PACVD TiN，Ti（C，N）和TiC涂层的研究

研究了在生产条件下采用具有脉冲直流辉光放电的PACVD工艺进行TiN，Ti(C，N)和TiC涂层，分析了在切削钢时其有关的成分及投入生产的情况。总的来说采用这种工艺进行涂层的硬质合金与普通的CVD工艺涂层相比，完全具有可比性。     

化学气相沉积TiC-Ti（CN）-TiN涂层在硬质合金拉丝模上应用研究

用化学气相沉积法(CVD)在硬质台金拉丝模上沉积TiC—Ti(CN)-TiN耐磨涂层，经工业试验表明涂层具有硬度高、摩擦系数小，与基体粘附性强、化学稳定性好和耐磨等优良性能。涂层拉丝模比非涂层模提高使用寿命1～4倍。     

LD1模具材料沉积TiN涂层的最佳工艺

通过ＬＤ１模具材料多种参数沉积ＴｉＮ涂层的研究,得到一个最佳ＬＤ１钢ＴｉＮ涂层工艺,即在工件偏压,炉压一定的情况下,最佳的沉积温度和沉积时间,对提高ＬＤ１钢模具的表面质量和使用寿命具有重要的实际意义。     

化学气相沉积TiC-Ti(CN)-TiN涂层在硬质合金拉丝模上应用研究

用化学气相沉积法（CVD）在硬质合金拉丝模上沉积TiC－Ti（N）-TiN耐磨涂层，经工业试验表明涂层具有硬度高、摩擦系数小、与基体粘附性强、化学稳定性好和耐磨等优良性能。涂层拉丝模比非涂层模提高使用寿命1～4倍。     

硬质合金刀具表面化学气相沉积TiC过程的控制

分析了硬质合金刀具化学气相沉积TiC涂层的基本工艺和设备,应用S7-200实现沉积过程反应物流量、温度等参数的可靠控制。应用表明,组建的S7-200控制系统精度高,能实现硬质合金TiC涂层的重复沉积,并通过PLC的程序控制,能较好的复现优质涂层的沉积工艺,实现对硬质合金刀具基体表面质量的改性控制。     

多弧离子镀TiN涂层在冲孔冲模上的应用

采用多弧离子镀法在螺帽冲孔冲模上进行了ＴｉＮ涂层处理，并对涂层的显微硬度、耐磨性能、失效形式进行了分析和讨论。结果表明，ＴｉＮ涂层冲头使用寿命比未涂层冲头可提高５倍。ＴｉＮ涂层膜和一定厚度的高硬度的过渡层显著提高了冲模的耐磨性能和抗冲击疲劳性能。     

物理气相沉积（PVD）TiN，TiCN和TiAlN涂层硬质合金刀具的车削性能

在WC-6wt％Co硬质合金刀片上沉积离子镀PVDTiN、TiCN涂层和高离子化溅射PVD TiAlN涂层。描述了涂层和基体的显微特征和力学性能。在以高低切削速度车测铬镍铁合金Inconel 718、中碳钢SAE 1045和球磨铸铁中对涂层刀具进行了测试。TiAIN涂层刀具显示出最好的金属切削性能，其次是TiCN和TiN涂层刀具。TiAIN涂层刀具优良性能在较高速度下更加突出．它与冷层较高的耐磨性和抗月牙洼磨损能力有关。这些特点是在TiAIN车削使用时刀尖通常遇到的温度下具有较高的红硬性和抗氧化性的结果。     

TiC中间过渡层对硬质合金表面沉积（类）金刚石的影响

采用ＣＨ４－Ｈ２－Ｏ２微波等离子体化学相沉积法在硬质合金表面沉积金刚石薄膜，研究了ＴｉＣ中间过渡层对金刚石沉积效果的作用及粘结机理，结果表明在相同沉积条件下ＴｉＣ中间过渡层可以显著提高硬质合金表面沉积金刚石薄膜的生长速率，而且还可提高金刚石薄膜与基体的结合力。     

纳米晶Ti(CN)基金属陶瓷的研究

对纳米晶Ti(CN)基金属陶瓷进行了初步的研究;与较粗Ti(CN)基金属陶瓷相比,纳米Ti(CN)基金属陶瓷表现更加均匀的球形结构;由于细化的结构和强化的粘结相,纳米结构金属陶瓷具有不同的韧化机理,其断裂韧性要比微米金属陶瓷提高50%。     

化学气相沉积制备硬质合金刀具涂层研究进展

化学气相沉积技术(CVD)广泛应用于硬质耐磨涂层的生产中,该类涂层可大大提高硬质合金工具的耐磨性和寿命。综述了CVD涂层技术在硬质合金切削刀具中的应用研究进展,首先介绍了CVD涂层技术的原理及其发展历程;其次阐述了模拟计算方法(相图计算、流体力学计算、第一性原理计算、相场模拟、机器学习等)在CVD涂层中的应用;再次介绍了CVD涂层的沉积实验及结构和性能表征方法;最后列举了几种典型的硬质合金刀具用CVD涂层,以期为高性能涂层的智能设计、智能集成和智能研发提供新的思路:即把多尺度计算模拟、科学数据库和关键实验集成到硬质涂层开发的全过程中,通过对成分-工艺-结构-性能进行关联分析,将耐磨涂层的研发由传统经验或者半经验方式提升到科学的微结构智能设计上,以实现基体与涂层微结构调控和性能的协同优化,获得最佳的综合性能。     

等离子体增强化学气相沉积制备的ZnO薄膜研究

鉴于ZnO薄膜材料的多功能性,用等离子体增强化学气相沉积方法在金属Cu和普通玻璃上生长了ZnO薄膜.扫描电子显微镜获得其表面形貌;能谱分析获得其元素种类及相对含量,在能谱图上明显地观察到了Zn峰和O峰的存在,且Cu基上Zn和O原子比接近1∶ 1;X射线光电子能谱分析得出样品中的Zn和O全部以化合态存在而不存在Zn原子和O原子.但Cu基上的ZnO薄膜易吸收空气中的氧和水蒸汽,薄膜质量期望通过生长合适过渡层得到改善.     

空心阴极离子镀沉积Ti(CN)的最佳工艺参数及其耐磨性能研究

运用正交试验法进行了空心阴极离子镀（HCD）沉积Ti（CN）最佳工艺参数的研究。采用反应气体总分压、乙炔气与氮气的分压比及烘烤温度作为试验的三个变化的因素。比较了Ti（CN）、TiN及TiC的耐磨性能，结果表明Ti（CN）膜比TiC、TiN膜性能更优异。用X射线衍射（XRD）分析了Ti（CN）膜层的相结构及组成。     

化学气相沉积钨涂层的研究现状与进展

化学气相沉积钨涂层具有工艺简单、技术成熟度高、涂层综合质量优异等特点,广泛应用于国防、航天、核工业等领域。首先介绍了化学气相沉积钨涂层的原理和特点,重点讨论了化学气相沉积钨涂层的工艺及应用研究现状,包括化学气相沉积钨涂层微观组织控制工艺及在耐辐射、耐磨耐蚀和高温防护领域的应用,同时对新型化学气相沉积钨涂层技术的发展进行了展望。一是改善现有工艺存在的反应气源与反应产物毒性大等问题,满足绿色环保的发展要求;二是改善现有工艺存在的沉积温度高、沉积速率偏低等问题,实现在不同衬底表面的高效、高质量沉积;三是改善现有化学气相沉积钨涂层结构与功能单一等问题,满足构件对钨涂层高性能和多功能的需求。     

PCVD法在模具钢表面沉积Ti(CN)涂层的研究

应用PCVD技术，以金属有机物钛酸丙酯(TPT)代替TiCl4作钛源，在H13模具钢表面沉积Ti(CN)涂层，研究了不同工艺参数对涂层组织和性能的影响。试验结果表明，采用适当的沉积温度、压力及氮气流量，可以在H13钢表面得到以Ti(CN)为主的致密涂层，显著提高模具的表面硬度和使用寿命。该结果在实际应用中取得了良好的效益。     

CH3SiCl3-H2前驱体化学气相沉积法制备SiC涂层

目的 在石墨基座表面制备碳化硅(SiC)涂层,提高其抗氧化性和耐蚀性。方法 采用化学气相沉积(CVD)法在高纯石墨基体表面制备SiC涂层,结合热力学分析、SEM、XRD等分析测试方法,分析了SiC沉积过程中气相平衡组成在不同H₂/MTS物质的量比时随温度变化的关系,研究了工艺参数对涂层沉积速率和组织形貌的影响,探讨了SiC涂层择优取向的形成机制。结果 随着沉积温度升高,SiC沉积过程中主要含碳和含硅中间产物发生转变(CH₄→C₂H₂,SiHCl₃、SiCl₄→SiCl₂)。涂层沉积速率随温度升高而快速增大,受表面化学反应控制,此时β-SiC易沿着(111)晶面生长,从而形成<111>择优取向。随着沉积温度升高,涂层平均晶粒尺寸增大,同时晶粒尺寸的差异性增强,导致涂层表面粗糙度增大。当H₂/MTS物质的量比较大时,单位体积内的MTS浓度降低,进而导致涂层沉积速率下降;随着H₂/MT...     

碳含量对Ti(CN)基金属陶瓷力学性能的影响

研究了Ti(CN)基金属陶瓷的碳含量对其物理力学性能的影响。结果表明 ,在一定范围内 ,随着碳含量的减少 ,Ti(CN)基金属陶瓷的矫顽磁力、钴磁和硬度降低 ;而抗弯强度则明显增高。     

Preparation and Anti-Oxidation Properties of Ti(CN) Films Deposited by P CVD

THE PLASMA-assisted chemical vapor deposition(PCVD)technique is industrially important because itis the coating process available at low temperature(<600°C)like PVD,favorable for mass-production andsuitable for complex-shaped tools due to its goodstep-coverage characteristics"'21.Therefore,TiN-basedfilms have been extensively prepared by PCVD for thepurpose of increasing the service life of cutting tools,forming tools and die molds.HC1,by-product of the common usedTiCl4-H2-N2-Ar ga…     

化学气相沉积法制备同轴核壳结构CNTs@SiC的电磁特性研究

以Si单质和功能化多壁碳纳米管(CNTs)为原料,采用化学气相沉积法(CVD)制备了CNTs@SiC同轴核壳结构复合吸波剂。CNTs@SiC的一维管状核壳结构有利于提高材料的介电性能和调节阻抗匹配性能,并能有效提高CNTs的初始氧化温度。Si与CNTs质量比是影响此复合材料电磁特性的关键参数,当m(Si) : m(CNTs) = 1:1.5时,复合材料有最好的吸波性能,当其厚度为1.7mm时,反射率小于-10dB所对应的有效带宽达到4.8GHz;当m(Si) : m(CNTs) = 1:2时,材料在X波段有最好的吸波效果,有效带宽达3GHz。所制备的CNTs@SiC复合材料不仅在常温下具有宽频强吸收的特点,其独特的一维管状核壳结构有望使材料在高温环境下仍具有优异的吸波性能。