等离子体化学气相沉积TiN膜的研究

采用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Si(100)和Si(111)基体上沉积TiN膜,并对膜的晶体结构、表面形貌、断口结构、显微硬度、氯含量等进行了测定和分析,部分样品进行了二次离子质谱(SIMS)、Auger谱(AES)和X光光电子谱(ESCA)等分析.试验表明:在不同基材上沉积的TiN膜,只要沉积参数相同,膜的结构和性能都相同.在沉积温度500℃左右,TiN膜的生长方式有一转变,即可能是由层生长转变为岛状生长.直流PCVD法生成的TiN膜,其N:Ti≈1:1,有强的(200)织构,膜与基体间有较宽的共混区,因而结合强度高和耐磨性好,适于用作耐磨镀层.     

等离子化学气相沉积 TiN 涂层的组织与性能研究

本文用透射电镜和 X 光衍射仪揭示了等离子化学气相沉积(以下简称等离子沉积法)TiN 涂层的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。     

不同PVD技术沉积TiN涂层的形貌和力学性能研究

本文采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层。通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比。结构表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低。     

铂族金属化学气相沉积

化学气相沉积（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ,ＣＶＤ）技术可用在高熔点金属如Ｍｏ、Ｒｅ、Ｗ等表面制备结合力好的铂族金属涂层。用ＣＶＤ法可得到具有微细晶粒的致密金属（无针孔）涂层,可制成大形状和形状复杂的制品,也可用于合金涂层的制备。本文介绍了该项技术的国外发展概况,并以高温抗氧化铱涂层（可耐受２０００℃高温）为代表,叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤     

激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜

研究了在W18Cr4V高速钢基体上，用CO2连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能600W，在H2、N2、TiCl4反应系统中沉积出TiN薄膜，薄膜的颜色呈金黄色，显微硬度为2500HV。     

钢中含碳量对化学气相沉积TiN涂层的影响SCIEI

在不同含碳量的钢基体上化学气相沉积TiN层,其沉积速度随基体含碳量增多而线性增大.TiN层的X射线衍射和扫描电镜能谱分析表明,除TiN衍射峰外,还有α Fe衍射峰。沉积温度升高,在Cr12MoV基体上TiN(220)面择优成长增加.TiN层表面白亮区和层内部只有Ti能谱,黑暗区则有Ti和Fe能谱。     

用TiCl3低温化学气相沉积TiN的实验研究

从热力学分析中论述了ＴｉＣｌ３与Ｎ２在低温下反应形成ＴｉＮ的可行性、并通过ＴｉＣｌ３的制备及沉积试验，在４５０－６００℃温度范围内在钢基材上获得了ＴｉＮ的涂层。文中对实验装备与试验过程作了简介，对钢基工模具上应用ＴｉＮ涂层将起到积极作用。     

内表面等离子体增强化学气相沉积TiN涂层研究

介绍了一种新型等离子体增强化学气相沉积内表面复合处理系统.利用此系统沉积TiN涂层的结果表明,φ100 mm×1000 mm 316不锈钢管内表面沉积涂层相对均匀,且具有较好的表面特性和机械特性.     

辅助外加热方式直流等离子体化学气相沉积TiN的研究

1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而言,由于影响离子轰击的因素 很多造成工艺参数控制复杂,重复性差,温度不均匀等缺点。90年代起本所开始采用了辅助外加热方式沉积技术,改变了单纯依靠离子轰击加热而带来了弊端。将反应时等离子体放电强度与放电工件温度分离,从而提高了工艺的稳定性。同时德国的Gunther等人用     

等离子体金属有机物化学气相沉积碳氮化钛

叙述了采用金属有机物钛酸四乙脂取代四氯化钛，运用ＰＣＶＤ外加法沉积Ｔｉ（ＣＮ）涂层，其显微硬度可达１６００ｋｇ／ｍｍ＾２，涂层结构仍为柱状晶。     

不锈钢表面TiN、TiO_2涂层化学气相沉积制备及抑焦性能研究

为抑制不锈钢材料表面催化结焦,采用常压化学气相沉积法,实现了在10 mm×10 mm×0.9 mm的310S型不锈钢试样表面TiN和TiO_2涂层沉积,沉积温度为850℃,时间为2.5 h。通过SEM、EDS和XRD分析了涂层的形貌特征和组织结构,结果显示,TiN和TiO_2涂层表面均匀完整,粒子结合紧密;氮化钛为立方晶相结构,Ti和N原子比约为1:1,氧化钛的组成为TiO_(1.7)。分别以正己烷、环己烷、苯和RP-3为原料,采用自制的常压裂解装置对2种涂层的抑焦效果进行了评价,结果表明,TiN涂层对4种原料的结焦抑制率分别为99.91%,86.19%,72.36%和94.68%,而TiO_2涂层则为83.39%,85.77%,57.78%和68.57%,TiN涂层具有更优的抑焦性能;310S空白片表面以丝状焦为主,TiN和TiO_2涂层表面以吸附气相结焦为主。     

低温化学气相沉积TiN及其应用

本文主要介绍一种化学气相沉积氮化钛涂层的新方法，该涂层是采用亚氯化钛和氨在低压和４５０℃－６５０℃的条件下获得的，在沉积室中反应形成的。此法获得的ＴｉＮ涂层有良好的表面结合力以及抗蚀和耐腐性能，文中除对其工序与涂层性能予以介绍外还着热处重说明它在塑料工业模具听应用。     

化学气相沉积TiC-Ti（CN）-TiN涂层在硬质合金拉丝模上应用研究

用化学气相沉积法(CVD)在硬质台金拉丝模上沉积TiC—Ti(CN)-TiN耐磨涂层，经工业试验表明涂层具有硬度高、摩擦系数小，与基体粘附性强、化学稳定性好和耐磨等优良性能。涂层拉丝模比非涂层模提高使用寿命1～4倍。     

化学气相沉积TiN薄膜组织性能研究

研究了用化学相沉积方法在钢基体表面形成TiN薄膜的组织和性能结果表明，由于钢中的铁和碳向膜层中扩散，膜层的组织中存在有少量的α—Fe，而且薄膜的硬度与钢的含碳量有不可忽视的关系。