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相似文献
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1.
最近,由于电子和离子束曝光机、布线机在大规模集成电路制作方面具有极为重要的用途,使得电磁复合聚焦一偏转系统象差理论的研究发展非常迅速。而传统的电磁复合聚焦-偏传系统的象差理论大多只研究了  相似文献   

2.
本文对透镜后偏转和透镜中偏转的两种静电聚焦一偏转复合系统的三级几何象差和一级色差进行了数值计算。计算结果表明,在匹配弯曲轴的情况下,这种复合系统有可能获得较小的偏转象差,同时本文也给出了判断复合系统中聚焦场与偏转场真正匹配的某些判据。  相似文献   

3.
本文全面分析了偏转系统采用图案型偏转轭的磁聚焦静电偏转型摄象管的各种象差,详细讨论了减小象差,提高摄象管分辨率的途径.  相似文献   

4.
聚焦偏转复合系统像差分析及应用   总被引:3,自引:0,他引:3  
介绍了以DX-3扫描电镜为基础,利用SDS-2电子束扫描系统改装其偏转系统。并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴点源的三级几何像差系数和一级色差系数公式。应用中表明,复合系统结构简单紧凑,像差小而可以不用动态校正。  相似文献   

5.
在电子束聚焦和偏转系统中动态修正方法(即用场曲校正透镜和消象散器来消除偏转场曲和象散)可以相当显著地减小系统的总象差和提高系统的电子光学性能。本文讨论了动态修正的计算问题:包括场曲校正透镜和消象散器的工作原理;校正透镜和消象散器电磁场分布的计算;完全消除场曲和象散在校正透镜和消象散器上所加信号强度的计算;以及校正透镜和消象散器对畸变的影响。通过文章给出动态修正计算的实例可见动态修正对提高系统的电子光学性能起着很大的作用。  相似文献   

6.
以静电极板为电子束曝光机偏转负载,用双通道扫描原理进行扫描,并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由SDS-3电子束曝光机试验结果表明,复合静电偏转可以达到磁偏转相似的像差水平。  相似文献   

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8.
本文讨论了由于电磁透镜中电极和极靴加工的误差(孔径椭圆度和端面倾斜)造成电子束系统电子光学性质影响的数值计算问题,包括用有限元法计算具有孔径椭圆度和端面倾斜的透镜中电磁场的分布,电子轨迹方程和像差积分式等。最后给出了用所编制的计算机程序计算的若干个加工误差效应的实例。  相似文献   

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本文从电子在理想均匀静电场中的运动方程出发,推导出了三级几何象差的公式。所得结果不但可用来估算点束或成形束的畸变、象散、和场曲彗差量,而且可用来选择偏转器的初始尺寸和确定对中偏差所造成的影响。本文还指出了前人工作中存在的一些错误。  相似文献   

11.
本文从理想均匀静电场偏转系统三级几何象差的公式出发,导出了由两对互相垂直的偏转板组成的平行平板偏转系统的三级几何象差公式。这些公式不但可用来快速估算偏转象差,还可用来作为校验数字计算程序的理论模型。从水平和垂直方向偏转象散和场曲的影响应相同这一要求出发,提出了一种优化设计方法。在给定偏转区总长度和两对偏转板之间的距离后,可以计算出每对偏转板的最佳长度。文中给出了设计数表,并比较了平行平板偏转系统和八极偏转系统的优缺点。  相似文献   

12.
以SDS-3电子束曝光机为基础,用折板结构静电偏转替代直板结构静电偏转,探讨了电子束曝光机折板静电偏转场的电子轨迹与电位分布应满足的要求。导出了折板静电偏转灵敏度与电位分布之间的关系,给出静电偏转像差方程及像差系数。用矢量描写电子轨迹,以积分式表示像差系数,给出了折板结构方程与参量。像差系数适应计算机辅助运算。结果表明,折板结构静电偏完成的图像像差明显优于原直板结构静电偏。提供了静电折板偏转与直板偏转的相关计算数据及摩尔栅条纹图。  相似文献   

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14.
本文讨论了透镜和偏转器在电子束系统中不对中装配造成的电子光学性质影响的数值计算问题,包括推导出不对中的透镜和偏转器在系统中的电磁场表示式,电子轨迹方程及象差积分式等。根据这些公式所编制的计算机程序已用来计算了若干个实例,从中可见不对中误差效应的数值计算对于设计和装配电子束聚焦偏转系统起到指导性的作用。  相似文献   

15.
引言摄象管采用磁聚焦能够将电子束会聚成束扩散极小的细小光点,因此容易获得高分辨率。但是在磁聚焦场中,电子束偏转不可避免地使电子束产生螺旋状扭转,因而严重地降低了摄像管的性能。本文的目的是了解电子束的扭转运动,以改善摄像管中由于扭转运动而引起的一些特性,如光点和光栅畸变,电子束着靶误差等等。为了消除电子束偏转后的扭转运动,采用了“双重偏转”技术,双重偏转的计算结果与实验测试结果相一致,这一技术保证了电子束正确地着靶。  相似文献   

16.
本文提出两种形式的多极静电偏转器偏转象差的简单计算方法。通过合理选择多极静偏器的调节参数,获得了在16个象差系数中只有9项积分运算的偏转象差系数公式。它们没有光轴电场强度分布的二阶导数,因而计算精度高。  相似文献   

17.
一、引言 近年来,随着高亮度离子源的出现,微米、亚微米聚焦离子束装置迅速发展起来。其应用范围也不断扩大,包括:扫描离子显微镜、二次离子质谱仪、集成电路的掩模版的修理、无掩模注入以及离子束曝光等等。本文就这类装置,特别是用于离子束曝光等要求在较大扫描范围内得到足够小束斑的系统进行探讨。  相似文献   

18.
本文提出了一种用系统本身预偏转和主偏转象差相抵消来消除电子光学场曲的方法。采用解析函数近似表示系统场分布和电子轨迹,对象差进行了理论分析和解析计算,表明在一定条件下,可以完全消除复合聚焦偏转系统的彗差和横向色差,并使场曲达到极小。由设计实例可见,该系统在10×10mm~2扫描范围内,场曲仅为0.013μm。  相似文献   

19.
电子束扫描式扁平显像管中,电子束基本要偏转数次后上屏.本文用曲光轴聚焦理论分析了扁平显像管的偏转系统,包括正交场偏转扫描和电极推动扫描方式.文中给出了电子运动所在的电场分布的级数表达式.由变分方程出发,给出了偏转时曲光轴坐标中的高斯轨迹方程,并对方案进行了计算机模拟,分析了各种因素对于偏转电子束的影响.  相似文献   

20.
彩色显像管中,电子束经偏转系统偏转后在屏的边角处的尺寸比中心部分尺寸大。为了解决偏转散焦,日本松下公司推出了DAF枪。然而随着HDTV的发展,电子束束流和偏转角都越来越大,此时仅靠调节动态聚焦电压不能完全补偿过聚焦以及大束流下空间电荷效应的影响。本文研究了大束流、大偏转角情况下造成偏转散焦的原因,提出在调节动态聚焦电压的同时适当改变电子束进入主聚焦透镜的入射角,从而改善电子束经偏转后的上屏质量。  相似文献   

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