铈对化学镀Co-Ni-P合金薄膜结构及磁性的影响

利用等离子发射光谱仪、电子能谱仪、X-射线衍射仪和振动样品磁强计等分析了Ce对化学镀Co-Ni-P合金层成分、结构和磁性能的影响.结果表明:随镀液中ρ(Ce)的增加,化学镀Co-Ni-P镀层中的Ce、Co和Ni含量有所增加,P的含量则相应降低;镀层由非晶态Co-Ni-P合金镀层转变成了具有微晶、晶态结构的Co-Ni-P-Ce合金镀层.稀土Ce的加入提高了镀层的饱和磁化强度和矫顽力,降低了剩余磁化强度.     

化学镀CoWP薄膜的制备及磁性研究

利用化学镀的方法制备了CoWP磁性薄膜。研究了施镀时间对化学镀CoWP薄膜矫顽力和饱和磁化强度的影响,并利用场发射扫描电子显微镜(FSEM)、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了CoWP磁性薄膜的表面形貌、成分、微结构及磁学性能。结果表明,化学镀CoWP薄膜主要为hcp结构Co相,晶粒大小为2~3μm;随着施镀时间的增加,CoWP薄膜的饱和磁化强度也随之增大,最高达到122emu/g;CoWP薄膜的矫顽力都在250Oe以下。通过计算Kelly-Hankel(δM)曲线,证实了CoWP磁性薄膜中存在交换耦合作用,产生了剩磁增强效应。     

磁控溅射法制备铁氧体薄膜的磁性能研究

采用溶胶-凝胶法制备纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体,并将该粉体制成靶材.采用磁控溅射法在单晶硅基底和玻璃基底上沉积镍锌钴铁氧体复合薄膜,并对其进行磁性能研究.研究结果表明:镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合薄膜具有较好的软磁性能;在相同的溅射条件下,两种基片上的薄膜的矫顽力都较小,但硅基片上薄膜的饱和磁化强度较玻璃基片上的大,软磁性能更好;经后退火处理,薄膜的饱和磁化强度得到明显地提高,软磁性能得到改善.     

Ni-Co-P/SiC纳米复合粉体化学镀机理及其电磁性能

以SiC为原材料,以KNaC4H4O6为络合剂、(C2H3O2)2Pb为稳定剂,用化学镀方法,在Ph 9～10,65℃条件下,将纳米SiC表面处理制得Ni-Co-P/SiC纳米复合粉体.用X射线衍射及能谱分析了镀层的组成并提出了其化学镀机理.用波导法测定了Ni-Co-P/SiC复合粉体的电磁参数,用振动样品磁强计测试了样品的磁性能.结果表明:Ni-Co-P/SiC颗粒表面的Ni-Co-P镀层由非晶态Ni-Co-P及微晶态α-Co,500℃热处理后该表面镀层转化为晶态的Ni3P,Ni和β-Co.当Ni2 与Co2 的摩尔比为0.88,H2PO2-与(Ni2 Co2 )的摩尔比为0.95时,镀液有足够的还原能力和良好的稳定性,Ni-Co-P镀层有较高矫顽力和较好的电磁参数,此时SiC颗粒表面Ni和Co的质量分数分别为9.4%和11.5%.     

玻璃纤维化学镀Ni-Co-P合金工艺的研究

研究了玻璃纤维表面化学镀Ni-Co-P合金镀液中主要成分间的摩尔比、pH值、温度以及施镀时间等工艺参数对化学沉积Ni-Co-P合金镀层成分及镀速的影响.结果表明:最佳的施镀温度为50℃,pH值为9～10,镀液中各主要成分间最佳摩尔比为Co2 /(Ni2 Co2 )=0.45,H2PO-2/(Ni2 Co2 )≤2.6,Na3C6H5O7/(Ni2 Co2 )=1.5,Na3C6H5O7/NH 4=0.4.用X射线能谱仪和扫描电镜对镀层进行了分析和表征,在最佳工艺条件下,镀液的稳定性高、镀速快、镀层外观较好.     

纳米碳纤维化学镀镍-铁-钴-磷合金镀层

在铁片试样上研究了化学镀Ni-Fe-Co-P合金镀层的工艺,利用此工艺在经过敏化、活化处理后的纳米碳纤维表面沉积出Ni-Fe-Co-P合金镀层。采用能量色散X射线谱(EDS)分析得出镀层成分,利用扫描电子显微镜(SEM)观察镀层形貌。结果表明,镀层的沉积速率随镀液中氯化镍质量浓度的增加而增加,随硫酸钴质量浓度的增加而降低;通过控制镀液中c(Co2 )/c(Ni2 )的比值,可控制沉积速率及镀层中镍、钴元素的相对含量;镀后的纳米碳纤维分散性好,获得了连续、均匀的Ni-Fe-Co-P合金镀层。     

玻璃纤维表面化学镀镍-钴-磷合金

采用化学镀的方法,在碱性镀液中以(NH4)2SO4作为缓冲剂,NaH2PO2作为还原剂,NiSO4和CoSO4为主盐在玻璃纤维表面制备了镍-钴-磷(Ni-Co-P)合金.用扫描电镜、X射线能谱、差示扫描量热法、X射线衍射等分析手段表征镀层的性能.研究发现:三元络合剂显著改善镀液的稳定性和镀层的形貌.综合考虑镀层速率、镀液的稳定性与镀层的电阻率,选择摩尔比n(H2PO2-)/n(Ni2 Co2 )=2～2.5为宜.化学镀Ni-Co-P合金层玻璃纤维的热稳定性好,适宜的工作温度范围为:常温～180 ℃.当镀层中磷的质量分数为8.1%～23.6%时,镀层为典型的非晶结构.化学镀Ni63.2Co16.5P20.3合金的晶化过程为:Ni→Ni Ni5P2→Ni Ni5P2 Ni12P5 Ni3P→Ni Ni12P5 Ni3P.镀层合金为软磁性材料,导电玻璃纤维的磁损耗很小,介电损耗很大,是一种典型的电损耗材料.     

硫酸钴浓度对电沉积Co-W-P薄膜结构与磁性能的影响

在20#钢基体上电沉积Co-W-P薄膜，并研究镀液中硫酸钴浓度对Co-W-P薄膜的结合强度、结构、成分、厚度和磁性能的影响。结果表明：Co-W-P薄膜与20#钢基体结合紧密，随着硫酸钴浓度从5 g/L增至25 g/L,Co-W-P薄膜的结构和物相无明显变化，但平均晶粒尺寸呈现先减小后增大的趋势，Co元素的质量分数呈现先升高后降低的趋势，导致不同Co-W-P薄膜的致密性和磁性能存在差异。当硫酸钴浓度为15 g/L时，Co-W-P薄膜的平均晶粒尺寸仅为40.6 nm,Co元素的质量分数达到64.19%，具有最大的矫顽力（932 A/m）和饱和磁化强度（100.7 A·m2·kg-1），其结构致密并且展现出良好的磁性能。在一定范围内硫酸钴浓度的增加，降低了成核过电位，使晶粒细化且结合紧密，同时提高了钴还原沉积效率，使Co元素的质量分数升高。研究表明：晶粒细化、致密性改善以及磁性元素的协同作用进一步提高了Co-W-P薄膜的磁性能。     

镁合金化学镀Ni-Co-P合金镀层的研究

在AZ31B镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金镀层。通过正交试验研究了制备Ni-Co-P合金镀层的镀液配方及工艺条件。得出最佳镀液配方及工艺条件为:硫酸镍25g/L,硫酸钴25g/L,次磷酸钠22g/L,柠檬酸三钠70g/L,氟化铵40g/L,碘化钾0.001g/L,十二烷基苯磺酸钠0.05g/L,pH值8.0,温度80℃,时间2h。采用最佳的镀液配方及工艺条件,沉积速率较快,制备的Ni-Co-P合金镀层表面形貌较好,与基材结合较牢,耐蚀性较好。     

工艺因素对氨基磺酸盐电镀的影响及优化

针对镍钴镀层抗拉强度不能满足工业需求的问题,为改进氨基磺酸盐镀液的电镀工艺,采用电化学工作站、电子万能试验机、显微硬度计、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)等测试方法,设计正交试验,研究温度、主盐浓度和电流密度等因素对电镀反应极化曲线、电化学动力学参数、电镀层抗拉强度、硬度、晶体结构及表面形貌等性质的影响;通过对抗拉强度进行正交和单因素分析,优化得到了最佳实验方案。结果表明：镍盐浓度对电极交换电流密度j⁰有显著正影响,相应j⁰值范围是0.002 mA/dm²～1.640 mA/dm²;钴盐浓度对析氢副反应有负影响,可降低析氢效率至0.3%;工艺因素对于抗拉强度和硬度的影响程度分别是：温度>钴盐浓度>电流密度>镍盐浓度和温度>电流密度>钴盐浓度>镍盐浓度;优化结果：当氨基磺酸镍400 g/L、氨基磺酸钴30 g/L,温度为50℃,电流密度为3 A/dm²,其抗拉强度达到853 MPa,维氏硬度为234 HV;温度对氨基磺酸盐电镀体系的性...     

粉煤灰漂珠/镍-钴-磷磁性复合材料的制备与表征

采用化学镀法制备得到漂珠/Ni-Co-P磁性复合材料.研究了Ni2+和Co2+的摩尔比、NaH2PO2.H2O浓度和pH对镀层成分及镀覆速率的影响,得到漂珠表面化学镀Ni-Co-P合金的最佳工艺为:n(Ni2+):n(C02+)=1:1,NaH2PO2·H2O 0.20 mol/L,pH=9.0.利用扫描电镜、能谱仪、...     

稀土La对化学沉积Co-Ni-B合金镀层成分和性能的影响

研究了镀液中La的质量浓度对化学沉积Co-Ni-B-La合金镀层各组分质量分数以及合金镀层显微硬度的影响。比较了化学沉积Co-Ni—B合金镀层与化学沉积Co-Ni-B-La合金镀层的磁化强度、剩余磁化强度和矫顽力。结果表明：随着镀液中L丑的质量浓度的增加，化学沉积Co-Ni-B-La合金镀层中Co和La的质量分数呈现先增后降的趋势，在ρ（La）为0．8g/L时达到最大值，分别为91．46％和0，31％；而Ni和B的质量分数则随ρ（La）浓度的增大而呈现先减后增的趋势，在ρ（La）为0．8g/L时达到最小值，分别为4．59％和3．64％。合金镀层的显微硬度随着镀层中稀土含量的增加．而增大，在P（La）为0，8g/L时，显微硬度达到最大值，为605HV。两种镀层的磁化强度对比表明，稀土能够提高镀层的饱和磁化强度，降低剩余磁化强度和矫顽力，故含La镀层显示出良好的软磁性能。     

化学镀Co-Ni-P合金薄膜化学成分的考察

考察了影响化学镀Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ合金薄膜化学成分的因素,镀液中ｃｃｏ＾２＋／（ｃｏ＾２＋ｃＮｉ＾２＋）的比值越高和总金属离子浓度越低,薄膜的钴含量越高,镍和磷的含量越低。较高的ｐＨ值和较厚的薄膜会提高薄膜的钴含量,降低镍含量,磷元素倾向于偏聚在晶界上。     

化学镀镍溶液中Al~(3+)、Ti~(4+)和Cr~(3+)杂质对镀层性能的影响

为了研究化学镀镍液中Al3+、Ti4+和Cr3+三种杂质元素对镀层性能的影响,分别在化学镀Ni-P合金的基础镀液中引入了不同含量的杂质,制备了化学镀镍层,并通过扫描电镜、弯折试验及中性盐雾试验分析测试了镀层表面形貌、结合力及耐蚀性。结果表明,化学镀镍溶液中Al3+、Ti4+和Cr3+三种杂质均使镀层结合力和耐蚀性下降。     

次磷酸钠对锌–镍合金电沉积和镀层耐蚀性的影响

在乙酸盐-铵盐体系电镀锌–镍合金镀液配方中添加次磷酸钠,以45钢为基体电沉积锌–镍–磷合金。通过循环伏安法和小槽电镀实验研究了pH、温度和电流密度对镀层成分的影响,采用扫描电镜、能谱、X射线荧光、X射线衍射等技术对镀层形貌和微观组织进行表征,采用Tafel极化曲线和电化学阻抗谱对镀层的耐蚀性进行测试。结果表明:在不含主盐的基础镀液中,次磷酸钠的P不能被还原出来,而次磷酸钠与Zn²⁺、Ni²⁺共存时有助于Ni的沉积,对Zn的沉积无明显影响;温度升高则镀层中Zn减少,Ni和P增多;降低pH有利于锌–镍共沉积;镀层的P含量随电流密度增大而减少。P元素的掺入能完全消除锌-镍合金的裂纹,细化镀层晶粒。低P含量(P质量分数低于1%)的锌–镍–磷合金镀层具有比高P含量(P质量分数大于10%)的镀层更好的耐蚀性。     

化学镀非晶态Co-Ni-P薄膜磁性的研究

化学镀Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜镀态下为非晶态结构,Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜的矫顽力较低,矩形比较高,其易磁化方向与膜面垂直。薄膜越厚,矫顽力越高,矩形比越低;镀液的ｐＨ值越高,矫顽力越高;当以化学镀Ｎｉ－Ｐ合金作为中间镀层时,可获得较高的矫顽力和矩形比。     

化学镀钴-镍-磷合金镀层沉积速度的探讨

化学镀钴－镍－磷合金镀层具有良好的磁学性能,正日益受到人们的青睐。由于沉积速度往往对镀层性能产生很大影响,在此重点了影响化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的各因素。结果表明,提高镀液中金属离子总浓度及镍盐所占的比例,在ＰＨ为８￣１０范围内加入适量的稳定剂及采用活性强的基材有利于化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的提高。     

电沉积制备Co-Pt-Mo磁性薄膜

通过电沉积方法在铜基底上制得Co-Pt-Mo磁性薄膜。通过对镀液的循环伏安分析,确定了合适的沉积电位。研究了pH值对薄膜的成分、表面形貌、结构以及磁性能的影响。结果表明:随着pH值的增大,薄膜中Co的质量分数从26.9%逐渐增加到63.8%,矫顽力与比饱和磁化强度分别从0.3kA/m和189kA/m增加到24.1kA/m和1 283kA/m。     

温度对化学镀Co-W-P合金镀层性能的影响

研究了温度对化学镀Co-W-P合金镀层的厚度、成分、表面形貌、耐蚀性和磁性能的影响。结果表明:适当升高温度有利于提高镀速和增加合金镀层的厚度,但当温度高于90℃时,镀液容易发生分解。随着温度的升高,合金镀层中钴的质量分数逐渐增大,而钨和磷的质量分数迅速降低,使得镀层的耐蚀性降低。Co-W-P合金镀层呈现出典型的颗粒结构,表面均匀、致密。高温下合金镀层表面粗糙度增大,使得矫顽力明显下降。     

化学镀制备Co-Pt-Mo合金镀层

采用化学镀制备Co-Pt-Mo合金镀层,研究了pH值及温度对镀层表面形貌、成分和磁性能的影响.结果表明:随着pH值的升高,镀层中钴的质量分数增加,致使镀层的比饱和磁化强度增大;温度对镀层的成分及矫顽力并无影响,但是温度过高时反应速率过快,致使镀层表面出现“孔洞”.