北京光学学会光学薄膜专业委员会1986年学术年会论文摘要专辑

光学薄膜的应用本文就光学薄膜在激光、红外、光通信、影视、建筑等方面的应用做简要介绍。在激光技术方面,在谐振腔听有元件表面均应镀增透膜以消除表面的反射。工作物质的效率愈高,愈要消除其自激现象。其它如起偏元件、电光调制器件也应镀增透膜。倍频器件还应使用倍频高反膜、倍频增透膜。对于可调谐激光器,还对薄膜的宽光谱范围的特性提出特定的要求。目前研制的薄膜平板型偏振片可代替方解石起偏器,它具有可做任意尺寸的     

全国光学薄膜技术学术交流会在西安召开

由中国光学学会薄膜专业委员会主办,机械委205所、西安光机所及西北光学仪器厂联合承办的“全国光学薄膜技术学术交流会”于1987年10月12～15日在西安召开。来自各高等院校、研究所、工厂等102个单位的167名专家、教授及工程技术人员参加了会议,会上宣读了80多篇论文,代表们就共同感兴趣的问题进行了讨论,学术空气活跃。这次会议对我国光     

光学薄膜技术

我们研制了全介质宽带高反射硬膜,反射区大于360～780nm,平均反射率≥97％。已用于可调谐染料激光器的调谐反光镜。 全介质宽带高反硬膜吸收小,反射率高,硬膜可保证牢固耐久。它是由几个介质高反堆     

军用光电整机技术交流会论文摘要

电子-光学技术在现代战争中的重要作用越来越多地被世界军方人士所公认,它现在已成为决定未来战争胜负的重要手段,对战略战术亦将产生重大影响。近年来,随着电子-光学技术和其它科学技术的迅猛发展,促使新式武器装备的面貌发生了显著的变化。本文主要阐述:电子-光学技术(激光和热成象)在武器系统中的应用,使得武器系统效能大大提高的近况。说明在装甲车、防空、直升机、步兵和无人驾驶飞机五种武器系统领域中,应用电子-光学技术的现状、问题和趋势。最后概述电子-光     

光学薄膜厚度监控技术

本文简要地评述各种监控技术的优缺点,重点介绍了非λ/4膜厚监控技术的进展。     

红外材料器件参数测试技术交流会论文摘要

红外探测器探测率D~*检测标准讨论兵器工业部211所顾伯奇探测率D~*标准化既涉及到探测器本质的了解,也涉及到探测器可能的潜在利用。在测试中把探测器作为四端网络看待,输入端是500K黑体辐照通量密度J,单位μW/cm~2,输出端是电压(或电流)V_s,V_N,单位μV。探测率D~*定义为:     

光学薄膜反应离子镀技术研究

光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制，在此设备上成功地制备了ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３光学薄膜，测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率；并对ＴｉＯ，ＳｉＯ２单层膜的成份及价态作了Ｘ光电子能谱分析。     

浅谈光纤通信中的光学薄膜技术

薄膜在现代科学技术中扮演着重要的角色,随着光纤通信技术和激光技术的发展,薄膜在这个领域的应用越来越广泛。在这种背景下,文章探讨了光纤通信中的光学薄膜技术及光学薄膜的设计与制造,以求为光学薄膜技术的更好研发提供必要的借鉴与参考。     

微显示技术与光学薄膜

讨论了光学薄膜在LCD、LCoS及DLP三种微显示光引擎中的应用。同时也简述了相应的光学薄膜技术的进展。     

国外光学薄膜技术发展概况

在美国进修期间曾参加了Macleod教授领导的薄膜实验室的一部分研究工作,有机会参观了一些公司和学校,也参加了二次全国性的学术会议,认识了一些在薄膜界研究工作十分活跃的学者、专家,对国外光学薄膜技术的发展有了一个初步的印象。下面就我的认识谈一谈肤浅的看法。首先,在国外,光学薄膜的商品生产、发展研究和偏重于基础性的理论研究这三个层次是可以感觉得到的。目前光谱范围从紫外1200(?)到红外5.5μm甚至更远,各类滤光片已有系列的商品生产;光学薄膜的制造基本上摆脱了依赖手艺、技巧和碰运气的状态,已进入了工业规模的生产。参观Baush＆Lomb公司的     

96091光电技术研讨及学术交流会部分论文文摘

９６０９１光电技术研讨及学术交流会部分论文文摘红外焦平面系统中的ＭＴＦ计算杨国伟，关永贵（南京理工大学电光分院）调制传递函数（ＭＴＦ）是一种较好的评价系统成像质量的参数。因为它反映了景物或图像的光学对比度与空间频率的关系，包含了衡量图像质量的参数，包...     

离子镀技术在光学薄膜中的应用

光学薄膜的制备有真空蒸发、反应蒸发、溅射、等离子体淀积及离子镀等方法。离子镀技术在1963年美国马托斯提出后,经过二十年的发展,已成为将真空蒸发和溅射相结合的制备薄膜的新颖而获得广泛应用的工艺。它在航空工业、机械制造工业、轻工业、电子工业及光学工业等部门中,已显示出了巨大的优越性。这种工艺相对于其它制备薄膜的技术来说,具有许多独特的优点:(1)沉积速率快,蒸发料粒子电离后,动能可达3000～5000eV,沉积速率可达0.24～1μm/min,而溅积仅只达～0.1μm/min;(2)附着力好,粒子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体的     

光学薄膜元件的激光预处理技术

激光预处理技术作为一种提高激光约束核聚变装置中光学元件损伤阈值的有效方法,有重要的使用价值和学术价值。介绍了激光预处理的研究现状,重点介绍了小光斑光栅扫描预处理的方法及其应用,以及应注意的问题。讨论了几种被广泛认可的预处理增强机理,并对激光预处理技术进行了展望。     

背投显示技术及其用光学薄膜

对比了背投领域几种主要技术的原理和性能特点，同时介绍了多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用，参数和光学性能；并针对该领域国内外最新研究状况进行了调研，给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。     

邮电部光纤通信专业情报网第九次技术交流会论文摘要

<正> 1993.9.7～1993.9.17在日内瓦国际电信联盟总部召开了ITU—T(原CCITT)第15研究组(SG15)会议,同时也召开了各工作组会议。SG15是传输设备与系统研究组:第1工作组(WP1)是视听设备组;第2工作组(WP2)是信号处理组;第3工作组(WP3)是复用设备组;第4工作组(WP4)是光传输设备与系统组;第5工作组(WP5)是传输网络管理组。     

第七届全国红外科学技术交流会专辑 作者索引

(以姓氏笔划为序)丁慧丁素珍于梅芳于福聚马可军马翼柱马波云王新德王民王绍泽王秀珍王旭升.王戎兴王家库王跃王留福王宝龙王宫俊方湖宝方晓明方家熊史向华乐洪发白淑华白自强田种运田如钧孙家龙孙及孙风桐孙秀英司承才刑作清朱三根朱龙源朱中权D4:A22泣29;通1,进砚卢3;刀9;刀3;迁20,AZ注;Cl,.CZ;口6;刀工3;口8;A41;A28;D6;D1;’E2;BZ;CS;A27;A32, A39,进42;A36;A4;B14;Cg;刀3;刀6;刀4;A42;B13;A3O;A40;E7;A42;A4O;C禽朱又迈EZ;汤定元A17, A31,五32,五33华新德湘1;刘兆鹏通38;·刘成赞那;刘激呜1 d4,过11,.A肠关振东通8;李…