低增益脉冲准分子激光阈值条件的研究

对于激光系统性能而言,激光工作阈值条件具有非常重要的意义。低增益、宽带脉冲 准分子激光的阈值条件和其激光泵浦脉冲有密切关系。在激光四能级系统速率方程的基础上,利用增益开关和Q开关的分析方法来研究低增益脉冲准分子激光阈值条件,给出了其在不同增益脉宽情况下一致的阈值条件。所得到的结论显示,在增益脉宽很短时,低增益准分子激光和连续激光的阈值条件完全不同,取决于时间积分增益系数要大于一临界值。     

低增益准分子激光阈值和最佳透射率的研究

低增益、宽带脉冲准分子激光阈值及最佳透射率条件和激光泵浦脉宽有密切关系.提出了以激光四能级系统近似模拟准分子激光跃迁辐射系统,在其速率方程的基础上研究低增益脉冲准分子激光阈值和最佳透射率的条件,并给出了其在不同增益脉宽情况下的统一的激光阈值和最佳透射率条件,所取得的结论在相应的实验研究结果中得到证实。     

在XeF（C—A）跃迁的反转波中将Nd激光二次谐波放大至10^5J的前景

本文讨论了在ＸｅＦ受激准分子Ｃ－Ａ跃迁上用光学激励反转行波放大激光器－激励器输出级中钕激光的二次谐波及其用于激光热核聚变的可能性。计算结果显示将输出能量放大至１０＾５Ｊ的现实可能性。     

准分子激光角膜手术研究

叙述了角膜手术对激光特性的要求，对准分子激光放切术（ＲＫ）和准分子激光消融术（ＰＲＫ）进行了实验研究。     

准分子激光放电回路的研究

对高压放电泵浦的准分子激光放电回路进行了探讨。运用等效电路方法，给出了准分子激光工作气体在击穿放电前后的电路变化规律，同时分析了能量转移效率与回路参数之间的关系，这为设计高效率和稳定可靠的准分子放电回路提供了理论上的参考依据。     

准分子激光光刻的发展状况

本文综述了准分子激光光刻的发展,着重讨论准分子激光光刻的优点及其在提高分辨率方面的进展,并讨论了今后的动向。     

准分子激光角膜切开术的实验研究

叙述了波长193 nm 的准分子激光作高质量角膜切开术的基本原理,用自制的 ArF 准分子激光器对动物眼进行了初步的放切实验研究,获得了满意的结果。     

准分子激光消融制备纳米材料的动力学研究

以XeCl准分子激光消融Al, Cu为例,分析了以准分子激光消融平面材料的动力学过程,从激光导致的材料温度场着手,分析材料从缺陷导致断裂并最终形成纳米材料的全过程。     

准分子激光对水松纸打标的研究

用适当能量密度的３０８纳米波长紫外激光对水松纸作用，获得了清晰可见的图案标记。分析了该打标过程的作用机理，通过实验得出了打标的能量阈值条件及优化条件。     

准分子激光直接刻蚀聚酰亚胺技术研究

一、引言随着大规模集成电路和集成光学的不断发展,对加工技术的要求越来越高,如目前提出图形的精细化,过程低温化,掺杂薄层化及可控性优化等,而准分子激光器则以它能量高、波长短(200～400nm)等优点为解决这些问题提供了有利条件。于是,八十年代开始形成了准分子微细加工新兴技术领域。准分子激光微细加工大体可分为激光曝光技术,激光CVD     

准分子激光心血管治疗机的研究

研制了一台准分子激光心血管治疗机（ＸｅＣｌ３０８ｎｍ），单脉冲能量：８０－２００ｍＪ，平均功率５Ｗ，重复频率：手动单次，１－１００Ｈｚ，单次充气工作寿命：＞１０６脉冲数，脉冲－脉冲的能量不稳定度３％，激光脉宽１５０ｎｓ，光斑发散角（半角）：１．８×０．６ｍｒａｄ，光纤耦合输出＞２０ｍＪ。     

ArF准分子激光光刻的研究现状

193nmArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点。作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用。     

准分子激光对铜版纸打标的研究

用308nm波长的准分子激光对铜版印刷纸打标，获得了精细可见的标记．分析了该打标过程的作用机理，通过实验得出了打标的能量密度问值，优选了打标的条件．     

准分子激光合成晶态C3N4薄膜机理研究

目前，科技工作者采用各种技术、方法试图合成晶态氮化碳（β-C3N4）材料，并在不同工艺条件下对氮化碳材料生长及表征进行了大量的研究．但由于对氮化碳薄膜生长过程缺乏系统的了解，对这种材料的生长规律的认识受到了限制．本工作对XeCI准分子激光溅射C靶并辅以氮气放电在不同工作气压和衬底温度下制备氮化碳薄膜过程进行了研究．采用拉曼光谱、X射线光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜、X射线衍射等手段分析了材料的性质，采用光学多道分析仪（OMA皿）对等离子体发射谱进行了分析，讨论了实验条件对材料键合特性的影响．实验中，Xe…