掺Ge/B光纤紫外光敏性研究

本文分析了掺Ｇｅ／Ｂ比掺Ｇｅ光纤具有较高紫外光敏性的原因,并通过实验研究了氢载对掺Ｇｅ／Ｇ光纤紫外光敏性的影响。研究结果表明氢载可以提高掺杂Ｇｅ／Ｂ光纤的光敏性,而且它在氢载前后都存在曝光饱和点。     

用于紫外写入光纤光栅的特种光纤的研究

本文详细介绍一些适合于紫外写入光纤光栅的特种光纤，如高光敏性光纤，温度不敏感性光纤以及能抑制包层模的特种光纤。     

紫外写入光纤光栅用特种光纤的研究

本文详细地介绍了如何加强用于制做紫外写入光纤光栅所需的特种光纤的高光敏性、温度不敏感性以及对包层模的高度抑制性等。     

光纤的光敏性

本文介绍了光纤光敏性的研究进展，同时对光纤光敏性的起源，探测，特点等有关问题进行了总结。     

新型强光敏性特种光纤的研究

本文研究了各种新型的强光敏性特种光纤,并结合我们的制作经验从光纤结构和制作过程上给予了详细的讨论。同时文章出给出了我们研制的Ｂ／Ｇｅ光敏光纤的结构剖面及其写入紫外光纤光栅的实验结果。     

三层介质光纤包层模色散方程及包层HE／EH模

利用解析法研究了Tsao和Erdogan关于3层介质光纤模型的包层模色散方程，对2个色散方程的等价性给出了证明。在研究长周期光纤光栅(LPFG)中，对传播常数的计算应选用Tsao给出的方程，在计算与场方程有关的量时应选用Erdogan的方程。计算了部分包层模的传播常数，给出了区分包层HE／EH模的方法。     

包层模对单模光纤模耦合损耗的影响

本文研究,当纤芯和包层间的折射率差非常小时,单模突变光纤在生产过程中由随机芯径波动所引起的模耦合损耗受包层模影响的程度。     

光纤的光敏特性及光纤光栅紫外写入技术

本文扼要评述了光纤的光敏特性及其微观机理，描述了光纤光栅光学特性，并对迄今发展起来的几种主要光纤光栅紫外写入技术进行了全面的评介，最后简要介绍了光纤光栅在激光和通信等方面的一些重要应用。     

新型强紫外光敏性光纤的研究

光纤光栅的出现是光纤通信的一次巨大飞跃,而光敏光纤光栅的基础。文章研究了各种光敏光纤的材料,并结合制作经验从光纤结构和制作过程进行了详细的讨论,同时给出了研制的Ｂ／Ｇｅ光敏光纤的结构剖面以及用其写入紫外光纤光栅的结果。     

新型全光纤结构双包层光纤激光器

基于对双包层光纤的内包层结构、掺杂浓度、剖面折射率分布、外包层的背底损耗等因素对泵浦光吸收效率的影响进行分析的基础上,对掺Yb3 双包层光纤内包层直径对泵浦光的吸收长度和泵浦效率进行了理论模拟.采用半导体激光二极管光纤模块作为泵浦源,采用梅花瓣型双包层光纤与光纤光栅元件连接制作了全光纤结构的光纤激光器,实验获得了6.02W单模光纤激光器,中心波长为1080nm,半高宽为0.11nm,斜率效率为1.7W/A.     

光纤光栅制作技术研究

光纤光栅在光纤通信、光纤传感及光纤光学等领域内具有重大的应用价值,近年来受到了人们的广泛关注和高度重视.文中介绍了光纤的增敏方法及常用的光纤光栅制作方法,分析了各种光纤光栅制作方法的优缺点,并通过实验成功制作了反射率达到99.96%的单模光纤光栅.     

以单轴晶体为内包层的双包层光纤偏振特性研究

本文研究了以单轴晶体为内包层的双包层高双折射光纤的传输和偏振特性．在弱波导近似下,应用光波导理论,得出了ｏ光与ｅ光的色散方程及截止特性．通过计算机的模拟与分析,划分出了截止区、单模单偏振区、单模双偏振区及多模区;分析了单模单偏区和单模双偏区存在的条件;研究了单模双偏区两偏振模式的偏振色散特性．结果表明,几何参数Ｓ、光学参数Ｒｘ、Ｒｙ及外包层折射率η３对所划分的四个区域及所对应的偏振特性有着极为明显的影响．此结果为光纤保偏器的设计和应用高双折射单模光纤构成新型光纤传感器的设计提供了可靠的理论依据．     

聚合物瓣状光纤研究进展

文章简单介绍了瓣状光纤的发展过程,并以低折射率瓣为6瓣的瓣状光纤为例对其结构和性能特征进行了详细介绍.具体描述了聚合物瓣状光纤的现有制备方法.提出了采用复合纺丝法制备瓣状聚合物光纤的新思路.通过喷丝组件设计及对现有熔融复合纺丝法进行适当改进采用聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯制备了具有瓣状截面的聚合物光纤.     

适用于光纤放大器的Er3 -Yb3 共掺双包层光纤

研制出一种适用于光纤放大器的Er^3＋-Yb^3＋共掺双包层光纤（EYDCF），它在980nm和1530nm的吸收分别达到16．8dB／m和20．6dB／m，980nm吸收带半高宽达到200nm。在波长为980nm、泵浦功率为2w的条件下，可以得到28．8dBm（760mW）的输出，相比掺Er^3＋光纤（EDF），EYDCF的增益高，所需光纤长度短，所以非线性效应的发生得到抑制。