一种纳米晶合金中缺陷特征的正电子湮没寿命谱研究

用正电子湮没寿命谱仪测量和分析了Fe73.0Cu1.0Nb1.5Mo2.0Si13.5B9.0合金，该合金纳米晶化后有两类组织结构：一类是非晶结构，另一类是纳米晶结构；从缺陷形式上讲也有两种，一种是类空位，另一种是含有十来个单空位的空位团。类空位缺陷位于非晶区，空位团位于纳米晶区和晶粒的界面。Fe73.0Cu1.0Nb1.5Mo2.0Si13.5B9.0合金在非晶态时原子高密度区域与原子低密度稀释区域的分数之比约为1．44：l；纳米晶化后，经过480℃、500℃、540℃、580℃热处理，其类空位与空位团浓度的分数之比约为0．7：1。     

关于纳米晶材料微结构的正电子湮没研究

概述了正电子湮没技术，特别是正电子湮没寿命谱仪在纳米晶材料微研究中的应用。     

新型超微晶软磁合金FePCCuMoSi微观结构缺陷的正电子湮没研究

用正电子湮没方法研究了新型超微晶软磁合金的微观结构缺陷，样品选用的是在不同温度下退火的Ｆｅ８１Ｐ１２Ｃ３Ｃｕ１Ｍｏ０．５Ｓｉ２．５合金，结果表明，合金的微观结构构陷大小，密度随退火温度有规律地变化，这种现象可能与非晶的晶化过程有关。     

正电子湮没技术原理及应用

主要介绍了正电子湮没技术的基本原理、基本实验方法,并对正电子湮没在点阵缺陷、相结构与相转变、非晶和纳米晶合金研究中的应用作了简单说明.     

TiNi记忆合金中缺陷作用的正电子湮没研究

针对ＴｉＮｉ形状记忆合金研究中所遇到的一些带有普遍性的实际技术问题,本文用正电子湮没方法系统地测量了不同成分和不同状态的试样,分析了合金中的缺陷及其对宏观性能变化的贡献,提供了传统技术所难以和不能提供的信息。     

关于合金中微小沉淀相的正电子湮没研究

用正电子湮没技术和若干金属物理方法相结合测量了几种工程合金，表明正电子湮没技术可以有效地探测微小沉淀相的存在，可为它的进一步深入研究提供很好的基础。     

CuZnAl合金空位的正电子湮没研究

本文用正电子湮没Ｄｐｐｌｅｒ展宽能谱技术，并结合正电子湮没寿命谱仪研究了Ｃｕ２３ａｔ．％Ｚｎ－１０ａｔ．％Ａｌ形状记忆合金的空位，给出了该合金的表面空位形成能及不同温度淬火所保留的非平衡空位浓度。     

Cu—Zn—Al合金中转变的正电子湮没研究

本文用正电子湮没Doppler展宽能谱和其它相关技术分析Cu-23 at％Zn-10 at％Al形状记忆合金不同温度淬火后的试样表明,该合金除了于700～600℃有α相变外,在550～500℃和300～250℃还有两个转变,前者可能是无序β相向有序B_2相的转变,后者可能是有序B_2相向有序DO_3相的转变。正电子湮没Doppler展宽能谱对。相变不敏感,但对有序转变敏感。     

淬火CuZnAl合金的正电子湮没寿命谱

本文分析了９００℃、７５０℃和７００℃淬火后Ｃｕ－２３ａｔ．％Ｚｎ－１０ａｔ．％Ａｌ合金试样的正电子湮没寿命谱，其中长寿命τ２始终维持在１８５ｐｓ左右的数值，表明该合金淬火后保留有大量的单空位，母相态下尽快消除这些空位有助于避免和改善铜基形状记忆合金的热弹马氏体稳定化现象。     

高导磁纳米晶合金的磁特性研究

选取FeCuNbCrVSiB纳米晶样品,在特定条件下,测试不同温度时的μa-T曲线、Pcm-T曲线。试验结果表明,纳米晶合金的双相结构使其在不同的温度条件下受到不同影响,产生变化差异,所以在不同温度条件下的磁导率和损耗特性不同。通过对高导磁FeCuNbCrVSiB纳米晶合金磁性能参数的测量、分析,从纳米晶的微观组织结构和宏观磁特性紧密相关的角度,探讨了新型FeCuNbCrVSiB纳米晶合金的结构与磁性之间的依赖关系,对新型纳米晶合金具有独特的结构和优异的软磁性能的本质进行了讨论,并对如何提高纳米晶合金的磁性能作了探讨。     

非晶纳米Ni-P/PTFE合金镀层的晶化动力学及耐蚀性能

在化学镀Ni-P溶液中添加纳米聚四氟乙烯(PTFE)颗粒,沉积获得磷含量为9%(质量分数)的高磷NiP/PTFE合金镀层,以考察该合金的晶化动力学特性及其耐腐蚀性能。综合单晶X射线衍射及差热分析(DSC)的结果表明,获得的镀层结构为非晶态与纳米晶的混合结构,较非晶态合金的晶化活化能低。纳米PTFE颗粒的存在可能提高了该结构合金的晶化温度。热处理后的Ni-P/PTFE合金的耐腐蚀性能增强与其所形成的钝化膜有关。     

用正电子湮没方法探测铜基合金中有序无序转变

用正电子湮没Ｄｏｐｐｌｅｒ展宽能谱，结合金相显微镜和示差热分析方法分析了一系列在不同温度处理然后淬入温室水中的Ｃｕ－２３ａｔ％Ｚｎ－１０ａｔ％Ａｌ合金试样。结果表明；该合金在９００℃处理后，降温过程中分别于７００℃～６００℃，５５０℃～５００℃，３００℃～２５０℃。发生了相变，第一个是α相变，第二和第三个是无序一有序转变，正电子湮没方法地该合金中的α相变不敏感，但对该合金中的有序－无序转变敏感。     

铁基纳米晶合金的高频磁性能研究

分析了纳米晶Fe72.5Cu1Nb1.5Mo1.5V1Si13.5B9合金在Bm=0．05T～1．0T、f=20kHz～1000kHz范围内的铁损，以及f=0．5kHz～1000kHz范围内的幅值磁导率行为。主要阐述了铁损与f和Bm的关系，以及在固定的Bmf值情况下，给出铁损大小估算的关系式和合金的频散行为。     

镍氢电池负极用纳米晶稀土贮氢合金的性能研究

对采用双辊快淬法制备的纳米晶稀土贮氢合金Ml(NiCoMnAl) 5相结构、贮氢性能和电化学充放电性能进行了研究分析。X射线衍射分析 (XRD)结果表明 ,合金片由均匀的CaCu5相组成 ,其晶粒尺寸平均为 2 0～ 40nm。PCT测试表明 ,该合金具有很好的平台特性和较小的滞后效应。将合金粉压成极片组装成模拟电池以 3 0 0mA·g- 1 (1C)电流充电 ,分别以 2 0 0 0mA·g- 1 (7C)和 3 0 0 0mA·g- 1 (10C)电流放电至 0 .9V和 0 .8V ,其电化学容量分别达到 2 5 0和 2 3 0mAh·g - 1。在 7C放电情况下 ,经 45 0循环后 ,容量衰减率小于 2 0 %。     

Cu—Zn—Al合金不同制度热处理后时效的正电子湮没研究

测量了Cu-23at％Zn-10at％Al合金四种热处理制度后时效过程中的Doppler展宽能谱线形参数及时效前后的恢复率,表明尽快消除第一次高温淬火所不可避免地给试样引入的过饱和空位对避免热弹马氏体稳定化是十分关键的。     

纳米晶难熔金属高密度钨合金的研究现状及应用发展前景

综述了近几年来难熔钨合金在纳米晶材料方面的研究状况,介绍了纳米钨合金在粉末制备和烧结中存在的问题,指出了今后该种新型材料的应用发展前景。     

TiNi合金可逆记忆效应的正电子湮没研究

用正电子漂没Ｄｏｐｐｌｅｒ展宽能谱仪测量了若干具朋可逆形状记忆效应的Ｔｉ－５１．０ａｔ．％Ｎｉ合金试样。发现：凡可逆形状记忆效应好的试样都含有结构缺陷，这一点与文献报道的一致；但是；并不是所有包含结构缺陷的试样都能给出好的可逆形状记忆效应；要获得好的可逆形状记忆效应，试样中的结构缺陷在密度上必须适量，不多不少，数量太多或太少的试样都不能产生好的记忆性能。     

纳米晶高密度钨合金的研究进展

介绍了近几年来纳米晶钨基高密度合金的研究状况,讨论了粉末制备的机械合金化法、喷雾干燥法和反应喷射工艺法,同时详细讨论了粉末的注射成形以及包括固相烧结、二步烧结在内的烧结工艺.最后,从这些方面分析了影响纳米晶钨合金性能的具体因素,以及对高密度钨合金今后的发展方向提出了建议.