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相似文献
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1.
报道了一种大功率无衬底N-GaAlAs/P-GaAs:Si单异质结红外发光二极管的制造工艺和主要光电特性。该器件在50mA工作电流下,输出功率典型值7.5mW,最大功率11mW。  相似文献   

2.
报道了高亮度GaAlAs/GaAs双异质结红色发光二极管的制作和实验结果。该器件在20mA工作电流下,最大发光强度约500mcd。  相似文献   

3.
罗海荣 《半导体光电》1995,16(4):343-347
报道了高亮度GaAlAs/GaAs双异质红红色发光二极管的制作和实验结果。该器件在20mA工作电流下,最大发光强度约500mcd。  相似文献   

4.
5.
罗海荣 《半导体光电》1992,13(2):130-133
报道了影响用于红外控制技术和红外遥控技术的光源——GaAs 红外发光二极管性能参数的二个重要因素:(1)液相外延生长;(2)欧姆接触。此外,还报道了该器件的主要电光参数,给出了 P-I、V-I 特性曲线以及发射光谱曲线。  相似文献   

6.
本文用DLTS谱仪和单脉冲瞬态电容技术测量了光通信用GaAlAs/GaAs双异质结发光管中的深能级,对有源区掺Si和掺Ge的相同结构器件,均测得有多子陷阱存在,其能级位置分别为E_C—E_D≈0.29eV和E_T—E_V≈0.42eV。比较了外延系统中氧含量变化对有源区掺Si器件深能级的影响,以及有源区EL图象中的DSD与深能级关系,结果表明外延系统中氧含量对深能级有明显影响,而EL图象中DSD的出现率与深能级无明显关系。  相似文献   

7.
1引 言激光二极管线阵是固体激光器抽运系统的一种基本元件。研制和生产二极管线阵的复杂性在于,它是含有50~100个单条或多条激光结构的集成单块器件,它的总宽度约为10mm。仅在所有条状激光器输出特性高度均匀时才能得到功率大于100W的激光线阵,不然的话,由于异质结构参数的局部不均匀性、腔镜或组装缺陷,以及电流抽运达100A时,一  相似文献   

8.
陈佰军  黄劲松 《半导体光电》1997,18(2):110-112,129
报道了用有机/聚合物薄膜材料制备的双异质结发光二极管。器件结构为:玻璃衬底/ITO/PVK/AlqPBD/Alq3/Al电极。在这种结构器件中,电子和空穴分别从Al负电极和ITO正电极中注入,产在PBD及PVK中传输注入到Alq3发光层中。器件在正向偏压为4V时有绿色光输出;在正向偏压为10V,最大亮度可达3000cd/m^2以上。经光谱测试,电致发光峰值波长为523nm。  相似文献   

9.
本文应用普适参数紧束缚方法计算了GaAs/Si异质中界面组成、键能、自然键长、力常数以及键的弛豫等性质.由键能和力常数推断As和Ga原子均能在界面处与Si原子成键,但Si-As键更强一些,考虑到Si和Ga原子在界面的互扩散作用,提出了界面层的可能生长机理.作者认为界面层应由SiAs和GaSi组成的膺合金Ga_xA(?)_(1-x)Si构成,根据价带极大值随组分x的变化,指出x的范围处在0.1~0.6之间.由键的弛豫效应预示x的最佳范围在0.1~0.3之间.由此设想,通过控制组分,有可能使由晶格畸变产生的界面应力减至比较小,从而为消除因晶格畸变产生的应力缺陷给出了理论依据.  相似文献   

10.
根据任务的要求,研制了掺 Zn 自扩散 GaAs-GaAlAs 单异质结发光二极管,其典型值:功率 P≤1mw(DC 100mA),峰值波长λ_p=8900~9100,谱线半宽△λ≤350,截止频率 f_c≥15MH_2(DC100mA,20mA,M20%)(详见本刊79年第,2期),用透镜封装之后其发散角小于2度,35℃下加速老化试验,可获得4万小时的寿命。性能指标满足了任务的要求,提供了一定数量的样管,也用于测距和光通信。  相似文献   

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12.
采用MOCVD技术在φ40mmGaAs衬底上研制成大功率GaAs/GaAlAs单量子阱激光器。该激光器激射波长为830~870nm,室温CW阈值电流密度小于350A/cm~2,最低值为310A/cm~2,输出光功率大于200mW/(单面,未镀膜)。  相似文献   

13.
14.
熊光骏 《半导体光电》1993,14(1):7-12,24
描述了 Ge_xSi_(1-x)/Si 异质结长波长红外探测器的基本工作原理及结构,并结合器件介绍了实现异质结生长的各种工艺,如 MBE,CVD 等。  相似文献   

15.
首次报导了一种改进结构的P^+Ge0.3Si0.7/P-Si异质结内光发射长波长红外探测器在77K下的电学特性和光学响应特性。  相似文献   

16.
<正>利用能谷间电子转移效应的Gunn二极管问世已二十余年,至今仍是微波,尤其是毫米波领域中最主要的有源器件之一.但是传统的Gunn二极管在短毫米波范围使用时,由于载流子以“冷”态随机地进入有源区,因而存在“死区”,使短毫米波器件中有源区的利用率明显降低,造成效率下降;而且这种随机分布的“冷”电子转变为“热”的畴电子过程中带来的噪声  相似文献   

17.
由于可以把Si集成电路和GaAs光电子器件集成在一块电路上的广阔应用前景,而使人们对si上异质外延GaAs产生了浓厚的兴趣,但si和GaAs的晶格常数和热膨胀系数失配,GaAs/Si产生高的位错密度和微孪晶,由于这个原因,很难获得高质量的外延层及用这种材料生产优质的光电子器件,为了减少缺陷,研究缺陷的性质及其成因是很有意义的。已有很多人对GaAs/Si的微孪晶进行了研究,如吴小京等做出了微孪晶的结构模型,谢强华等观察到微孪晶的不对称分布,而对微孪晶的的形成机理还未见报  相似文献   

18.
基于作者提出的改进应力分布力学模型得到了计算半导体异质结多层结构应力分布的公式.针对带缓冲层GaAlAs可见光激光器计算得到的有源层应力可以很好地解释Shimizu等有关器件寿命的实验结果.分析并指出了一些文献中处理半导体异质结多层结构应力问题的不合理之处.  相似文献   

19.
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