投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展

阐述了投影光刻机调焦调平传感器的重要作用及其技术进展,详细介绍了国际上典型的调焦调平传感器,并对多种传感技术的光学原理和关键技术进行了分析和比较。     

基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统的研究

介绍了一种基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统,讨论了其检测和控制原理.介绍了调焦调平系统的光学结构,并建立起了理想的单点高度测量与整场调焦调平的算法模型.     

硅片调焦调平测量系统测试平台

硅片调焦调平测量系统测试平台用于对光刻机硅片调焦调平测量系统的性能进行检测。该平台模拟硅片调焦调平测量系统在光刻机中的测量对象的运动和工作环境,由三自由度运动台吸附硅片模拟光刻机工件台的垂向运动,采用比较激光干涉仪和硅片调焦调平测量系统同时对硅片测量的结果作为其性能的评估依据。该平台测量精确可靠,可以用于精度、分辨率和重复性等性能指标的检测。     

用于调焦调平测量系统中的硅片表面形貌模型

以硅片表面的平整度(flatness)和硅片表面的全场厚度范围(TTV)等参数为基础,建立了硅片表面的理论形貌模型。根据调焦调平测量系统指标等确定了调焦调平测量系统的有效频带,并设计了相应的滤波器。对硅片表面的理论形貌进行滤波后,得到用于调焦调平测量的硅片表面形貌的模型。由于该模型包括硅片表面在一个曝光视场内的模型和全场模型,并以SEMI标准和ITRS预测的相关参数为基础,因此不受实验条件影响,适用范围广,可用于调焦调平测量系统的模拟测试以及相关光刻工艺的分析。     

投影光刻机TTL对准原理与故障分析

论述了ASML公司某型投影光刻机TTL对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维修经验总结了对准系统的常见故障,并给出了分析以及解决方法。     

采用激光干涉测量法进行芯片调平调焦

采用Ｓ偏振光和大入射角激光束干涉测量技术，检测ＬＳＩ圆片表面的芯片调平和调焦精度的方法已获得成功，在圆片上各层均能保持良好的调平调焦精度。这种检测方法的试验型，已实现了±１０×１０－５的弧度调平精度和±０１μｍ的调焦精度。     

亚半微米投影曝光机的逐场调焦调平技术

介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调焦调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细地阐述各技术原理、组成及能达到的精度，分析各种方法的优缺点和主要实用范围，为自主研制亚半微米分步重复投影曝光机的逐场调焦调平系统提供了参考方案。     

分步重复投影光刻机同轴对准数据处理

介绍了０．８～１．０μｍ分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理，详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法，并给出实际测试结果。     

先进封装步进投影光刻机焦深研究

对先进封装步进投影光刻机的焦深进行评估.投影光刻机是IC制造与先进封装行业的关键设备,对后道封装而言,厚胶工艺是典型工艺,最厚部分可达0.1mm以上,大焦深能够保证光刻机容纳各种工艺误差,能够保证封装光刻机用于曝光厚光刻胶时仍拥有较好的侧壁陡度.     

MOCVD的原理与故障分析

介绍了MOCVD法的基本原理、生长步骤以及主要优缺点;并以某型号MOCVD设备为例,介绍了其主要结构组成,分析了影响MOCVD工艺的主要因素,结合维修经验总结了MOCVD的常见故障现象以及相应的解决方法 。     

磁控溅射镀膜的原理与故障分析

介绍了磁控溅射镀膜的种类及特点。以直流磁控溅射为例,介绍了其结构、原理,分析了影响磁控溅射工艺稳定性的因素。最后总结了磁控溅射镀膜工艺中常见的故障以及解决方法。     

基于动态规划的对焦步进电机控制

为了解决STM(stepper motor)镜头中步进电机低频对焦慢、高频失步跑焦的问题,通过分析对焦过程中电机的加减速动作,结合步进电机加减速曲线,设计了一种适用于STM镜头驱动的步进电机开环控制算法.算法根据步进电机速度在单位控制周期内不变,把步进电机位置控制问题转换为单位控制周期内脉冲输出问题,实现了速度控制与位...     

基于模糊控制的步进电机开环调焦系统设计

针对红外热像仪对调焦机构高精度、高可靠性的要求,本文提出了一种基于模糊控制的步进电机开环调焦控制系统.该系统主要由TMS320F28069微控制器、TMC260步进电机驱动芯片及外围电路构成.为了实现调焦系统精确定位的需求,文中陈述了基于模糊控制的步进电机速度控制策略,给出了系统的硬件电路设计.经过实际测试,结果表明该系统可以满足实际使用要求.     

双工件台光刻机中的调平调焦技术

随着光刻机分辨力的提高,其焦深日益缩小。针对如何充分利用有限的焦深完成Si片的高效曝光,对步进扫描光刻机和双工件台光刻机的调平调焦原理进行了介绍,主要包括基于双光栅的检焦测量原理及检焦扫描路径规划,把Si片表面高度信息转化为离焦量和倾斜量等调平数据的算法,以及曝光位置实现调平调焦的伺服控制系统等,并从理论上对两系统的优缺点进行了对比。最后利用一组调平实验结果说明了双工件台系统调平调焦技术的优越性,指明了调平调焦技术的发展方向。     

远程故障诊断系统的排队论分析

引入随机服务系统,分析了远程故障诊断系统,建立了基于等待制的M/M/C/∞排队系统模型,并由此分析得到排队队长和等待时间等系统运行的指标。为平衡客户对故障诊断及时性的要求与系统维护费用之间的关系,根据排队等待时间和诊断服务器数量的关系,结合服务器的有效利用率,提出确定服务器最佳配置数量的方法。并以变频器的远程故障诊断系统为例,根据客户要求的等待时间数量级确定了服务器的合理配置。