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《激光与红外》1979,(12)
激光器件,2001翻吸铝忆中协的荧光 Lumilleseen:e of bismuth in yttrium alum- inum borate,F.Kellendonk,Chem.I,hys.Lett., 1979,61一2,239一241. 介绍在YA13B4O;:中掺Bi卜的荧光光谱。在液曳温度下发射带显示出振动结构。测量了能量由Bs 转移给Tb3于和Ces于转移给Tb翻奋。结果表明,由Bis十转移给Tb卜比由Ces 转移更为有效。 12002 Nd吕‘滋光.体的效率 N沪 lase:erystal effieieney,M.synek et al.,Phys.Lett.,Vol.70A,No.4,19 Mar 1979,pp.283一6. 本文分析了各种掺Nda个晶体的激光效率参数,与Nd“十:l。F3作比较。 120D3… 相似文献
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《激光与红外》1982,(2)
红外技术2001 红外用优质 HgCdTe 等温生长法的改进A modified approach to isothermal growth ofultra high quailty HgCdTe for infrared applicat-ions,P.Becla,J.Electrochem Soc.,1981.Vol.128,№,5,pp.1171-1173.用等温生长法在 CdTe 衬底上生长的 Hg_(1-x)Cd_xTe 外延层具有镜面状表面形态,高径向组分均匀度和突出的电子特性(即 x 接近0.15的电子迁移率数值为500000厘米~2/伏秒)。生长法新特点是利用富碲 HgCdTe而不是以前采用的 HgTe(或化学配比 Hg_(1-x)Cd_xTe)作 相似文献
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《激光与红外》1981,(7)
红外技术7001 HgCdTe光电二极管制法Method of forming a mercury cadmium tellu-ride photodiode, Toivo Kochler, Honeywell Inc.,USP 4 206 003(Jan. 1979).制备HgCdTe光电二极管的方法包括紧贴n型HgCdTe 光电二极管体的第一表面形成一累积层,在紧贴第一表面的n型HgCdTe体上形成一P型区。7002二次价带和谐振态对非掺杂Pb_(1-xSnxTe)输运的影响Effects of a second valance band and reso- 相似文献
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《激光与红外》1982,(1)
红外技术 1001 Pb_(1-x)Sn_xTe(0≤x≤0.25)光伏探测器的少数载流子寿命和电阻面积乘积 Photovoltaic detectors Pb_(1-x)Sn_xTe(0≤x≤0.25) minority carrier lifetimes resistance-area product, M. Grudzien, Infrared Phys., 1081, Vol. 21, No. 1, pp. 1-8. 计算了Pb_(1-x)Sn_xTe中辐射复合和俄歇复合时的少数载流子寿命。计算是在77、200和300K温度下进行的,组分范围为0≤x≤0.30。在附录中比较了在100K温度下的实验结果和理论计算。探讨了在77K时 相似文献
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《激光与红外》1980,(11)
红外器件11001 Hg_(0.6)Cd_(0.4)Te液相外延层富Te、富Hg和富HgTe生长法的比较Comparison of HgCdTe LPE layer growthfrom Te-,Hg-and HgTe-rich solutions,T.E.Bowers,Honeywell,IEEE Trans.on ElectronDevices,1980,Vol.ED-27,No.1,pp.24-8.介绍不同组份过量的三种液相外延法。富碲法外延层成份有梯度的厚度范围为3微米,横向和纵向成份不均匀性小于±1%(克分子)CdTe;系在常压下生长,但只能生长p型层。富HgTe法是种闭管生长法,在原理上可以生长p或n型,纵向成份有梯度的范围为20微米。11002 三靶射频溅射的HgCdTe薄膜RF triode-sputtered MCT thin films,R.N.Cornely,Bell,IEEE Trans.on Electron Devi-ces,1980,Vol.ED-27,No.1,pp.29-32. 相似文献
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《激光与红外》1980,(2)
红外器件 2Q01 Hg,一二cd汀e的红外光学吸收 Infrared optieal absorption of Hgl一二Cd言Te, E .Finkman,Israel Institu七e of Teehno土ogy,J Appl.P!1丁5.5 June 1979,Vol 50,No6,pp. 4356一4361. 在80到300K温度下测量了整个0 .205成x蕊0.220组分范围的接近Hgl一二Cd二Te基础吸收边缘的吸收。根据干涉图案得出了Hg,一考C(坛Te折射率的色散。发现吸收尾部服从于改进的urbach法则,并用20落a(厘米一‘)(2000的a=aoexp〔a(百一E。)/(T+T。)〕表示。拟合参数a。,a,T。和E。随x有规则地变化。表示式用于求作为二和T函数的能隙吸收… 相似文献