太阳成像用28.4nm多层膜反射镜的设计

利用SiC/Si,Mo/Si,B4C/Si,SiC/Al,Co/Mg和SiC/Mg材料对,通过单纯形算法设计了太阳成像用28.4 nm周期多层膜反射镜,并采用遗传算法设计了具有强烈抑制30.4 nm光谱线功能的28.4 nm非周期多层膜反射镜。计算了两种反射镜在波长28.4 nm处的光谱纯度,结果表明:周期多层膜反射镜的光谱纯度SiC/Mg最高,Mo/Si最低;而所有非周期多层膜反射镜都有很高的光谱纯度。     

极紫外Mg/SiC双功能多层膜反射镜的设计

根据极紫外成像器观测地球周围等离子层的要求,设计了极紫外Mg／SiC双功能多层膜反射镜,并分析了粗糙度、膜厚精度和光学常数变化对反射率的影响。结果表明：5°入射的双功能多层膜反射镜在30．4nm和58．4nm处的反射率分别大于41％、小于0．209／6。     

磁性多层膜中的电磁波传播—电磁磁耦子解

本文采用传输矩阵推导了任意多层磁性膜系统的电磁磁耦子解,包括有限层磁性膜、无限层磁性超晶格和半无限磁性超晶格三种结构,获得了电磁磁耦子解的解析表达式。本法较易提供任意设计的磁性膜系统的色散特征。这对于开辟多层膜的应用,进行计算机设计是有意义的。     

NiFe/Cu多层膜的结构与层间耦合效应

用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备了[Ni_(80)Fe_(20)/Cu]_(20)多层膜,其中采用了靶表磁场强度不同的靶腔沉积铜层,利用X射线衍射和振动样品磁强计对Cu(100nm)/[Ni_(80)Fe_(20)(0.9nm)/Cu(tCu)]_(20)两个系列样品的结构和磁性进行了表征。靶表磁场较弱时沉积的多层膜具有良好的层间耦合振荡行为,而靶表磁场较强时制备的多层膜没有出现反铁磁耦合。依据上述事实,我们推测靶表磁场强度的不同会影响Ni Fe/Cu界面扩散,进而对多层膜样品的磁性产生影响。用靶表磁场较弱的靶腔沉积中间层铜能够有效减小界面互溶程度,改善镍铁与铜的成层质量。而靶表磁场较强的靶腔溅射出的铜原子具有较高能量,在界面处扩散并与镍铁层互溶,破坏了层状结构。     

铁磁性多层膜的巨磁电阻效应和自旋晶体管

简述了铁磁性多层膜的巨磁电阻效应和自旋阀巨磁电阻效应产生的物理机制。介绍了新型微电子器件自旋晶体管和自旋阀晶体管的工作原理。由于自旋晶体管优良的性能,在计算机和通讯领域有广泛的应用前景。     

[Fe/Pt]n多层膜中膜层结构对磁性能的影响

采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同膜层结构的[Fe/Pt]n多层膜,经不同温度真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果表明,[Fe/Pt]n多层膜结构可以有效降低FePt薄膜的有序化温度,550℃退火30min后其平行膜面矫顽力可达320.3 kA/m;多层膜结构中,Pt层厚度与Fe层厚度相同时,矫顽力最大;Pt层和Fe层厚度相等且总厚度相同的情况下,Fe、Pt单层厚度越薄,有序化温度越低,且对应的矫顽力越大.     

基于多层VSA-Morphin算法的局部路径规划

多层Morphin算法扩展了对未知环境的预测范围,克服了传统Morphin算法搜索轨迹不灵活的缺点,但每个搜索节点生成的搜索弧数目固定,搜索和评估所花费的时间随着搜索层数的增多呈指数阶增加。针对该问题,提出了一种可变搜索弧Morphin算法(variable search arc of Morphin,VSA-Morphin)。调整每层搜索节点生成的搜索弧数目,使之不再固定,而是随着层数增加而减少,从而缩短搜索和评估时间。利用MATLAB仿真测试表明,多层VSA-Morphin算法与多层Morphin算法所规划的路径基本一致,但运行时间却相对更少,从而验证了多层VSA-Morphin算法的有效性和正确性。     

多层膜的巨磁阻抗(GMI)效应

巨磁阻抗多层膜相比单层膜具有不可比拟的优越性，它可以在很低的频率范围获得非常明显的巨磁阻抗效应。综述了多层膜GMI效应的研究现状，着重探讨了材料、膜尺寸及绝缘层隔离对多层膜GMI效应的影响，并且探讨了多层膜GMI效应的物理本质。     

多层多分辨分析算法及在电力系统中的应用

为了改善小波函数在电力系统故障信号分析中的性能，提高小波变换的运算速度，提出了新的小波函数构造方法及其相应的小波变换。该方法具有普遍性，所构造的小波具有简单、时频局部化性能好等优点。根据这种新的小波构造方法，提出了多层多分辨分析的快速算法，此外，利用多层多分辨分析的算法，对电力系统故障信号进行处理和分析，证明基于多层多分辨分析小波变换方法在检测电力系统故障的突变信号分量方面，是一种非常有效的方法。该小波函数构造方法及其多层分辨分析算法，同样适合于其它领域里的故障信号分析与信号处理。     

Co/Cu非连续多层膜的制备和GMR性能的研究

采用磁控溅射法制备了系列[Co0.55nm/Cut]30(t=0.6,0.9,1.2,1.5,1.8,2.1,2.4,2.7,3.0)非连续多层膜样品,并利用四探针法研究了Cu层厚度、退火温度以及周期数对薄膜巨磁阻(GMR)效应的影响。磁电阻测量表明,随着非铁磁层Cu层厚度的增加,薄膜样品的GMR效应总体呈下降趋势,并出现了振荡现象;经退火处理后,薄膜的GMR效应呈先增大后减小的趋势,在350℃达到最大,为-5.1%;薄膜的GMR效应随着周期数的增加而增大,当周期数为50时趋于恒定。     

Cryogenic Cofired Multilayer Actuator Development for a Deformable Mirror in the Next Generation Space Telescope

Xinetics is working with NASA to develop a cryogenic deformable mirror technology to meet the specific needs of the Next Generation Space Telescope. One of the critical technical issues is the development of a cryogenic actuator with sufficient displacement and temperature stability. This paper discusses the two year effort to achieve a cofired electroceramic multilayered cryogenic actuator. The development began by testing materials from 300 to 35 K via a cut and bond actuator technology that led to a cryogenic electroceramic material down selection. After selecting a doped SrTiO₃, a cofired actuator process specific to the cryogenic ceramic was developed. The assembled cryogenic actuators achieved the 3 m displacement (stroke) between 35 and 65 K required by the deformable mirror design. The discrete cryogenic actuators were assembled into an engineering model cryogenic 349-channel deformable mirror that was delivered to NASA in October 2001.     

Fe/In2O3/Fe多层膜的磁性及巨磁电阻效应

采用射频溅射方法成功制备了由过渡族元素Fe和半导体材料In2O3交替生长构成的Fe/In2O3/Fe多层膜、室温下，磁性测量结果表明样品具有超顺磁性，符合朗之万方程；磁电阻比的最大值为2.93%，遵从颗粒膜磁电阻的平方律。上述实验结果表明该多层膜样品具有类似于颗粒膜的结构。     

纳米晶化对Co-FeNbZr薄膜结构及阻抗的影响

用直流磁控溅射法制备非晶Co-FeNbZr软磁膜,再用独特的快速循环纳米晶化技术(RRTA)对其进行纳米晶化.研究了不同的纳米晶化工艺条件下薄膜的微观结构和阻抗性能.结果表明,500℃退火的Co-FeNbZr软磁薄膜晶粒细化到30～40nm,阻抗值从28Ω增加到110Ω(1400MHz),阻抗共振峰向低频移动200～220 MHz左右,薄膜的软磁性能极大改善.     

磁控溅射在锂离子电池正极中应用的进展

综述了磁控溅射技术应用于薄膜锂离子电池正极材料制备与掺杂改性的研究进展.分别讨论了LiCoO2、V2O5、LiMn2O4、LiNiO2及其掺杂物等薄膜正极的制备与改性及所得电极材料的电化学性能,并对研究方向做了简单的评述.     

VO2薄膜制备及掺杂研究进展

二氧化钒(VO2)是一种性能优异的功能材料,在68℃左右发生金属态-半导体态的转变,其光学和电学性能发生突变,在热电开关、光存储介质和激光防护方面有广泛的应用前景。但是由于钒氧体系十分复杂,给制备高质量的VO2带来了困难。人们做了许多工作来研究VO2的结构性能,使用不同的工艺方法制备VO2以及通过掺杂降低其相变温度。本文通过一些有代表性的VO2的研究成果,从制备工艺和元素掺杂方面做了介绍。     

锂磷氧氮(LiPON)薄膜的制备及应用进展

介绍了锂磷氧氮(LiPON)薄膜的结构与特性,综述了LiPON薄膜的制备方法以及应用情况,并就LiPON薄膜制备中出现的困难和以后的研究方向做了简单的评述.