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《电子科技文摘》1999,(1)
伴音系统 一电路分析00785半导体薄膜 一电特性00048 一特性00047半导体波导 一特性00469半导体材料00046 一光学性质00045半导体工艺00323 00325 一国际会议00324 一综述00321半导体激光器01363 一动态特性00224 一功能结构00221 一特征00221半导体技术 一发展01095 一有效性分析00501半导体开关 一单片电路00248半导体器件00330 一热工测量00246 一失效分析00025 一体效应0D247半导体收音机 一加速寿命试验00031办公室自动化01231薄膜 一厚度测量00903 一铁电材料00038 00042 一制备00083薄膜电容器 一可靠性设计00096 一设计00095 一生… 相似文献
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】980年国际学术会,厕览会一览表all*all*all*all*all*all*all*all*all*all*第9次计算机展览会激光和电一光学系统会议第23届国际电子器件展览会第27次应用物理讨论会国际可靠性物理会议IEEE国际电路和系统会议第30届电子计算机会议-;第2次国际微型计算机应用会议国际通信会议(ICC)自动化设计会议第15次国际半导体物理会议第8次世界计算机会议 一九八○年国际学术会议、展览会一览表@黄子伦 相似文献
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<正> 自一九七四年金华会议提出研究厚薄膜电路的可靠性以来,我国的厚薄膜电路在提高电路的可靠性方面已经取得了不小的效果。本文将结合我厂生产的厚膜稳压电源(HWY)对厚膜功率电路的失效作一粗浅 相似文献
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蒋平 《固体电子学研究与进展》1992,(4)
<正>1992年8月10日至14日,在北京国贸中心中国大饭店举行了第21届国际半导体物理会议(ICPS-21)。从1950年开始,国际半导体物理会议每两年举行一次,是全世界半导体物理领域最高水平的学术会议。本届会议由我国半导体物理学家谢希德教授担任主席。由于她本人和国内外许多知名科学家几年来的不懈努力,终于使这一国际学术界的盛会得以首次在中国举行。 相似文献
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<正> 今年3月 12-14日在美国Arizona州召开了关于四面体键无定形半导体国际讨论会.来自美、日、德、法、加等各国的160余名代表参加了会议,共有报告70余篇.会议集中研讨了无定形硅薄膜材料的制备和结构特点,以及无定形硅中载流子的特性. 相似文献
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2012年国际固态电路会议(ISSCC2012)北京推介会日前在北京清华大学成功召开。ISSCC(International Solid—State Circuits Conference国际崮态电路会议)始于1953年,每年一届,是由IEEE固态电路协会(SSCS)主办的著名半导体集成电路国际学术会议。 相似文献
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《中国无线电电子学文摘》2000,(5)
TN3OI,TB43 00050361G aAs/srTIO3外延半导体单晶薄膜带间跃迁研究/陈益栋,刘兴权,陆卫,史国良,沈学础(中科院上海技物所红外物理国家实验室)11物理学报.一1999,4s(9).一1718一1722报道了在钙钦矿型结构的SrTIO3衬底上用分子束外延方法生长闪锌矿型结构的G aAs半导体单晶薄膜.应用光调制反射光谱和光荧光方法,研究了GaAs半导体薄膜的带间跃迁,并与通常的G aAs体材料特性进行了对比研究.结果表明,在钙钦矿型结构SrTIO3衬底上生长的GaAs单晶薄膜具有与单晶体材料相似的禁带与光学特性、在带间跃迁的弛豫上,外延薄膜相对体材料大了… 相似文献
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纳米光子学国际会议于 1 999年 3月在俄罗斯科学院微结构物理研究所的所在地下诺夫戈罗德举行。这已是有关半导体纳米结构物理的第二次会议。第一次会议于 1 998年召开。会上讨论两个方向的现状。第一 ,与以硅 (Si Ge、Si/A3B5、Si/Ge/C、Si/Ge/Sn、Si/Si O2 量子阱和量子点 )、多孔硅和含有稀土元素的纳米晶体硅为基础的异质结构的光电子学性质基础有关的物理现象 ,相应的纳米结构生长工艺和特性 ;第二 ,在具有量子阱的半导体结构中的热载流子在强电场和磁场中的非平衡、反转分布及带内光学跃迁的物理问题 ,包括反转机理和在中、远红… 相似文献
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提出了一种用于300×400红外焦平面阵列读出电路的等效像元电路结构。该电路与氧化钒(VOx薄膜)制成的微机械系统(MEMS)的电特性等效,并能够模拟MEMS像元改变时支路电流的变化。红外面阵探测器读出电路在流片后,生长MEMS物理结构(VOx薄膜)前,该等效像元电路结构用于读出电路的电性能测试,从而剔除不良品,减少封装成本。该电路采用了Global Foundry 0.35μm工艺设计并流片。测试结果表明,当积分电流为0~200nA时,该等效像元电路的电性能与MEMS像元一致。 相似文献
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2014年国际固态电路会议(ISSCC2014)北京新闻发布会日前在北京清华大学召开。ISSCC(International Solid-StateCircuitsConference)始于1953年,每年一届,是由IEEE固态电路协会(SSCS)丰办的著名半导体集成电路国际学术会议。 相似文献
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<正> 电子工业部厚薄膜电路专业科技情报网厚薄膜电路技术交流会于1982年6月10日—17日在北京召开,参加会议的共27个单位53名代表。除网内的单位外,中科院半导体所、北京航空学院,北京半导体器件二厂,774厂等从事半导体器件和专用设备的科研、生产 相似文献