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一般蒸镀光学薄膜几乎都呈现微观柱状结构,这种薄膜的折射率随着聚集密度的改变而发生变化. 相似文献
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光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制,在此设备上成功地制备了TiO2,ZrO2,SiO2,Al2O3光学薄膜,测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率;并对TiO,SiO2单层膜的成份及价态作了X光电子能谱分析。 相似文献
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离子镀不锈钢膜的微观组织特征许晓磊,王亮(大连海事大学,大连116024)离子镀不诱钢膜因能有效地提高工件表面的抗蚀性能而日益受到人们的重视。全面了解整个膜层的微观组织结构及相分布对研究膜层生长、相变及完善和改进工艺有重要的意义。对于膜层的微观组织研... 相似文献
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低压反应离子镀新工艺及其设备 总被引:1,自引:0,他引:1
唐惠平 《电子工业专用设备》1997,26(2):36-44,54
采用低压反应离子镀沉积技术,制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的TiO2、SiO2和Al2O3膜,其折射率分别为255、149(550nm)和167(1100nm),比传统的电子束蒸发好得多。用此方法,在CR39基片每面沉积4层TiO2/SiO2抗反薄膜,剩余反射率≤05%。本文简要介绍其工艺过程和相应的LVRIPD装置 相似文献
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用同Ebert研制成的类似的氧离子源研究了SiO_2和TiO_2膜的反应淀积。这离子源通过直流气体放电产生负氧离子,然后用石墨出孔把锥形负离子束引向衬底。此源在400V放电电压下产生1.26mA的离子流。淀积所用原料是由电阻加热舟蒸发的SiO和TiO。测得TiO_2膜的光学常数表明,提高离子流就降低了膜的吸收常数,提高了膜的折射率。借助红外衰减全反射率测量研究SiO_2膜的化学配比、潮气含量及悬挂键。这些测量指出,离子流提高时,SiO_2膜的化学配比接近SiO_2。 相似文献
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Cu浆料用于厚膜电路板激光打孔的导体连接,易出现剥落。采用添加体积分数φ为20×10~(-2)金红石型TiO_2的铜浆料使问题得以解决。 相似文献
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采用热压烧结工艺制备了TiO2陶瓷填充聚四氟乙烯(PTFE)复合基板材料。系统研究了TiO2陶瓷粒径对PTFE/TiO2复合材料显微结构、热导率、微波介电性能的影响。结果表明,复合材料的密度随TiO2粒径的增大而增大,而介电损耗、吸水率则随着TiO2粒径的增大而减小;相对介电常数和热导率随粒径的增大先减小,当TiO2粒径D50为6.5μm时达到最小值,然后开始增大。当TiO2的粒径D50为11μm时,复合材料具有较高的相对介电常数(εr=6.8),较低的介电损耗(tanδ=0.001 2)和较高的热导率(0.533 W/(m·℃))。 相似文献
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反应溅射TiO_2薄膜 总被引:4,自引:0,他引:4
报道了反应溅射沉积TiO2薄膜,得到TiO2薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应气体的流量、溅射功率有关。通过控制氧气的流量,得到具有良好导电性能和一定吸收的特殊性能的TiO2薄膜。 相似文献
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本文对反应离子镀和反应蒸发(电子束蒸发)工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测,并将结果进行对比。 相似文献
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光学薄膜低压反应离子镀技术是近年来镀膜技术领域中的最新进展,在原理上完全不同于以往曾广泛研究的离子辅助镀膜技术,更以其能制备出聚集密度更高、光机性能更稳定、更加坚硬牢固、无柱状结构的薄膜受到国际薄膜光学界的高度重视。本文简析了低压反应离子镀技术的成膜过程和低电压大电流等离子体源的工作机理,概述了该技术发展的历程以及已取得的主要成果,介绍了该技术现存的主要问题和我国已开展的研究项目。 相似文献
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采用溶胶凝胶法制备了纯TiO2和掺杂质量分数为5%,7%和9%CuO的TiO2纳米粉体,并对样品进行了不同温度(500,700和900℃)的退火处理。通过涂敷法制备成气敏元件,利用XRD和SEM对样品的结构和表面形貌进行了表征,并利用气敏测试系统检测其气敏特性。研究了CuO掺杂质量分数和退火温度对TiO2厚膜气敏性能的影响,进一步讨论了TiO2厚膜的气敏机理。结果表明:CuO的掺杂有效抑制了TiO2晶粒的生长,增加了对光子的利用率,降低了工作温度,提高了气敏特性。700℃退火后,质量分数为7%的CuO掺杂TiO2样品的结晶尺寸达到14.5 nm,气敏元件表现出对丙酮蒸汽单一的选择性,灵敏度为3 567,响应和恢复时间均为2 s。 相似文献
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前言TiO_2薄膜折射率高、质地坚硬、化学稳定、在可见和近红外域透明,这些优异的性能使它在光学薄膜的干涉应用中十分诱人。但是,由于 TiO_2材料在真空中加热蒸发时会分解失氧,形成高吸收的钛的亚氧化物薄膜。因此多年来,除了采取一定措施制备出性能良好的单层膜外,TiO_2薄膜一直 相似文献
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