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用于卫星地面站的14千兆赫、1千瓦耦合腔行波管和30千兆赫、800瓦耦合腔行波管已研制成功,14千兆赫的行波管采用设计得轻巧、紧凑的永磁聚焦装置,并在整个14.0~14.5千兆赫的频带内给出1千瓦输出功率。30千兆赫行波管采用螺旋管线包聚焦并在整个2.5千兆赫瞬时带宽范围内提供800瓦功率输出。这两只管子均为风冷式。在特殊情况下,为了冷却管体,30千兆赫行波管采用几段热导管。 相似文献
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《真空电子技术》1978,(1)
据美刊《微波杂志》报导,日本正在研制一种双极功率晶体管(Power Bipolar Transistor),有可能代替地面站和卫星应答机中用的行波管。在这种阶梯电极晶体管(Stepped Electrode Transistor)中,低结温度使之获得高的可靠性。长期和加速寿命试验表明,其无故障平均工作时间超过10~6小时。NEM4205是该系列的典型管子,采用20伏电源,在4.2千兆赫频率下产生5瓦功率,增益为4分贝,效率为25%。NEM4203,在4.2千兆赫频率下功率达3瓦,增益为5分贝,在50℃环境温度下,结点温度只为120℃。利用7只 NEM4203晶体管研制出一种三级放大器,在4千兆赫卫星频带内给出12瓦功率,功率增益为11~13分贝,带宽为240兆赫。 相似文献
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14千兆赫地面站行波管在继续进行X波段卫星行波管研制计划的同时,本部新近又承担了一项同类的计划,生产一系列用于新一代地面站的14千兆赫行波管。在CNET(国立通信研究中心)的资助下,此项计划已生产出三种新水平的行波管:2千瓦耦合腔管,它的20瓦激励管和具有极高增益的125瓦样管。 相似文献
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在日本名古屋大学等离子体研究所的NBT中正研究用150千瓦(18.5千兆赫,100千瓦,10.5千兆赫,30千瓦,18千兆赫,20千瓦)的微波源产生、加热、封闭等离子体。最近在JIPPT-Ⅱ中开始用32只35千兆赫,5千瓦,5毫秒的速调管作全功率160千瓦的电子回旋加热实验,而原子能研究所今年秋季从美国暂惜了28千兆赫回旋管作电子回旋加热实 相似文献
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微波功率晶体管近几年来的发展速度保持着迅速的步子。以5瓦连续输出功率晶体管为例,1962年频率为0.25千兆赫,1964年为0.5千兆赫,1966年为1千兆赫,1968年为2千兆赫,1969年计3千兆赫,1972年为4千兆赫,1973年可达5千兆5瓦。在不久的将来连续输出5瓦的功率管每1~2年可望提高1千兆赫。 相似文献
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一、引言随着通信信道的增加以及大功率空间通讯系统的发展,许多现代微波系统中都要求行波管能够同时提供宽瞬时带宽,高脉冲功率和高平均功率等性能。就目前来看,已研制的大功率行波管在1~18千兆赫的频率范围内的整个倍频程或全波导带宽内能给出500瓦到几千瓦的连续波输出。 相似文献
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已研制成功其频带中心效率为49%的栅控、周期永磁聚焦,X 波段耦合腔行波管——8741H。该管在300兆赫的带宽上提供的最小峰值输出功率为4千瓦,平均功率为1千瓦,并且在脉冲重复频率超过200千赫情况下工作可靠。高效率和高脉冲重复频率工作的要求就是此液冷、机载行波管设计参量选择的依据。本文进一步详细地讨论了这些特征。 相似文献
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N/A 《激光与光电子学进展》1977,14(10):29
已研制成一种D2O振荡-放大激光系统,它能产生12.7亳焦耳的脉冲,384.6微米处的峰值功率水平为195千瓦。测得带宽为70兆赫(半极大值全宽),效率为0.11%。 相似文献
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在一月份举行的日本电子通信学会半导体、晶体管研究会上,日本电气中央研究所发表了微波GaAsMESFET的研究结果.功率器件在6千兆赫下输出达25瓦,增益3分贝;低噪声器件在4千兆赫下噪声系数为0.7分贝,在12千兆赫下为1.68分贝.该所用内部连接的器件已实现了在6千兆赫下输出15瓦,为进一步提高输出功率,由提高集成度、增加FET的单位栅宽,即栅条长度而获得成功.为设计在10伏偏压下输 相似文献
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研制了一种C波段应用的60瓦连续波固体振荡器。它合成了6个高效率的多台面的砷化镓里德二极管的功率。单个二极管振荡器在5千兆赫下能给出高达13.3瓦的输出功率。 相似文献
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日本富士实验室由X波段IMPATT放大器的换算,设计和研制了环行器耦合的80千兆赫IMPATT放大器,在700兆赫1分贝带宽内输出功率为13.4分贝毫瓦。据该公司报导,电路包括片型二极管支持器和用于二极管和负载之间的阻抗匹配的一个可动波导短路器。 相似文献
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<正> 日本电气公司窄凹栅结构的低噪声 GaAsFET 已在12千兆赫下达到噪声系数1.68分贝,在4千兆赫下为0.7分贝。而三菱电机公司的缓变凹栅结构的封装器件在12千兆赫下最小噪声系数已达1.3分贝,未封装的芯片在16千兆赫下噪声为1.8分贝,在18千兆赫下为2.1分贝。功率 GaAsFET 目前三种不同的主要结构是:日本电气公司的缓变凹栅结构,富士通公司的源、漏下做 n~+层的结构和三菱电机公司的铜热沉上芯片倒装的结构。日本电气公司已达到6千兆赫,23瓦;8千兆赫,17瓦;18千兆赫,1.25瓦。三菱电机公司已达到15千兆赫,1.9瓦。 相似文献
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楼洁年 《固体电子学研究与进展》1982,(1)
本文详细叙述了7~10千兆赫2.5瓦pn结砷化镓功率崩越管简化的设计方法和研究结果.200℃结温下获得的最佳电性能为7.76千兆赫、振荡输出功率2.6瓦.效率19.3%.用本器件研制的注入锁定放大器已成功地取代微波通讯机中的行波管. 相似文献