自支撑Ca靶膜的制备

用真空蒸发方法成功制备了自支撑Ｃａ靶,在充Ａｒ气手套箱中剥离靶膜,基片的选择,材料的清洗,快速操作和Ａｒ气保护是制靶的关键。     

几种稀土金属自支撑靶膜的制备及其保存

在新核素合成、＾１５３Ｅｒ（ＥＣ＋β＾＋）研究、三裂与核温度测量，中能重离子碰撞中巨共振实验中，需要稀土Ｎｄ，Ｙｂ，Ｌａ，Ｔｂ，Ｇｄ金属自支撑靶膜，要求厚度为０．８ｍｇ／ｃｍ＾２以上，靶孔为Φ１５－３０ｍｍ。采用滚压方法进行这几种靶的制备。     

真空蒸发法制备自支撑多层靶

采用真空蒸发技术制备核物理实验用 Ｃ＋ Ｐｂ＋ Ｎｉ、 Ｃ＋ Ｐｂ＋ Ｃｏ、 Ｃ＋ Ｐｂ＋ Ｓ＋ Ａｌ多层自支撑靶膜。实验选定以１ ％ 肥皂液作解离剂,视不同蒸发元素,选择形状与尺寸适宜的蒸发舟。 Ｃ、 Ｐｂ、 Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ｓ、 Ａｌ膜的质量厚度分别为１０～１５、约１００、３０～６０、３０～６０、３０～５０ 和 １０ μｇ·ｃｍ － ２。制备出的膜层平展,薄而均匀,无针孔。     

自支撑同位素钐靶的制备

一、引言联邦德国重离子研究所的物理实验需要~(154)Sm和~(144)Sm靶,具体要求是:(1)自支撑金属靶,(2)厚度范围为90—110 μg/cm~2,(3)靶厚测量误差为±10%,(4)靶的尺寸是φ15 mm,(5)靶的数量为4—5块。用滚轧法、电镀法和重离子溅射法制备这样薄的自支撑靶都十分困难,因此采用真空蒸发试制同位素钐靶。     

自支撑同位素铬靶的制备方法

一、引言核物理实验需要各种厚度的自支撑同位素铬靶,首先我们用电镀法试制成0.5—2mg/cm~2的自支撑铬靶,为了获得更薄的自支撑铬靶,我们改用真空蒸发法进行试验,制成了厚度为0.2—0.4 mg/cm~2的自支撑铬靶。     

几种特殊靶的制备方法

文章了几种特殊靶的制备，包括７０ｍｇ．ｃｍ＾－２的自支撑Ｂｉ靶、Ｍｏ封窗膜、１５－５０μｇ．ｃｍ＾－２的自撑Ｓｃ靶（ＣＤ２）ｎ靶和７０μｇ．ｃｍ＾－２的自支撑Ｃｏ靶。     

镍同位素自支撑靶的制备

一、前言大多数元素都可用真空沉积技术做成核靶,但真空沉积收集效率较低,用真空蒸发法制备1 mg/cm~2以上的靶是不容易的。镍的熔点和沸点很高(1450℃和2732℃),它的蒸汽压非常低;当用W或Ta做坩埚蒸发镍时,会因形成合金的反应而迅速使坩埚崩解,每次蒸发的量必须小于坩埚重量的30%,所以用真空蒸发法制备每厘米~2毫克量级的镍靶就很困难了。     

同位素Mg靶的制备

文章介绍了＾２４ＭｇＯ转换成金属小球的还原技术以及同位素Ｍｇ的３种制备方法，即轧法，电阻加热法和聚焦重离子溅射法。滚轧法适用于制备〉０．１５ｍｇ／ｃｍ＾２的自支撑＾２４Ｍｇ靶，而后２种方法主要用来制作有衬底靶。     

钴靶的几种制备方法

一、引言钴的天然丰度为100%,是核反应研究常用的元素之一。根据核物理实验的需要,我们先后用电镀法、电阻加热法、聚焦重离子溅射法、滚轧法和水冷坩埚电子轰击法制备了各种厚度的钴靶。本文简述了制备钴靶的各种方法的工艺过程及其特点,指出了它们的适     

热蒸发制备自支撑Al平面薄膜靶的参数测量

以热蒸发工艺制备微结构可控的自支撑 Ａｌ平面薄膜靶。该靶用于惯性约束聚变（ Ｉ Ｃ Ｆ）精密化分解实验,研究驱动激光光束不均匀性对瑞利泰勒流体力学不稳定性的影响。以卢瑟福背散射（ Ｒ Ｂ Ｓ）、俄歇电子能谱（ Ａ Ｅ Ｓ）、扫描电子显微镜（ Ｓ Ｅ Ｍ ）和αｓｔｅｐ ５００ 台阶仪测量 Ａｌ 薄膜靶的靶参数。 Ａｌ膜厚度为微米量级,表面稳定的氧化层厚度约为 ７ ｎｍ ,膜密度为２３１２ ｇ·ｃｍ － ３,颗粒度０１ μｍ ,表面粗糙度平均值为５３ ｎｍ 。测试结果表明：热蒸发工艺制备出的自支撑 Ａｌ平面薄膜靶的厚度、表面平整度及均匀性基本符合 Ｉ Ｃ Ｆ 分解实验所提出的技术要求。     

Ge薄膜X光激光靶的研制

针对Ｇｅ薄膜应力较大的特点，采用热蒸发方式制备Ｇｅ膜。研究了不同脱膜剂和基片温度对Ｇｅ膜结构的影响。采用新的反粘脱膜工艺，制备出了比较满意的Ｇｅ薄膜靶。     

92Mo同位素氧化物靶的制备

用真空蒸发法,分了镀法和离子心沉积法制备了＾９２Ｍｏ同位素氧化物靶,介绍了各法的优点,存在的问题和解决途径。     

氘化聚乙烯靶的研制

文章介绍氘化聚乙烯靶的二种制备方法，即溶液蒸发和真空蒸发法。前者适用于制备厚的自支撑靶，而后者主要用来制作有衬薄靶。靶的厚度和均匀性分别用称重法和分光光度法测量。     

静电振动法制备核靶

描述了静电振动制靶方法,该法的基本过程是细微粒子的在静电场中作振动并在电极上沉积或膜,用静电振动法已制成了２０多种自撑靶和有衬底靶,靶的质量厚度范围为１０～１３００μｇ／ｃｍ＾２,靶的均匀性用α测厚仪测量,一般好于９６％。