几种沉积氮化钛涂层的新技术

介绍了几种沉积氮化钛涂层的技术。利用辅助磁场消除多弧离子镀沉积氮化钛膜层中的熔滴,细化膜层组织;安装平面大弧源和柱状弧源的多弧离子镀膜机,使多弧离子镀膜机结构简化,操作简单,采用非平衡磁控溅射源扩展了镀膜室内等离子体范围,有利于磁控溅射沉积氮化钛超硬涂层。     

柱状弧源多弧离子镀膜机

文章介绍新型柱状阴极电弧源多弧离子镀膜机的结构特点和镀氮化钛涂层的效果。     

柱状弧源多弧离子镀膜机

文章介绍新型柱状阴极电弧源多弧离子镀膜机的结构特点和镀氮化钛涂层的效果。     

用多弧离子镀膜机镀氮化钛

在研制的大弧源多弧离子镀膜机内进行了沉积氮化钛工艺试验，研究了源施加磁控与否氮分压基板偏压和形成氮化钛时工件温度等工艺参数，对氮化钛涂层微观组织和性能的影响。     

一种镀非晶金刚石膜的工艺

本发明涉及一种用碳离子轰击作为镀非晶金刚石膜的镀前处理方法。该方法包括以下步骤：1）清洗零件表面；2）将零件装入镀膜机的真空室中，抽真空达到1×10^-2～1×10^-5Pa；3）用固体离子源泉对零件镀膜表面作碳离子轰击处理；4）离子束加速偏压电源转换，由高压电源转换到低压电源；5）镀非晶金刚石膜，达到要求膜厚；6）放气；7）取出零件包装。本发明故障率低、轰击均匀、轰击面积大、镀膜生产率高且镀膜设备成本低。     

离子镀

离子镀是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜,即在真空室中使气体或被蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起,不仅明显地提高了镀层的各种性能,而且大大地扩充了镀膜技术的应用范围。离子镀除兼有真空蒸镀     

切削刀具PVD涂层技术的发展及应用

PVD涂层是利用蒸发、辉光放电等物理过程 ,在基材表面沉积出所需要的涂层的技术 ,通常采用的 PVD技术有蒸发镀膜、离子镀膜和溅射镀膜三大类 ,其中离子镀和溅射镀适合于对切削刀具进行超硬材料涂层。本文着重介绍了溅射镀技术及采用该技术生产的几种重要的涂层 ,结合实例介绍了它们的使用性能 ,并对 PVD涂层切削刀具技术的研究进展 ,工业化生产及应用现状进行了综述。     

氮化钛涂层刀具的镀制及应用

扼要介绍空心阳极真空离子镀膜技术的原理,具体分析利用DKYL-1000型真空离子镀膜机进行TiN镀制的几个主要工艺参数,并对利用该设备镀制的刀具在生产上的应用情况作了总结。     

多弧离子镀膜机Bulat-6的技术特性

利用多弧离子镀技术制备的ＴｉＮ等各种硬质膜已经广泛应用于各种工模具表面强化[1 ] 。硬质膜质量的提高主要依赖于多弧离子镀膜机的技术进步。这种技术进步的实质在于更好地消除靶材液滴飞溅 ,提高靶材蒸发粒子的离化率[2 ] ,扩大真空室内等离子体均匀区范围 ,实现大束流离子束辅助增强沉积[3] 。从俄罗斯引进的Ｂｕｌａｔ 6多弧离子镀膜机 ,结构独特 ,沉积速率快 ,绕镀性好 ,可实现大束流离子束增强沉积 ,膜 /基结合力高 ,可对大尺寸模具镀制ＴｉＮ等硬质膜。1　Ｂｕｌａｔ 6多弧离子镀膜机的组成Ｂｕｌａｔ 6多弧离子镀膜机结构示意图见…     

离子轰击镀对铀上铝镀层组织及防腐蚀性能的影响

研究了偏压镀、循环氩离子轰击镀和间歇式镀对铀上铝镀层组织及防腐蚀性能的影响．结果表明,3种离子轰击镀方法对铝镀层的组织产生强烈影响，且组织的致密程度与其防腐蚀性能呈现了较好的一致性．在-100V、-200V和-500V偏压条件下，镀层组织致密、防腐蚀性好；在-300V偏压下，镀层的致密性和防腐蚀性均差，未加偏压(0V)的次之；循环氩离子轰击镀和间歇式镀对提高镀层的致密性和防腐蚀性更为显著．离子轰击镀沉积的铝镀层均可不同程度地为铀提供好的保护效果．     

PVD涂层技术在冲压/成型模具中的应用及实例

PVD涂层技术是最新、最先进的表面工程技术之一,它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。由于离子镀技术具有镀膜速度高,膜层致密,膜的附着力好等特点,使多弧离子镀镀层在模具的超硬镀膜领域的应用越来越广泛,并将占据越来越重要的地位。介绍了离子镀技术的原理、特点,并在总结和归纳了国内外文献的基础上,重点介绍了离子镀技术在冲压/成型模具中的应用及实例,为今后离子镀技术的研究与应用提供了有益的借鉴。     

过渡层对钕铁硼表面蒸发镀铝涂层耐腐蚀性能的影响

目的提高钕铁硼磁体表面Al防护涂层的结合强度及耐腐蚀性能。方法通过磁控溅射在钕铁硼磁体表面沉积Al过渡层,用高偏压进行轰击后,使用离子辅助蒸发镀技术沉积Al防护涂层。用扫描电子显微镜观察涂层表面及截面形貌,电化学工作站及盐雾试验检测涂层腐蚀性能,拉伸试验评价涂层与基体结合强度。结果随着磁控溅射靶电流从10 A提高到25 A,所制备的Al层自腐蚀电压从-0.7367 V递减到-0.9075 V,耐中性盐雾腐蚀性能下降。在用相同工艺制备表面离子辅助蒸发镀Al防护涂层的前提下,磁控溅射靶电流为25 A时制备的100 nm和500 nm过渡层的防护涂层耐盐雾腐蚀时间分别为48 h和36 h,耐腐蚀性能不如无过渡层的纯蒸发镀铝涂层(72 h);磁控溅射靶电流为15 A制备的100 nm和500 nm过渡层的防护涂层耐盐雾腐蚀时间分别为96 h和103 h,其耐腐蚀性能优于无过渡层的纯蒸发镀铝涂层。采用过渡层技术的Al防护涂层结合强度均大于40 MPa,与钕铁硼基体结合良好。结论过渡层技术均可使Al涂层与Nd Fe B基体结合良好,合适的过渡层工艺可提高离子辅助蒸发镀铝涂层的耐腐蚀性能。     

MAIP镀TiN工艺对膜基结合的影响

本文介绍了用多弧离子镀膜（MAIP）技术在高速钢基片表面镀TiN工艺。通过离子轰击清洁和加热后,工件施加高的偏压并同时打开弧源,在膜基界面形成Ti、N、Fe、W、Mo的交混层。这层伪扩散层的存在,提高了膜基结合强度,为该膜的应用奠定了良好的基础。     

镁合金表面加弧辉光离子渗镀Ti的腐蚀性能研究

加弧辉光离子渗镀技术将辉光放电与弧光放电有机地结合起来,利用辉光放电空心阴极效应使工件迅速升温,同时在真空容器壁上设置一个或多个金属阴极电弧靶源,利用真空电弧放电而不断地发射出高能量、高电流密度、高离化率的欲渗金属离子流,依靠扩散和离子轰击作用快速渗入工件表面层,在工件表面可以形成渗层、镀层、渗镀结合层.在实验条件下对镁合金AZ91表面渗镀了Ti,采用极化曲线测试和盐雾实验分析了处理后材料的腐蚀行为,用扫描电镜（SEM）分析了Ti镀膜的表面形貌,用电子衍射光谱（EDS）和辉光放电光谱仪（GDS）分析了表面化学成分分布.结果表明渗镀Ti显著提高了AZ91的耐腐蚀性.     

铝电解槽惰性阴极材料的研究进展

介绍了铝电解槽惰性阴极的发展概况。新近国外报道的惰性阴极材料共有T_1B_2碳胶涂层、T_1B_2等离子喷镀层、T_1B_2电镀层和T_1B_2烧结体四种。同时简述了硼化钛的制造方法和硼化钛—碳胶涂层阴极的国内试验情况。     

高耐腐蚀性的铝铬合金镀层

日本神户制钢所开发了铝铬合金镀层钢板,它的耐腐蚀性是过去的镀铝钢板的２０倍．它是采用连续真空蒸镀法,即在真空容器内使铝铬的原子蒸发而产生镀膜的方法,形成了过去不可能得到的铝铬合金镀层．新型镀层钢板宽度为１５０ｍｍ,尚不能实际应用．今后要继续进行宽幅钢板的研究,以实现商品化．新的镀层是在真空容器中,将电子射线分别射在铝和铬上,使其蒸发,并在钢板上产生镀膜．镀层合金的成分为铝８０％、铬２０％．镀膜设备由德国ＬＥＷ公司制造．电子射线的照射方法以及容器内钢板的移动速度等均可进行高精度的控制,从而提高了镀…     

温度对AZ91D镁合金表面渗镀铝涂层组织结构和性能的影响

采用脉冲偏压直流磁控溅射在AZ91D镁合金表面渗镀铝涂层,研究了渗镀温度对渗镀层组织结构和性能的影响。结果表明,渗镀铝涂层由铝沉积层和扩渗层组成,随渗镀温度升高,沉积层厚度变薄,扩渗层厚度增加;X衍射(XRD)分析表明,渗镀层主要由Al、Mg两相组成,在较高温度(450℃)时有少量的Al12Mg17相出现;渗镀层硬度沿深度呈梯度变化逐渐降低,随温度升高,渗镀层厚度增加,硬度梯度变化变缓,有利于膜基体系整体性能的提高。     

纯铜离子渗镀钛层的耐蚀性

采用加弧辉光离子渗镀技术, 实现了在纯铜表面形成均匀的渗镀钛层. 用电化学测试技术对渗镀层在0.5moL/LH2SO4溶液中的耐蚀性进行了对比试验研究. 结果表明渗镀钛层的耐蚀性能大大提高, 与钛板相当, 并对渗镀层钛浓度的分布、渗镀层显微硬度、渗镀层相的结构进行了测定.     

镀层厚度对镀钛金刚石/铝复合材料热导率的影响

通过在金刚石表面镀钛来改善金刚石和铝基体之间的弱界面结合,并用气压浸渗法制备体积分数为60%的镀钛金刚石/铝复合材料。研究镀钛后金刚石颗粒的物相组成、不同镀层厚度和不同颗粒尺寸下复合材料的热导率;用H-J和DEM模型预测复合材料的热导率,并将预测结果与实验值进行对比。结果表明,镀钛后金刚石颗粒的物相由金刚石、碳化钛和钛三相组成;随着镀层厚度的增加,界面传热系数减小,复合材料的热导率减小;颗粒的尺寸越小,这种变化趋势越明显;相对于H-J模型,DEM模型更能准确地预测镀钛金刚石增强的复合材料的热导率;通过计算得出镀钛金刚石/铝复合材料的临界镀层厚度为1.5μm,当超过此临界镀层厚度时,镀层反而不利于复合材料热导率的提高。     

多弧离子镀Ti—N镀膜的扩散屏障作用

设计了３种复合镀层系，研究了多弧离子镀Ｔｉ－Ｎ镀膜对Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｏ的扩散屏障作用及Ｔｉ－Ｎ镀膜在１０００和１１００℃长期时效时的热稳定性。结果表明，在１０００℃以下时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜稳定性良好，并可有效地阻止Ａｌ向基材扩散，可减缓、阻止Ｎｉ，Ｃｏ在ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层与基体间的互扩散行为；在１１００℃时效时，Ｔｉ－Ｎ镀膜未分解，也不与基材及ＣｏＣｒＡｌＴａＹ涂层间发生互扩散，但组织形态由薄膜