影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题

7近几年来，镀膜玻璃在建筑行业以及装饰行业已经得到了广泛的应用。而磁控溅射镀膜因其具有高速、低温、低损伤等优点，已经成为真空镀膜技术的主要方式。适用于建筑玻璃镀膜的磁控溅射靶，就其形式有两种：平面靶和同轴圆柱形靶。本文就影响同轴圆柱型磁控溅射靶的溅射性能方面做以下探讨。1磁控溅射原理图1说明如下：电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氢原子发生碰撞，电离出Ar“并产生电子。电子飞向基片，Ar“在电场作用下加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉…     

磁控溅射镀膜技术的发展

磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展.非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象,消除靶中毒和打弧问题,提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率;改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域.     

磁控溅射镀膜用灭弧电路

为了解决无防弧功能的磁控靶三相整流直流电源在放电过程中电弧对磁控溅射镀膜工业化生产的影响,根据灭弧电路功能和电弧判别方法设计了三种类型的三相可控硅整流电弧电路,有效地抑制了该整流电源电弧造成的危害,大幅度提高了磁控溅射功能,改善了膜层的均匀性和一致性,提高了产品的成品率。     

磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计

磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一。对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题，固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善，但根本的问题在于整个系统，特别是靶的优化设计。本文简要评述了已有靶的典型设计及其特点；对靶分析和设计的通行方法，包括电磁场有限元、等离子体粒子模型及流体模型、以及设计过程中其它一些需要注意的问题作了讨论。鉴于国内目前在靶的分析设计方面与国际先进水平之间还存在着比较大的差距，希望能够引起有关方面的重视。     

聚酯振膜镀膜用磁控溅射设备

本文介绍了一种在PET材料上镀制Ni膜的磁控溅射镀膜设备的结构及特点,解决了PET材料无法在高温环境中镀膜的问题.具有操作方便、成本低、生产效率高、膜层质量好及膜层制备可重复性好等特点.在实际生产中取得了良好的效果,有广阔的应用前景.     

真空阴极磁控溅射镀膜的发展及其应用

本文主要论述了真空磁控溅射镀膜技术近年来国内外的发展状况及其前景,并探讨了该技术的优越性,着重研讨了塑料金属化及提高镀层质量的几项措施。     

ITO靶材的直流磁控溅射镀膜工艺研究

对ITO靶材的直流磁控溅射工艺进行研究,通过正交试验方法确定制备ITO薄膜的最优工艺参数,并明确了溅射温度、氧氩比、溅射气压和溅射功率密度对ITO薄膜电阻率和可见光透过率的影响规律。最优工艺参数为溅射温度370℃,氧氩比0.5/40,溅射气压0.4 Pa,溅射功率密度0.17 W/cm~2。薄膜电阻率受各因素影响的主次顺序是:氧氩比溅射温度溅射气压溅射功率密度。薄膜可见光透过率受各因素影响的主次顺序为:溅射温度溅射气压氧氩比溅射功率密度。     

基底的结构形态与磁控溅射织物导电性能的关系

通过磁控溅射方法使得金属粒子与织物结合在一起,制备导电织物。并对不同基材磁控溅射织物的导电性能测试,分析比较了涤纶针织布、涤纶机织物、纯棉机织物和纸板上溅射铜膜的导电性能。采用扫描电子显微镜(SEM)对织物进行表征,观察基底的表面形貌。研究了基布的连续性和致密性对导电性能和电磁屏蔽性能的影响。结果表明:不同的基底材料对磁控溅射镀膜织物的导电性能影响有一定的差异,基底材料结构越致密、表面越连续,其导电性能越好。     

小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究

本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响。偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响。这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据。     

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用"整体到部分,再到整体"这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。     

多模式输出磁控溅射镀膜电源技术研究

磁控溅射电源在镀膜领域有着广泛的应用。设计研制一种新拓扑结构的多模式输出镀膜电源,将高频PWM整流技术、全桥变换器与直流降压电路相结合;通过合理的时序控制实现直流溅射、单向脉冲、双向对称和双向不对称等四种溅射模式;运用DSP数字控制器灵活实现对高频PWM整流器输出幅值、工作模式,以及溅射脉冲宽度、频率的设置。实验样机证明,本设计能实现多模式输出,输出幅值范围为200V-750V,频率最大为200k Hz,占空比10%-90%可调,功率因数不低于0.97。该技术将多个镀膜功能集成到同一个设备中,设备体积小、降低成本、提高了利用率,谐波污染低,具有很好的推广应用价值。     

对引进磁控溅射镀膜生产线国产化技术改造的尝试

本文通过对引进国外大型磁控溅射镀膜玻璃生产线增设高真空抽气系统国产化技改工作及为开发反应膜对工艺溅射室分隔的技巧工作，应用镀膜技术及原理成功地解决了一些技术问题，达到了提高产品质量，开发新产品之目的。     

提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究

工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相化学反应动力学理论,薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度,提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法.该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器,控制N2流量大小,让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近,实现反应溅射恒电压控制.并且采用单片机技术制作了样机,在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用,实验结果表明,镀膜沉积速率提高了4倍以上,整个系统工作稳定.     

控制光-热的镀膜织物

利用溅射镀膜技术可在织物上沉积介质/金属膜层。控制沉积参数可以改变该织物的光学性能。带有介质/金属的织物有较好的隔热性能,提高了原织物的抗拉伸强度、耐磨性能及抗静电能力,而且耐热性能也有了较大的改善。这种带有涂层的织物有着广阔的应用前景。     

磁控溅射镀膜技术有望替代传统的电镀技术

2008年年初，深圳禾信实业公司从深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心购进了2台磁控溅射镀膜设备及镀膜工艺，对传统的电镀工艺进行了彻底的改造。目前，其设备安装调试工作已经完成，已实现批量加工生产。     

磁控溅射法制备防水透湿织物

利用磁控溅射法制备了防水透湿织物。主要研究了功率、靶距、工作压力和沉积时间四个工艺参数对织物应用性能的影响。结果表明这四种参数对PET基防水透湿织物的拒水性能变化规律和改变程度各有不同，但对织物透气性，透湿性影响不大，基本上保持了原有织物的透气性及透湿性．     

直流磁控溅射镀膜在玻璃涂层技术中的应用

本文在探讨镀膜玻璃一些基本问题的基础上,阐述了磁控溅射在玻璃涂层技术中的应用机理、靶的结构靶材的选取、提高膜层质量以及镀膜玻璃的应用及发展前景等问题。     

磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用

本文扼要阐述了磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用前景及特点，所需设备类型及镀膜过程中应注意的若干问题，并对若干种镀膜玻璃的膜系及镀膜玻璃的性能要求与测试等问题进行了介绍。     

海绵卷绕真空磁控溅射镀膜过程中的传动控制

根据磁控溅射中海绵的传动特性，建立了传动控制的数学模型，采用带有矢量的变频调速器实现了海绵卷绕真空镀膜过程中的张力控制，满足了磁控溅射中海绵卷绕的传动要求。