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光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制,在此设备上成功地制备了TiO2,ZrO2,SiO2,Al2O3光学薄膜,测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率;并对TiO,SiO2单层膜的成份及价态作了X光电子能谱分析。 相似文献
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薄膜在现代科学技术中扮演着重要的角色,随着光纤通信技术和激光技术的发展,薄膜在这个领域的应用越来越广泛。在这种背景下,文章探讨了光纤通信中的光学薄膜技术及光学薄膜的设计与制造,以求为光学薄膜技术的更好研发提供必要的借鉴与参考。 相似文献
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在美国进修期间曾参加了Macleod教授领导的薄膜实验室的一部分研究工作,有机会参观了一些公司和学校,也参加了二次全国性的学术会议,认识了一些在薄膜界研究工作十分活跃的学者、专家,对国外光学薄膜技术的发展有了一个初步的印象。下面就我的认识谈一谈肤浅的看法。首先,在国外,光学薄膜的商品生产、发展研究和偏重于基础性的理论研究这三个层次是可以感觉得到的。目前光谱范围从紫外1200(?)到红外5.5μm甚至更远,各类滤光片已有系列的商品生产;光学薄膜的制造基本上摆脱了依赖手艺、技巧和碰运气的状态,已进入了工业规模的生产。参观Baush&Lomb公司的 相似文献
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光学薄膜的制备有真空蒸发、反应蒸发、溅射、等离子体淀积及离子镀等方法。离子镀技术在1963年美国马托斯提出后,经过二十年的发展,已成为将真空蒸发和溅射相结合的制备薄膜的新颖而获得广泛应用的工艺。它在航空工业、机械制造工业、轻工业、电子工业及光学工业等部门中,已显示出了巨大的优越性。这种工艺相对于其它制备薄膜的技术来说,具有许多独特的优点:(1)沉积速率快,蒸发料粒子电离后,动能可达3000~5000eV,沉积速率可达0.24~1μm/min,而溅积仅只达~0.1μm/min;(2)附着力好,粒子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体的 相似文献
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光学薄膜元件的激光预处理技术 总被引:1,自引:1,他引:0
激光预处理技术作为一种提高激光约束核聚变装置中光学元件损伤阈值的有效方法,有重要的使用价值和学术价值。介绍了激光预处理的研究现状,重点介绍了小光斑光栅扫描预处理的方法及其应用,以及应注意的问题。讨论了几种被广泛认可的预处理增强机理,并对激光预处理技术进行了展望。 相似文献
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对比了背投领域几种主要技术的原理和性能特点,同时介绍了多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用,参数和光学性能;并针对该领域国内外最新研究状况进行了调研,给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。 相似文献
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<正> 1993.9.7~1993.9.17在日内瓦国际电信联盟总部召开了ITU—T(原CCITT)第15研究组(SG15)会议,同时也召开了各工作组会议。SG15是传输设备与系统研究组:第1工作组(WP1)是视听设备组;第2工作组(WP2)是信号处理组;第3工作组(WP3)是复用设备组;第4工作组(WP4)是光传输设备与系统组;第5工作组(WP5)是传输网络管理组。 相似文献
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《红外与毫米波学报》1986,5(5)
(以姓氏笔划为序)丁慧丁素珍于梅芳于福聚马可军马翼柱马波云王新德王民王绍泽王秀珍王旭升.王戎兴王家库王跃王留福王宝龙王宫俊方湖宝方晓明方家熊史向华乐洪发白淑华白自强田种运田如钧孙家龙孙及孙风桐孙秀英司承才刑作清朱三根朱龙源朱中权D4:A22泣29;通1,进砚卢3;刀9;刀3;迁20,AZ注;Cl,.CZ;口6;刀工3;口8;A41;A28;D6;D1;’E2;BZ;CS;A27;A32, A39,进42;A36;A4;B14;Cg;刀3;刀6;刀4;A42;B13;A3O;A40;E7;A42;A4O;C禽朱又迈EZ;汤定元A17, A31,五32,五33华新德湘1;刘兆鹏通38;·刘成赞那;刘激呜1 d4,过11,.A肠关振东通8;李… 相似文献