀Ni-P合金

研发了一种无铅无镉的化学镀镍新工艺,以两种新型稳定剂复合使用替代铅和镉,确定稳定剂SY-2的最佳用量为4 m g/L镀液在6周期仍保持清澈透明,具有良好的稳定性;镀速在0~6周期之间为27~21μm/h,镀层磷质量分数为5.6%~9.0%,所得镀层光亮、硬度高、孔隙率低,具有良好的结合力和耐腐蚀性。该工艺镀液稳定性和镀层性能在一定程度上已超过了有铅有镉工艺,完全可以作为含铅、镉化学镀镍的替代品。     

柠檬酸-酒石酸盐无氰镀铜工艺研究

研究了一种柠檬酸-酒石酸盐无氰镀铜工艺,通过正交试验确定的最佳工艺条件为:碱式碳酸铜55g/L,柠檬酸260g/L,酒石酸钾钠32g/L,碳酸氢钠1.5g/L,光亮剂(二氧化硒和三乙醇胺)0.02g/L,pH为9.0,温度35°C,电流密度为1.5A/dm2,阴、阳极面积比为1:2,时间8min。镀液和镀层的性能测试结果表明:镀液稳定,镀液分散能力为84.52%,镀液覆盖能力为4.5,工艺得到的镀层达到二级光亮以上,镀层结晶细致、均匀,镀层结合力良好、孔隙率低,可作为碳钢制品的装饰性镀层和续镀其他金属或合金的底层或中间镀层。     

电镀镍中间体对酸性化学镀镍的影响研究

在由26.8g/L NiSO_4.6H_2O、150 mL/L BH-320B和30mg/L稳定剂组成的酸性化学镀镍液中,研究了电镀镍用中间体ATQM、SSO3、MPA和DEP对沉积速率、镀层性能和镀液稳定性的影响。结果表明,ATQM和SSO3可作为化学镀镍液的促进剂,MPA和DEP可用作化学镀镍液的光亮剂。此外,MPA和SSO3还对化学镀镍液起辅助稳定剂的作用。镀液中不同添加剂的存在对镀层结构无明显影响,所得镀层均为非晶态结构。     

氰化镀液电镀全光亮,高整平的铜锡合金新工艺

铜-锡合金/铬镀层优良的抗蚀性,已为50～60年代我国装饰性电镀领域中广泛应用所证明,铜-锡合金/镍/铬多层电镀经研究证明,其防护、装饰性至少不亚于双层镍/铬镀层。但是,过去的电镀铜-锡合金工艺,只能获得无光的镀层,镀后必须抛光,不能在自动线上一步法生产,所以为了实现光亮电镀,电镀工作者进行了大量研究,也取得过一些成就,例如采用二价锡盐的氰化镀液,可镀出比较光亮的铜-锡合金镀层。可是,整平能力不够,不能直接镀装饰铬,直接镀镍也很困难,因而未能在行业中大规模应用。我们经过长时间研究,采用二种相辅相成的添加     

电沉积制备铁-镍因瓦合金的工艺研究

采用硫酸盐镀液体系,在紫铜箔上电沉积制备了Fe-Ni合金镀层,研究了镀液成分(如镀液中添加剂含量.Ni2+/Fe2+浓度比)及主要的沉积工艺参数(包括阴极电流密度、温度和搅拌速率)对镀层表面质量、成分及组织的影响.镀液成分及最佳工艺参数为:0.3 mol/L NiSO4·6H2O,0.08 mol/L FeSO4·7H2O,2g/L糖精,0.35 g/L 1,4-丁炔二醇,电流密度3.7 A/dm2,施镀温度40℃,搅拌速率200 r/min.