CeO2薄膜折射率与其聚集密度的关系式

一般蒸镀光学薄膜几乎都呈现微观柱状结构,这种薄膜的折射率随着聚集密度的改变而发生变化.     

光学薄膜反应离子镀技术研究

光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制，在此设备上成功地制备了ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３光学薄膜，测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率；并对ＴｉＯ，ＳｉＯ２单层膜的成份及价态作了Ｘ光电子能谱分析。     

离子镀不锈钢膜的微观组织特征

离子镀不锈钢膜的微观组织特征许晓磊，王亮（大连海事大学，大连１１６０２４）离子镀不诱钢膜因能有效地提高工件表面的抗蚀性能而日益受到人们的重视。全面了解整个膜层的微观组织结构及相分布对研究膜层生长、相变及完善和改进工艺有重要的意义。对于膜层的微观组织研...     

低压反应离子镀新工艺及其设备

采用低压反应离子镀沉积技术，制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的ＴｉＯ２、ＳｉＯ２和Ａｌ２Ｏ３膜，其折射率分别为２５５、１４９（５５０ｎｍ）和１６７（１１００ｎｍ），比传统的电子束蒸发好得多。用此方法，在ＣＲ３９基片每面沉积４层ＴｉＯ２／ＳｉＯ２抗反薄膜，剩余反射率≤０５％。本文简要介绍其工艺过程和相应的ＬＶＲＩＰＤ装置     

离子辅助淀积SiO_2和TiO_2膜的特性

用同Ebert研制成的类似的氧离子源研究了SiO_2和TiO_2膜的反应淀积。这离子源通过直流气体放电产生负氧离子,然后用石墨出孔把锥形负离子束引向衬底。此源在400V放电电压下产生1.26mA的离子流。淀积所用原料是由电阻加热舟蒸发的SiO和TiO。测得TiO_2膜的光学常数表明,提高离子流就降低了膜的吸收常数,提高了膜的折射率。借助红外衰减全反射率测量研究SiO_2膜的化学配比、潮气含量及悬挂键。这些测量指出,离子流提高时,SiO_2膜的化学配比接近SiO_2。     

Cu/TiO_2厚膜浆料用于通孔连接

Cu浆料用于厚膜电路板激光打孔的导体连接,易出现剥落。采用添加体积分数φ为20×10~(-2)金红石型TiO_2的铜浆料使问题得以解决。     

Pt／TiO_2厚膜氧敏元件研究

利用溶胶－凝胶法制备Ｐｔ／ＴｉＯ_２厚膜氧敏元件，对元件的性能进行了测试，得出了一些有益的结论。     

低压反应离子镀氧化钨电致变色薄膜

介绍了低压反应镀沉积氧化钨电致变色薄膜，并从微观特性，光学特性和变色特性等方面进行了研究。     

锐钛纳米TiO_2制备及表面性质测定

以TiCl4为原料,加入硫酸盐作为添加剂,采用沸腾回流强迫水解法成功地制备了粒度小、粒径分布窄的锐钛型纳米TiO2,用粒度分布仪、透射电子显微镜、X射线衍射计检测了产物形貌、粒径及晶型。同时,采用接触角测量仪、Zeta电位仪、分光光度计等对样品表面性能进行测定。结果表明,通过控制浆液和SO24-离子的浓度,加入分散剂六偏磷酸钠,选择适宜的固液比及pH值等因素,可得到粒度分布窄、在水中分散均匀的锐钛纳米TiO2,为纳米TiO2的有机修饰做好必要的前期准备。     

TiO_2粒径对聚四氟乙烯/TiO_2复合材料性能的影响

采用热压烧结工艺制备了TiO2陶瓷填充聚四氟乙烯(PTFE)复合基板材料。系统研究了TiO2陶瓷粒径对PTFE/TiO2复合材料显微结构、热导率、微波介电性能的影响。结果表明,复合材料的密度随TiO2粒径的增大而增大,而介电损耗、吸水率则随着TiO2粒径的增大而减小;相对介电常数和热导率随粒径的增大先减小,当TiO2粒径D50为6.5μm时达到最小值,然后开始增大。当TiO2的粒径D50为11μm时,复合材料具有较高的相对介电常数(εr=6.8),较低的介电损耗(tanδ=0.001 2)和较高的热导率(0.533 W/(m·℃))。     

反应溅射TiO_2薄膜

报道了反应溅射沉积ＴｉＯ２薄膜，得到ＴｉＯ２薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应气体的流量、溅射功率有关。通过控制氧气的流量，得到具有良好导电性能和一定吸收的特殊性能的ＴｉＯ２薄膜。     

反应离子镀光学薄膜的牢固度和表面粗糙度分析

本文对反应离子镀和反应蒸发（电子束蒸发）工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测，并将结果进行对比。     

镀膜技术的最新发展—光学薄膜低压反应离子镀

光学薄膜低压反应离子镀技术是近年来镀膜技术领域中的最新进展,在原理上完全不同于以往曾广泛研究的离子辅助镀膜技术,更以其能制备出聚集密度更高、光机性能更稳定、更加坚硬牢固、无柱状结构的薄膜受到国际薄膜光学界的高度重视。本文简析了低压反应离子镀技术的成膜过程和低电压大电流等离子体源的工作机理,概述了该技术发展的历程以及已取得的主要成果,介绍了该技术现存的主要问题和我国已开展的研究项目。     

sol-gel法制备CuO掺杂的TiO_2厚膜及其气敏特性

采用溶胶凝胶法制备了纯TiO2和掺杂质量分数为5%,7%和9%CuO的TiO2纳米粉体,并对样品进行了不同温度(500,700和900℃)的退火处理。通过涂敷法制备成气敏元件,利用XRD和SEM对样品的结构和表面形貌进行了表征,并利用气敏测试系统检测其气敏特性。研究了CuO掺杂质量分数和退火温度对TiO2厚膜气敏性能的影响,进一步讨论了TiO2厚膜的气敏机理。结果表明:CuO的掺杂有效抑制了TiO2晶粒的生长,增加了对光子的利用率,降低了工作温度,提高了气敏特性。700℃退火后,质量分数为7%的CuO掺杂TiO2样品的结晶尺寸达到14.5 nm,气敏元件表现出对丙酮蒸汽单一的选择性,灵敏度为3 567,响应和恢复时间均为2 s。     

TiO_2薄膜的实验研究

前言TiO_2薄膜折射率高、质地坚硬、化学稳定、在可见和近红外域透明,这些优异的性能使它在光学薄膜的干涉应用中十分诱人。但是,由于 TiO_2材料在真空中加热蒸发时会分解失氧,形成高吸收的钛的亚氧化物薄膜。因此多年来,除了采取一定措施制备出性能良好的单层膜外,TiO_2薄膜一直     

TiO_2可见光光催化的研究进展

扩展TiO2催化的响应光谱范围,已成为目前TiO2光催化最具挑战性的课题之一。从TiO2体相掺杂、表面敏化等方面对近年来实现TiO2可见光光催化的途径和方法进行了简要总结。要进一步提高光催化效率还需:深入理解现有TiO2可见光体系的光催化机理;发现更高效的体相掺杂剂和表面敏化剂;设计和控制掺杂剂和表面敏化剂存在形态。     

离子镀的现状

本文讨论了离子镀的物理过程,评述了离子镀中蒸汽流的各种产生方法和提高离化率的措施,并指出了离子镀的优缺点和发展方向.