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《电子工业专用设备》1993,(3)
<正> 总论 1992年硅周期发生了变化,半导体产业的开展不太明朗。但是,在技术方面,与其说是以批量生产和片子大直径化为目的,不如说是开发的焦点开始集中在工艺的高性能化、高精度化上,以便更适应器件微细化的发展。 相似文献
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半导体器件技术正继续札实地取得进展,今年开始小规模生产4M位的DRAM,再次出现了半导体制造厂家之间在技术方面、商业方面激烈竞争的状态。1M位的DRAM生产已达到顶峰,预计技术将更加成熟。 相似文献
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白荣宗 《电子工业专用设备》1991,20(1):59-62
<正> 近年来,随着大规模集成电路集成度的不断提高,其图形更加微细化。目前,已经达到0.5微米或0.5微米以下。在制造这种大规模集成电路的过程中,特别在光刻工艺的光刻设备内和检测过程的测试装置中,高精度的定位机构起着重要的作用。 例如,在形成微细图形时,广泛使用的缩小式投影光刻机和电子束光刻机中,承放硅晶片并移动的xy工作台的定位精度就决定着光刻图形的位置精度。 另外,在x射线光刻机中,光刻图形的位置精度也由定位机构的机械精度来确定。 为了高精度地形成大规模集成电路的图 相似文献
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赵伯林 《激光与光电子学进展》1987,24(7):15
本文阐述以非热效应为主的半导体激光治疗装置。把几毫瓦至几十毫瓦的激光照射到活体组织内的特别压痛点上,即中医所说的经穴上,就能够止痛,根据这一观点开发了本激光装置。在研制这种装置时,当然必须决定激光强度,由于光吸收强烈地依赖于波长,所以必须充分 考虑半导体激光器的选择问题。我们按照下列条件来选择半导体激光器,推出商品。 相似文献
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给出了一种基于单片机和SHT11温湿度传感器的太阳能半导体空调控制装置的设计方法。该控制系统性能可靠,结构简单,能实现对室内温湿度的自动调节。 相似文献
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松下电器产业和松下产业仪器公司根据光产业技术振兴协会的光技术应用计划,接受了光化学治疗用半导体激光治疗装置的委托研究,从一九九二年开始进行以治疗表皮癌为目的的半导体激光治疗装置的研究和开发。而且提前完成了装置的开发。该装置是在世界上首次把半导体激光用于癌的光化学疗法上,它发挥了能够获得稳定峰值波长的半导体激光的优点。另外,和准分子染料激光器相比,还有体积小,重量轻和廉价的优点。期望在表皮癌的早期治疗上发挥其威力。 相似文献
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在半导体器件制造最重要的工艺——曝光工序中,将掩模制作功能——图形发生器与重复照像、缩小投影曝光和光的直接作图曝光四种功能紧密地集中统一在一台装置上的“多目的半导体曝光装置TZ—310”开始出售了。 相似文献
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张荣康 《激光与光电子学进展》1985,22(10):47
东芝研制成光盘存储装置用的高功率半导体激光器TOL500。本产品除了能把最大输出30 mW的高功率激光稳定地聚焦成细束(束径1 μm,低于以往的2/3)外,用于光盘装置时,对介质可进行更高密度的记录,减少小坑有无的检测差错。由于单位面积的照射量大,能以较小的功率把信息写入光盘,并使可靠性得以提高。 相似文献
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对气体传感器性能的检测,将直接影响到传感器的质量,应用和发展,只有把气体传感器的各项参数精确的测试清楚,才能可靠的发挥其作用,该装置通过配气系统和计算机测试系统对气敏元件的各项参数进行检测,从而大大提高了检测气敏元件的精密度。 相似文献