基于人工神经网络的氮化锆薄膜颜色预测模型

建立了氮化锆薄膜制备工艺参数与薄膜色度参数之间的人工神经网络预测模型，结果表明，预测结果与实测结果吻合，最大色差在5．45以内。利用所建立的模型研究了单个参数对薄膜颜色的影响规律，及多参数间交互作用与薄膜颜色的关系。并且利用神经网络根据加工要求反向预测工艺参数，从而实现了对加工参数的优化选择。     

氮分压对ZrN薄膜结构及颜色的影响

采用直流反应磁控溅射法,通过改变反应气体N2分压(5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%),在SiO2/Si(111)基片上制备ZrN薄膜。利用XRD、SEM、EDS分析了薄膜的物相、结构、形貌以及成分,使用分光光度计测量了薄膜的反射光谱,并进一步确定了薄膜颜色在L*a*b*色度坐标中的位置,研究了氮分压对薄膜颜色的影响,以及ZrN薄膜颜色与薄膜成分、结构之间的关系。分析结果表明:在不同的氮分压下,ZrN薄膜具有较好的成膜质量;随着氮分压的增加,薄膜沉积速率降低、N含量增加;薄膜结晶度先升高后降低、且在氮分压为10%时,薄膜出现(111)的择优取向;薄膜颜色随薄膜成分结构的改变而发生明显的变化(颜色由银色向金色、暗金、深褐色以及非本征颜色转变)。当反应气体N2分压较低时,分压的增加使得锆与氮更容易键合,导致薄膜中N含量增加,使ZrN结晶度增大并出现择优取向。当N2分压超过10%后,薄膜中多余的氮处于晶格的间隙位置,使得薄膜晶格间距变大且结晶度降低,薄膜成分结构的改变导致了薄膜颜色的变化。     

离子镀锆,氮化锆的耐蚀性研究

采用多弧离子镀技术在１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ表面涂覆Ｚｒ、ＺｒＮ涂层，通过Ｘ－射线衍射物相分析，可知ＺｒＮ涂层由单相ＺｒＮ（ｆ．ｃ．ｃ）组成，且有较强的（１１１）面择优取向，采用塔菲尔曲线相交法，测定了涂层在两种介质中的腐蚀电流。用室温全浸泡试验，测定了涂层在２０％ＨＣｌ和２０％Ｈ２ＳＯ４溶剂中的腐蚀速率，并在扫描电镜下观察了涂层腐蚀后的表面形貌，测量了涂层的力学性能。结果表明，Ｚｒ膜的耐蚀性明显优于     

直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响

用直流溅射方法制备氮化锆薄膜，其晶体结构，氮原子组分以及电阻率都与溅射气氛中氮气分量有直接关系。用X射线衍射分析薄膜结构，随氮气分量由5％至30％增加，玻璃衬底上的氮化锆薄膜首先呈(111)和(200)两主要生长取向；然后(200)取向逐渐消失，只有(111)单个优化生长取向；最后，没有衍射峰出现，薄膜趋于无定型结构。     

直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响

用直流溅射方法制备氮化锆薄膜,其晶体结构,氮原子组分以及电阻率都与溅射气氛中氮气分量有直接关系。用X射线衍射分析薄膜结构,随氮气分量由5％至30％增加,玻璃衬底上的氮化锗薄膜首先呈(111)和(200)两主要生长取向;然后(200)取向逐渐消失,只有(111)单个优化生长取向;最后,没有衍射峰出现,薄膜趋于无定型结构。     

氮化锆薄膜色度特性与工艺参数研究

制备了ZrN薄膜，通过采用二次正交旋转组合试验设计方案，建立了薄膜颜色和氮气浓度、靶功率与镀膜时间的数学模型，给出了各参数对薄膜颜色的影响趋势。经模型寻优，求出了在不同目标色度坐标下的最优参数组合方案。     

尿素法制备纳米氮化锆粉体

利用尿素为固体氮源, 通过尿素分子与ZrCl₄、ZrOCl₂·8H₂O无机锆盐发生络合反应得到Z-U和ZO-U两种ZrN陶瓷的前驱体, 两种前驱体在较低温度下热裂解都可以得到ZrN陶瓷粉体。使用FT-IR对前驱体分子进行了结构分析, 采用TG-DTA跟踪了前驱体的热裂解过程, 并通过XRD和SEM对最终热裂解获得的ZrN产物进行了表征, 探讨了不同锆源制备前驱体的热裂解反应历程及其对产物ZrN的影响。结果显示: 结晶水的存在对络合反应有较大影响, 从而造成两种前驱体分子结构上存在较大差异; 尽管热裂解反应历程相似, 由于前驱体分子结构不同, 获得的ZrN粉体在纯度和形貌上存在较大差异; Z-U前驱体更容易得到纯度高的ZrN纳米粉体。     

氮分压与衬底温度对光透明材料氮化锌的影响

采用射频磁控溅射方法,在Ar-N2混合气中Si衬底上生长Zn3N2薄膜。研究了氮分压和衬底温度对样品的光透明性、微结构、表面形貌以及光学性质的影响,同时研究了样品在空气氛围下保持20天后的性能,并与新镀薄膜进行比较。结果表明,Zn3N2薄膜直接光学带隙可由氮分压调节的范围为1.18~1.50eV,氮分压比例增大,薄膜的光透明性减弱,并且对暴露在空气中20天以后的薄膜进行测试发现,薄膜的光透明性明显增强,随着衬底温度的升高,生长的薄膜择优取向增多,晶粒尺寸逐渐变大。     

氮化铜薄膜的研究

氮化铜(Cu_3N)薄膜是一种新型的电、光学材料,它具有典型的反三氧化铼结构,由于Cu原子没有很好地占据(111)晶格面的紧密位置.在薄膜中掺杂之后,薄膜的电、光学性质会发生显著变化.Cu_3N在较低温度下会分解为Cu和N_2.介绍了Cu_3N的制备方法,总结了该膜制备方法和工艺参数对薄膜结构的影响,分析了在不同N_2分压下薄膜由(111)晶面转向(100)晶面择优生长和薄膜定向生长的原因,讨论了薄膜的电学、光学、热学等物理性质及其在相关方面的应用,并对该膜的物理性质与结构之间的关系作了简要分析.     

氮化碳薄膜的耐腐蚀性和热稳定性研究

本文研究了氮化碳薄膜在氮氟酸，氢氟酸加硝酸混和酸中的抗腐蚀作用。     

分压力质谱计校准装置的性能测试及校准实验

介绍了分压力质谱计校准装置的性能指标,并用分压力质谱计校准装置校准了一台四极质谱计,给出了灵敏度、图样系数、线性、质量刻度、分辨本领等校准结果,还研究了气体之间的相互影响.     

直流反应磁控溅射法淀积ZrN薄膜

采用直流反应磁控溅射法淀积ＺｒＮ薄膜，发现在晶向硅片上ＺｒＮ薄膜按晶向生长。控制生长工艺可以获得ＺｒＮ晶向的外延生长膜。     

直流反应磁控溅射法注积ZrN薄膜

采用直流反应磁控溅射法淀积ZrN薄膜发现在（100）晶向硅片上ZrN薄膜按（111）晶向生长，控制生长工艺可以获得ZrN（111）晶向的外延生长膜．     

过渡金属氮化物防扩散阻挡薄膜研究

用“S”枪磁控反应溅射制备TiN、ZrN和三元化合物(Ti、Zr)N薄膜。这些薄膜的电阻率在40～190μΩ·cm范围。它们与n~+型硅的接触电阻在10~(-3)～10~(-6)Ω·cm~2量级;与P型硅的接触电阻为10~(-3)Ω·cm~2量级。与n型硅形成的肖特基势垒高度为0.39V。TEM分析显示三种氮化物薄膜均为多晶结构。RBS、SAM和XRD的分析都表明TiN和ZrN薄膜作为防止铝/硅互扩散阻挡层所能承受的最高温度是600℃,(Ti、Zr)N为550℃。     

取样管道对分压力质谱分析的影响

时长管道取样分压力质谱分析的物理过程和管道对分析结果的影响进行了研究。建立了扩散方程，得到了质谱室被分析气体的分压力任意时间的分析解。认为质谱室中被分析气体的分压力随时间呈复杂的指数关系。在相当长时间后，质谱室中的被分析气体的分压力趋于稳定值。由于管道效应，在质谱室中被分析气体和空气的分压力比变为Ｎ倍，这个Ｎ和气体分子的质量有关。在分析时间较短时，该比值还与质谱室的抽速、分析时间、管道长度有关。当气体趋于稳定时，可以不考虑时间和长度效应。气体趋于稳定时间ｔｃ＝ｍａｘ（３ｌ２／Ｒ０ｖπ２，２τ）。     

氮气压对自蔓延高温合成AlN后烧的影响

研究了氮气压力对自蔓延高温合成AlN的影响和后烧机理.结果表明,自蔓延高温合成AlN的生长机制为气相-晶体(Vapor-Crystal,VC)机制.气相沉积的台阶平面为AlN的基面({0001)面).为了降低表面能,生长台阶必须以六棱柱形态形核.在后烧阶段,AlN颗粒中心的小台阶被重新"蒸发",并沉积到远离中心的大台阶上,使AlN颗粒棱角分明,形状规则.随着氮气压力的增加,燃烧温度逐渐提高,后烧的时间缩短.     

铸铁偏析的彩色金相学研究

彩色金相技术是识别和鉴定金属中不同相的有力手段。鉴于目前彩色金相技术尚不能对材料的成分或成分偏析进行定量分析，将彩色金相技术与电子探针分析相结合，考察铸铁中硅含量与彩色金相颜色之间的变化规律。结果表明，彩色金相可以清晰地显示出铸铁中硅的偏析形貌及不同热处理条件下硅偏析程度的变化，并发现在铸铁彩色金相组织中两点之间的色序差与硅元素偏析度之间存在半定量的对应关系，即每一个色序差对应一定范围的偏析度，从而探索出用彩色金相技术半定量地分析铸铁中硅元素偏析的方法。     

四极质谱计在高压力下的测量方法

四极质谱计是一种分压力测量仪器,其线性上限一般为10-3Pa。通过对影响四极质谱计测量上限的因素进行分析,得到高压力下的分压力计算方法,并通过实验验证了该方法的可行性,得出的结论对高压力下四极质谱计的应用具有一定的参考价值。     

四极质谱计定量分析的研究

一般认为，用作真空残气分析的四极质谱计是很难进行定量分析的。通过对四极质谱计测量过程的理论分析，指出了用四极质谱计获得可靠的定量结果的条件及由此产生的分析方法和限制因素。重点分析了四极质谱计的稳定性、线性、灵敏度、分辨本领。同时指出了实现四极质谱计定量分析可能的努力方向。     

基于可靠度分析的再生混凝土材料分项系数

为研究再生混凝土强度变异性对再生混凝土材料分项系数的定量影响,以普通混凝土受弯梁为参照,保持目标可靠指标不变,分别设定再生混凝土的强度均值,标准值和设计值与普通混凝土相同,分析了三种情况下的再生混凝土的材料分项系数和强度设计值的取值。分析结果表明,上述三种情况下,当再生混凝土的强度变异系数大于普通混凝土强度变异系数时,为保证再生混凝土梁受弯时的可靠指标达到现行规范目标可靠指标,其所需配筋率依次降低,所需再生混凝土配合比设计强度依次增加。当再生混凝土的强度变异系数小于等于0.15时,取均值相同时的C30、C40再生混凝土的材料分项系数为1.41和1.35,标准值相同时为1.43和1.41,设计值相同时为1.45和1.41,都可以保证再生混凝土梁的受弯可靠指标达到现行规范的要求。