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目前,北京市技术监督局对市场上销售的移动式插头、插座、转换器质量进行了监督抽查,受检60多种移动式插头、插座、转换器只有5种合格,抽查合格率仅8.3%。其中,北京市生产的8种产品合格4种,外埠的52种产品仅有1种合格。随着家庭电气化的普及和办公自动化程度的提高,建筑物内原有的固定式插座已不能满足用户的需求,需要配备大量的移动式插头、插座及转换器。此外,出国人员及外国来华人员 相似文献
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该文提出了现行插头插座国家标准的6项修改建汉措施,每项建议措施均列出了修改原因分析、具体建议措施以及可行性分析,为进一步完善我国插头插座国家标准提供建议和思路。 相似文献
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总结近年来出口插头插座产品存型式试验过程中出现的质量问题,并结合相关的安全性能标准,阐明型式试验中常见的问题,分析了产生这些问题的原因,为企业的产品设计和生产过程提供指导。 相似文献
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基于对标准拔出插头试验的正确理解,分析常见电子产品输入电路设计中的X电容和放电电阻位置对测试结果的影响. 相似文献
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ULSI多层互连中W-CMP速率研究 总被引:1,自引:0,他引:1
随着IC制造技术进入到亚深微米时代,化学机械抛光(CMP)工艺成为ULSI多层布线的关键技术之一。分析了W-CMP的机理,抛光液对W材料表面具有化学腐蚀和机械研磨的双重作用,对抛光速率有着重要的影响。在分析了抛光液中各组分的作用基础上,重点研究了专用的氧化剂、磨料、pH值调节剂和抛光液流量对CMP速率的影响,优化配制了高速率、高平整的碱性W抛光液。实验证明,抛光液流量为150mL/min,V(硅溶胶):V(水)=1:1,有机碱为5mL/L,活性剂为5mL/L,H2O2质量浓度为20mL/L时,能够获得较高的抛光速率,并实现了全局平坦化。最后对W-CMP中存在的问题和发展趋势进行了分析和展望。 相似文献
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介绍了澳大利亚插头产品的法规要求及插头的型式、尺寸、参数和测试要点,分析了插头的电流额定值和配线之间的关系,强调了插销绝缘套的要求。对重要的试验项目,如弯曲试验、插销绝缘套的耐磨试验、温升试验、高温压力试验进行了说明。 相似文献
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本文针对航天航空等领域综合电子系统在小型化、一体化设计及信息综合利用等方面的需求,提出一种可动态重构的高速串行通信总线(UM-BUS),采用N(≤32)通道并发传输,通信速率可达6.4Gbps,采用总线型拓扑结构,最大通信距离40m,支持最多30个节点直接互连,具有远程存储访问能力,采用命令应答式协议提供QoS与实时性保证;通过并发通道相互冗余与动态重构,在允许50%性能降低的情况下,能够对N/2通道故障动态容错.在UM-BUS总线基础上,本文提出一种新型的"接入式"体系结构模型,在不改变系统逻辑结构的前提下,能够突破机箱结构限制,将逻辑功能分散嵌入到控制测量对象内部,实现功能模块"接入即用",使得综合电子系统一体化设计成为可能. 相似文献
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钨插塞化学机械平坦化(CMP)是极大规模集成电路(GLSI)铜互连多层布线的关键工艺之一。首先研究了钨在碱性条件下化学机械抛光机理;接着采用单因素实验方法分析了抛光液组分中纳米SiO2水溶胶磨料、氧化剂、有机碱(pH调节剂)和表面活性剂对W-CMP速率的影响。最后通过正交优化实验,确定抛光液最优配比为V(纳米SiO2水溶胶)∶V(去离子水)=1∶1,氧化剂体积分数为20 mL/L,pH调节剂体积分数为4 mL/L,表面活性剂体积分数为20 mL/L时,此时抛光液的pH值为10.36,获得的去除速率为85 nm/min,表面粗糙度为0.20 nm。 相似文献