前驱气体CH4,N2的流量比对CHx,膜Raman谱的影响

沉积在Ｓｉ（１００）基片上的ＣＮｘ膜是用微波等离子体化学气相沉积法（ＭＷＰＣＶＤ）制备的，本文着重探讨了ＣＨ４，Ｎ２的流量比对ＣＮｘ膜的Ｒａｍａｎ谱的影响，并采用Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）方法分析了ＣＮｘ膜的化学状态。     

前驱气体CH_4、N_2的流量比对CH_x膜Raman谱的影响

沉积在Ｓｉ（１００）基片上的ＣＮｘ膜是用微波等离子体化学气相沉积法（ＭＷＰＣＶＤ）制备的。本文着重探讨了ＣＨ４、Ｎ２的流量比对ＣＮｘ膜的Ｒａｍａｎ谱的影响，并采用了Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）方法分析了ＣＮｘ膜的化学状态。     

有机及有机金属化合物薄膜电开关特性

综述了在电场下由绝缘态到导电态的电开关记忆特性的几类化合物薄膜，包括聚苯乙烯及其衍生物的辉光放电聚合膜，酞菁铅和ＴＣＮＱ及其衍生物的电荷转移复合物的真空蒸发膜，乙酰丙酮铜的弧光放电等离子体聚合膜，１，３－二硫杂环戊烯－乙硫醇类过渡金属配合物的电沉积膜，含大共轭ＩＩ链有机化合物及偶氮化合物怀ＴＣＮＱ的电荷转移复合物的Ｌａｎｇｍｕｉｒ－Ｂｌｏｄｇｅｔｔ（ＬＢ）膜，以及用离子团束－飞行时间质谱仪制备的Ｃ     

非晶CN薄膜的制备及性质

采用磁过滤真空溅射离子沉积技术制备了一组非晶ＣＮ薄膜，利用红外光谱，紫外－可见吸收光谱和电导测量研究了其光学和电学性质，用Ｘ射线光电子能谱确定膜中Ｎ的原子百分比，结果表明ａ－ＣＮ膜有２２００，１５００和１３５０ｃｍ＾－１三个吸收带，表明Ｃ和Ｎ是以化学共价键形式结合的。这种膜有较宽的光能隙４．１４ｅＶ，极代的电导率１０＾－１５（Ω．ｃｍ）＾－１，膜中Ｎ原子百分比最大为４７％。     

类金刚石（DLC）膜的制备技术概况

综述了类金刚石膜的制备方法，以及各种制备方法的基本原理和特点，并分析了各种方法对膜的结构和性能的影响。     

中国化工新材料最新专利信息

发明名称公开号公开日申请人电子器件和介电陶瓷组合物以及其制备方法ＣＮ＿1 30 2 0 70Ａ 2 0 0 1 0 70 4ＴＤＫ株式会社有机离子选择性膜ＣＮ＿1 30 2 2 2 3Ａ 2 0 0 1 0 70 4马丁·Ｊ·帕特科低Ｋ介电无机 /有机复合薄膜及其制造方法ＣＮ＿1 30 2 2 54Ａ 2 0 0 1 0 70 4硅谷集团热系统责任有限公司丙烯酸酯类预混料、丙烯酸酯类人造大理石及其制备方法ＣＮ＿1 30 2 2 81Ａ 2 0 0 1 0 70 4三菱丽阳株式会社有机金属配合物分子及使用该配合物分子的有机电致发光器件ＣＮ＿1 30 2 30 2Ａ 2 0 0 1 0 70 4ＬＧ化学株式会社聚合物、粘结剂树脂…     

纳米多层膜制备概述

纳米多层膜具有很多特殊性能，得到了广泛的应用。阐述了多种纳米多层膜的制备方法，主要包括电化学沉积法、物理和化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、组装技术以及其它制备技术。大量研究和试验表明，不同的制备方法得到的多层膜具有其特殊的性能。     

镁合金表面类金刚石膜的研究进展

类金刚石碳（DLC）膜具有高硬度、低摩擦系数、强化学惰性及生物相容性好等优异性能，镁合金表面制备DLC膜可极大地改善基体的使用性能。综述了采用不同制备技术在镁基体表面获得的多种DLC膜系的抗磨损及耐腐蚀性能，并展望了DLC膜表面改性镁合金的医用前景，指出镁合金表面制备DLC膜是其表面改性技术中具有前景的一个研究方向。     

金刚石薄膜与基材之间过渡层技术的研究

通过ＴＥＭ观察发现在金刚石膜与单晶硅片，金刚石膜与ＡｌＮ陶瓷之间存在一层过渡层，过渡层的存在为金刚石的形核及生长提供了有利的条件，受此启发，为了改善金刚民基材的结合强度，采用磁控溅射，空心离子镀，真空蒸镀等方法在Ｍｏ片上沉积ＴｉＣ，ＴｉＣＮ（Ｃ／Ｎ＝１／２）ＴｉＣＮ（Ｃ／Ｎ＝１／１０）等薄膜，研究了它们对金刚石膜与基材的结合强度的影响。     

低电阻ITO透明导电膜的制备和应用

锡掺杂的铟锡氧化物透明导电膜（简称膜ＩＴＯ）是一种面电阻率低，透光率高，导电性能好的膜层，近年来在国内外发展较快，其制备方法较多。本文就采用磁控溅射法制备ＩＴＯ 膜的设备及成膜过程中的若干工艺问题进行了探讨。     

用于氧氮分离促进输送膜的研究

报道对氧的促进输送膜的研制和膜的性能测定工作以Ｃｏ（３ＦＳａｌｅｎ）为氧载体，用简便的方法制备了聚砜－硅橡胶－氧载体复合膜；研究了制备方法和制备条件对膜渗透和分离性能的影响实验结果表明，促进输送膜能有效地在提高氧氮分离系数αＯ／Ｎ的同时，也提高了膜对氧的透气速率ＰＯ．采用混合固体氧载体的制膜方法也有独特的优点．     

有于氧氮分离促进输送膜的研究

报道对氧的促进输送膜的研制和膜的性能测定工作。以Ｃｏ（３ＦＳａｌｅｎ）为氧载体，用简便的方法制备了聚砜－硅橡胶－氧载体复合膜；研究了制备方法和制备条件对膜渗透和分离性能的影响。实验结果表明，促进输送膜能有效地在提高氧氮分离系数α０／Ｎ的同时，也提高膜对氧的透气速率Ｐ０，采用混合固体氧载体的制膜方法也有独特的优点。     

无氢类金刚石碳膜的研究进展

介绍了无氢类金刚石碳膜的制备方法，它们的机械、光学、电学性能，将无氢与含氢的类金刚右碳膜进行了简单比较，总结及探讨了它们的应用。     

低成本YSZ电解质膜管的制备和性能研究

用真空注浆法制备出膜厚为0.2mm的8mol%YSZ电解质膜管，用排水法、SEM和复阻抗等分析手段研究了YSZ电解质膜管烧结密度、表面形貌及其电导性能，确定了可使YSZ电解质膜管获得最佳烧结性能的烧结温度。研究结果表明，真空注浆法是一种制备高烧结性能YSZ电解质膜管的简单方法。用这一方法已制备出相对密度为98.1%、长度为254mm的致密YSZ电解质膜管，其烧结温度范围比传统注浆法制备YSZ电解质管降低了190～200℃。研究还表明，随烧结温度升高，样品致密度增大，导电性能也逐渐提高。经1600℃烧结2h样品的烧结密度和导电性能均达到最佳值；进一步提高烧结温度，样品的致密度和电学性能均有所下降。     

多弧法沉积Ti（C,N）膜中的CN相

在高速钢基片和〈１００〉单晶硅片上，用多弧法在Ｃ２Ｈ２，Ｎ２，Ａｒ的气氛中电弧蒸发Ｔｉ靶来制备沉积Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜。总气压在１．２Ｐａ内，起始镀膜温度为２６０℃。Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜的晶格取向以除了〈１１１〉，〈２００〉，〈２２０〉外，还出现一些新的衍射峰，配合ＸＰＳ成份分析，本文认为Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜中有ＣＮ结构相存在。随着Ｃ２Ｈ２／Ｎ２流量比的增加，膜中增加了ＴｉＣ、ＣＮ结构超硬相和石墨相，从而导致     

感光性丙烯腈共聚物超滤膜的制备

以感光性单体和丙烯腈共聚合成了共聚物膜材料，并制备出具有光敏特性的超滤膜；扫描电子显微镜图像显示所制备的高聚物膜具有超滤结构；膜的透过实验表明，所制备的膜具有较高的纯水通量及对蛋白质截留率，并初步探讨了铸膜液浓度对膜性能的影响．     

聚氨酯分离膜的研究进展

从制备方法、结构与性能等几个方面阐述了聚氨酯分离膜的研究及开发应用现状，指出和讨论了聚氨酯分离膜在开发应用中存在的问题及研究与发展趋势．     

聚丙烯酸/聚砜交联复合膜的反渗透分离性能的研究Ⅰ.膜的制备及其对多种有机物水溶液的分离性能

用TDI交联剂交联的方法，进行了聚丙烯酸／聚砜交联复合膜的制备，研究了交联剂，添加剂对膜性能的影响，并通过扫描电镜观察了膜的截面结构，研究了该膜对多种有机物水溶液的分离性能。     

新型超硬材料——“BCN”研究进展

介绍了当前国际上制备石墨结构“ＢＣＮ”的方法和符合实验事实的类石墨结构“ＢＣＮ”的层内原子排布模型及其理化性质，综述了“ＢＣＮ”由类石墨结构向类金刚石转化的进展。     

锂铁氧体表面沉积Cu-Ti复合金属波导膜系的工艺

采用磁控溅射镀膜方法，在锂铁氧体材料表面，制备了Cu-Ti复合金属波导膜系，本文简单介绍了设备的改造特点，对整个工艺过程进行了分析研究，对制备的Cu-Ti复合金属波导膜系进行了性能测试，结果表明，用该工艺所制备的波导膜系性能指标达到微波器件的要求。