镀膜玻璃真空夹具的研制

为使浸渍于溶液中的玻璃基片仅仅一面形成镀膜，研制了一种玻璃真空夹具。论述了这种夹具的总体结构、密封形式和影响玻璃密封的若干因素。     

离子轰击在玻璃蒸发镀膜中的应用

提出了在蒸发镀膜玻璃中引入离子轰击的方法，阐述了蒸发镀膜过程中离子轰击的工作原理，并运用断面电子描描显微观察，评价了离子轰击对薄膜附着性能的影响。     

ZnS陶瓷红外增透膜研究

本文讨论了ZnS陶瓷材料两个波段(3-5μm和8-12μm)的透过特性,采用非λ/4系的双层膜系设计,并优化了膜系设计方案,编制了相应的计算程序,在此基础上计算出符合要求的双层膜系的参数,并以ZnS为基片制备了双层双面镀膜样品.测试结果红外(3-5μm和8-12μm)透过率超过70%.     

End—Hall离子源及其辅助镀膜技术

由西安工业大学自行研制的End-Hall离子源，已经成功在离子辅助镀膜中镀制了ZnS，MgF2，SO2等薄膜，其光学性能，耐磨，耐酸，碱等性能大大提高，近几年来利用中空离子源采用CH4气体成功镀制出类金刚石薄膜红外线光学保护膜材料．     

汽轮机叶片阻尼涂层减振研究

研究了汽轮机叶片镀金属薄膜后叶片的阻尼减振性能，将汽轮机叶轮合理简化后通过ug软件建模，运用ANSYS软件，对相同厚度的铝、钛、铝钛薄膜叶片试件及不镀膜的叶片试件等4种模型的整体叶盘进行模态分析，得到振型图和固有振动频率，从整体上观察叶轮的易损部位；对单个叶片进行谐响应分析，进一步分析4种叶片在外加同一载荷情况下的形变量，讨论其阻尼减振效果。结合实验结果，利用动态机械热分析仪（DMA），对镀铝、镀钛、先镀铝后镀钛处理的试件及不镀膜试件进行分析，检测涂层的阻尼性能。结果表明，镀膜后的叶片各阶模态的形变量均小于未镀膜叶片，对叶片镀膜具有一定的减震阻尼效果。     

脉冲离子镀膜中的脉冲计数

在脉冲真空电弧离子镀膜过程中，膜层厚度的控制至关重要．由其镀膜机理可知，膜层厚度与脉冲放电次数之间成线性正比关系，可以通过对脉冲放电次数进行计数的方法达到控制膜层厚度的目的．然而，脉冲计数的准确性受到很多因素的影响，分析认为主要是由外界电磁干扰和多斑点的产生引起计数的不准确．为此，采用了加入延时电路的方法提高计数的准确性．实验表明，采用这种计数电路减少计数误差是可行的，并能将误差控制在5％的范围内，能够很好的满足薄膜沉积的工艺要求．     

多弧离子镀装饰膜工艺研究

本文介绍了多弧离子镀用于不锈钢钟表表面镀TiN薄膜的工艺过程和主要参数，以及镀TiN薄膜钟表的基本物理和化学性能的检测结果，并通过实例说明镀膜工件所具备的各项优点，对影响镀膜工件质量和使用效果的因素进行了分析讨论．     

光学透射元件双面减反射膜的非对称性及其分析

分析了由于光学透射元件双面减反射膜不对称所引起的光学性能变化，以双面镀膜的平均玻璃模型为例，对ＭｇＦ２薄膜进行了计算和分析，得到了不同工作条件，不同要求下的双面膜厚度的许可误差容限。     

类金刚石红外增透膜、保护膜镀制技术

该技术是由西安工业大学研究开发,利用物理气相沉积法实现薄膜镀制,与化学气相沉积法相比具有膜层性能稳定、在3．4um无吸收峰、方法简单且能在大面积基片上镀膜的优点．现可用于镀制类金刚膜、氮化钛、碳化钛、钼、钨、等膜,这些膜在光学、电子、表面改性、润滑、装饰等领域有广泛应用．     

气相沉积法的薄膜制备研究

对薄膜的应用现状、气相沉积法制备薄膜的常规方法及高能精密薄膜制备方法作了综述.认为开发薄膜复合处理工艺,实现制膜过程精密控制,以及节能环保的绿色镀膜将会成为薄膜制备新的趋势.     

脉冲多弧离子源所镀膜层均匀性的实验研究

为了解决脉冲多弧离子源镀制膜层的均匀性问题,文中首先分析了不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸、不同引弧方法以及不同基片距阴极的距离引起所镀膜层透过率曲线的改变,进而讨论了脉冲多弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响．采用在基片下加一个圆筒形负电位电极实现了脉冲多弧离子源镀膜的均匀性．实验结果表明,在直径７０ｍｍ范围内透过率相对误差为±６．７％,小于所要求的±１０％．     

Al-Al2O3-Ni隧道结中的表面粗糙度效应

用真空蒸发镀膜法在光滑的玻璃基片和粗糙的CaF2薄膜表面上制备了Al-Al2O3-Ni隧道结，观测了CaF2薄膜的表面粗糙度对隧道结伏安特性的影响，首次观测到这种界面粗糙结的光发射．采用梯形势垒模型计算伏安特性，并与实验伏安特性拟合，得到了结的有效势垒参数．结果表明，与界面光滑的结比较，界面粗糙的结的有效势垒宽度较窄，有效势垒面积较小．这可归因为在粗糙的Al2O3表面投射式的沉积Ni原子时，在Al2O3-Ni界面留下了空隙．同时分析了结的发光机理，讨论了影响发光效率的因素．     

类金刚石薄膜在红外光学材料中的应用

用脉冲碳离子源直接在ＮａＣｌ和ＫＢｒ晶体表面镀制了类金刚石薄膜．用红外光谱仪进行测试，晶体两面镀膜后在２５～２０μｍ波长范围内平均透过率达到８４％，最大透过率达９０％．     

微波法金刚石膜的均匀沉积

采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气和甲烷为主要反应气源进行了大面积金刚石膜的沉积,研究了基片温度、微波功率和沉积气压对大面积金刚石膜均匀性的影响.采用红外测温仪测量基片不同区域的温度,利用扫描电子显微镜表征金刚石膜不同区域的表面形貌.结果表明:较高的微波功率有利于提高金刚石膜的沉积面积和沉积质量,但随着微波功率的提高,基片温度的均匀性也逐渐降低.在对装置的基片台和天线结构进行优化改进后,获得了均匀性较好的基片温度.在改进后的装置中产生的等离子球状态稳定,利用合适的工艺参数沉积得到了均匀性较好的大面积金刚石膜.     

TiO2镀膜次数对清除乙烯气体的影响

用溶胶．凝胶方法，将TiO2薄膜浸渍涂膜在玻璃管上，通过自制的反应器对一定浓度的乙烯气体进行清除实验，利用气相色谱检测乙烯气体浓度的变化，并利用UV-vis，AFM对管载TiO2薄膜进行表征。实验结果表明，TiO2三次镀膜对乙烯具有良好的清除作用。     

纳米银的制备及其在抗菌玻璃中的应用

选用硝酸银为原料,硼氢化钠为还原剂,室温下制备了平均粒径为31 nm的银颗粒并对其抗菌性能进行了检测,结果表明:纳米银对大肠杆菌具有良好的抗菌性能.以石英玻璃基片为载体,带负电荷的氧化石墨烯为模板,采用简单易操作的提拉法,依次提拉氧化石墨烯溶液和银溶胶,制备具有抗菌功能的镀膜玻璃.     

磁控溅射头罩镀膜膜厚分布模拟

尽管有很多模模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实际头罩均匀镀膜的模型，并对不同的模型进行了计算机模拟，找出了实现头置均匀镀膜的最佳方式，并得到了实际验证。     

光学塑料元件耐磨涂层的制备工艺研究

为了提高光学塑料表面的耐擦伤强度，本文采用溶胶－凝胶法，在光学塑料表面上镀制了具有一定耐磨性和强度的耐磨涂层，并介绍了光学塑料表面预处理的方法和采用溶胶－凝胶法在化学镀膜机上制备耐磨涂层的基本工艺；还着重描述镀膜液的制备和影响镀膜的各种因素。     

磁控溅射法沉积TiO_2薄膜及其防雾性能研究

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备TiO_2薄膜。应用XRD物相分析法测定薄膜的组成,通过有色液滴扩散法及水滴凝结速率和温度差的方法检测薄膜的亲水性能及防雾性能。研究结果表明:镀膜有效地阻止了液滴的扩散,促进了水雾的消散,能起到较好地防雾作用。     

管载二氧化钛凝胶镀膜光催化清除乙烯气体

报道了用sol—gel方法在玻璃管上制备二氧化钛薄膜对清除乙烯气体的光催化实验，研究了二氧化钛一次镀膜对乙烯浓度随催化反应时间的变化关系。结果发现．二氧化钛镀膜有较好的清除乙烯的效果，当反应进行到46h时乙烯气体的色谱峰完全消失．即乙烯气体已经被完全清除掉．对相同处理条件下的二氧化钛粉体做XRD分析知该条件下的二氧化钛为锐钛矿晶型。