镀铂钛电极的研究

讨论了镀液温度、ＰＨ值对钛电极镀铂工艺的影响,温度高于３６０Ｋ时,铂的电沉积反应为主要反应,在强酸或强碱性电镀液中,降低析氢反应速度,可避免发生“氢脆现象”,与ＲｕＩｒＴｉ涂层阳极比较,镀铂钛电极具有较高的析氧电位,其使用寿命也较长。     

镀铂钛电极的研究

讨论了镀液温度、pH值对钛电极镀铂工艺的影响.温度高于360K时,铂的电沉积反应为主要反应.在强酸或强碱性电镀液中,降低析氢反应速度,可避免发生"氢脆现象”.与RuIrTi涂层阳极比较,镀铂钛电极具有较高的析氧电位,其使用寿命也较长.     

基于铂族金属的高性能电极

介绍涂覆阳极、铂钛阳极、气体扩散电极和立体化电极的基本结构和应用,并探讨电极技术的发展方向.     

基于铂族金属的高性能电极

介绍涂覆阳极、铂钛阳极、气体扩散电极和立体化电极的基本结构和应用，并探讨电极技术的发展方向。     

离子水生成器用涂层钛电极的研究和应用

RIT涂层钛电极可代替钛镀铂电极,用于离子水生成器中.RIT涂层钛电极可在高槽电压下电解运转、间断操作、阴阳极反向电解运转三种特殊条件下应用,并能产出优质的碱生离子水和酸性离子水,而价格大幅度降低.     

细粒黄铜矿的电浮选

使用改进的哈利蒙德管做了细粒黄铜矿的电浮选试验。所用的电极是铂阳极—铜阴极和石墨阳极—铜阴极系统。浮选的黄铜矿粒度小于20微米,采用乙基黄原酸钾作为捕收剂。分别用电解氢气和电解氧气在不同变量下作了浮     

阳极溶出伏安法在铝、镁、硅、钛及其合金分析中的应用

研究了汞膜电极阳极溶出伏安法的电化学机理及其简单的制作方法,并对常用的铂球镀银汞膜电极和旋转玻璃炭汞膜电极进行了比较.叙述了阳极溶出伏安法在铝、镁、硅、钛及其合金分析中的应用,以及各种样品中有关杂质元素的分析结果.     

IrO2·Ta2O5涂层钛阳极的研究和应用

在硫酸溶液中使用IrO2@Ta2O5涂层钛阳极电解时,对涂层中的Ir,Ta摩尔比、底层类型进行了研究,发现双底层、Ir与Ta的摩尔比为0.50.5时,涂层钛阳极的快速寿命最长,达889 h.且涂层表面没有裂缝.该电极已广泛用于高温、腐蚀性强的电解行业中.     

离子水生成器用涂层钛电极的研究和应用

RIT涂层钛电极可代替钛镀铂电极,用于离子水生成器中,RIT涂层钛电极可在高槽电压下电解运转,间断操作,阴阳极反向电解运转三种特殊条件下应用,并能产出优质的碱性离子水和酸性离子水,而价格大幅度降低。     

IrO_2·Ta_2O_5涂层钛阳极的研究和应用

在硫酸溶液中使用IrO3·Ta2O5涂层钛阳极电解时,对涂层中的Ir·Ta摩尔比、底 层类型进行了研究,发现双底层、Ir与Ta的摩尔比为0.5:0.5时,涂层钛阳极的快速寿命 最长,达889 h.且涂层表面没有裂缝.该电极已广泛用于高温、腐蚀性强的电解行业中.     

DND@CeO2核壳型磨料的制备及其在蓝宝石表面的抛光机理研究

采用原位化学沉淀法,将氧化铈(CeO₂)包覆于爆轰纳米金刚石(DND)颗粒上,制得DND@CeO₂复合磨料。复合磨料的最佳抛光工艺参数为: 抛光压力4 kg、抛光盘转速120 r/min、抛光液流量70 mL/min、抛光液质量浓度1%、抛光液pH=10,此条件下复合磨料最大材料去除率可达73.26 nm/min,且抛光后的蓝宝石表面粗糙度可达4.47 nm,较CeO₂(粗糙度17.21 nm)和DND磨料(粗糙度24.1 nm)更优。分析抛光机理可知,复合磨料抛光性能的改善归因于蓝宝石表面与CeO₂发生了固相化学反应,形成较软的变质层,而DND可有效去除此反应层。     

等离子喷涂碳化钛-硅化钛涂层的组织结构与性能

研究直接喷涂和反应喷涂合成的两种碳化钛-硅化钛复合涂层的组织结构与性能.通过等离子喷涂技术将两种不同复合粉(TiC-TiSi₂和Ti-SiC)分别喷涂在TC4钛合金表面制备成碳化钛-硅化钛复合涂层,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、万能拉伸试验机、显微维式硬度计、划痕仪对所得涂层进行表征及测试.结果表明:等离子喷涂TiC-TiSi₂复合粉所得涂层中含TiC为58%,Ti₅Si₃为21%,TiSi₂为7%,Si为9%和SiO₂为5%,等离子喷涂Ti-SiC复合粉所得涂层含有TiC(47%),Ti₅Si₃(40%)和SiC(13%);在等离子喷涂过程中Ti-SiC复合粉中的Ti与SiC发生了明显的化学反应,反应生成了TiC和Ti₅Si₃;等离子喷涂Ti-SiC复合粉所得涂层,具有更薄的层片和更小的晶粒尺寸.与等离子喷涂TiC-TiSi₂复合粉所得碳化钛-硅化钛涂层相比,等离子喷涂Ti-SiC复合粉所得碳化钛-硅化钛涂层具有更高的结合强度、更高的显微硬度(提高了18.7%)、更好的韧性及更好的耐划痕性能,这主要在于等离子喷涂Ti-SiC复合粉反应合成的碳化钛-硅化钛涂层中硬质相的相对含量更高且反应合成的碳化钛、硅化钛晶粒更细小.     

NaCl辅助低温燃烧合成法制备AL2O3/Cu复合粉末的研究

运用OM、EBSD及TEM以及室温拉伸等方法研究了卷曲温度对含Nb微合金高强钢力学性能波动的影响。结果表明, 降低卷曲温度会诱发珠光体相变并且有利于第二相的析出, 有效阻碍动态再结晶过程, 从而减小再结晶对热轧头部样品与热轧中部样品力学性能波动的影响;将卷曲温度由873 K降至793 K时, 屈服强度波动值由69 MPa降至12 MPa, 抗拉强度波动值由70 MPa降至5 MPa。     

高值化利用含Sb(Ⅲ)废水制备Fe3O4/Sb2O4@C复合材料及其性能研究

采用液相还原法制备纳米零价铁(nZVI),以其吸附废水中的Sb(Ⅲ),得到nZVI/Sb颗粒; 将其在500 ℃下氧气煅烧8 h,制得Fe₃O₄/Sb₂O₄材料; 再以葡萄糖为碳源、600 ℃氮气热处理,制备了Fe₃O₄/Sb₂O₄@C复合材料,并对其性能进行了研究。结果表明,nZVI吸附含Sb(Ⅲ)废水的适宜条件为:中性溶液Sb(Ⅲ)初始浓度100 mg/L,nZVI投加量1.2 g/L,室温下吸附50 min,该条件下废水中Sb(Ⅲ)去除率为73%; 引入Sb₂O₄后,铁基负极的首次放电比容量高达1065.6 mAh/g; 包覆碳后,Fe₃O₄/Sb₂O₄@C复合材料电化学性能明显改善,100 mA/g电流密度下,循环150圈后放电比容量仍可保持在483.7 mAh/g,电流密度2000 mA/g时,放电比容量仍有118.2 mAh/g。     

溶胶凝胶法合成CoFe2O4/Pb(Zr0.53Ti0.47)O3磁电复合薄膜

用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO₂/Si基片上旋涂制备了CoFe₂O₄/Pb(Zr_0.53Ti_0.47)O₃层状磁电复合薄膜(2-2型)。利用XRD分析了薄膜的相组成, 运用SEM研究了薄膜表面和断面的微观形貌, 并研究了薄膜的铁磁和磁电耦合性能。研究表明, 低浓度的CFO前驱体溶液能显著改善薄膜的微观形貌, 磁电复合薄膜多层纳米结构清晰平整。复合薄膜表现出良好的铁磁性能, 磁场平行和垂直于薄膜表面的饱和磁化强度分别为298 和 272 emu/cm³。随着外磁场(H_Bias)的增加, 复合薄膜的磁电电压系数(α_E)有逐渐减小的趋势; 在H_Bias接近0时, α_E达到最大值。随着复合薄膜磁性层间距的减小, 静磁耦合效应的增加, α_E存在上升趋势。     

NiFe2O4@LiMn2O4正极材料的制备及其电化学性能研究

以溶胶-凝胶法制备了不同质量百分比的NiFe₂O₄@LiMn₂O₄复合正极材料。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和电化学性能测试等手段, 对NiFe₂O₄@LiMn₂O₄材料的结构、形貌和电化学性能进行表征。结果表明, NiFe₂O₄的包覆并没有改变锰酸锂材料的晶体结构;锰酸锂颗粒表面没有观察到NiFe₂O₄材料存在。当NiFe₂O₄包覆量为1%时, 复合材料具有较好的电化学性能, 其首次充放电效率、循环性能和倍率性能都得到了一定程度的提高, 此时NiFe₂O₄呈薄膜型包覆在锰酸锂颗粒的表面, 厚度约为14 nm, 首次放电比容量(0.1C)为121.2 mAh/g, 10C倍率放电条件下放电比容量为84.8 mAh/g, 1C循环400周后容量保持率为90.64%。     

堆焊工艺参数与碳化钨含量对镍基碳化钨涂层性能的影响研究

以Ni35复合WC粉末为原料,采用等离子堆焊工艺在Q235A低碳钢表面制备了镍基复合碳化钨涂层,研究了焊接电流、WC含量对复合涂层性能的影响。结果表明,降低堆焊电流,减少热量输入,可以有效防止WC沉积。在研究范围内,WC含量低的样品WC沉积明显,而WC含量高的样品中WC分布较均匀。Ni35复合WC涂层相组成主要为γ-Ni(Cr,Fe)相、γ-(Ni,Fe)基体相,第二相WC,弥散相Cr₃C₂、Cr₇C₃、FeNi₃和W₂C。在焊接电流一定时,随着WC含量增加,堆焊涂层硬度增大;涂层中WC含量相同时,随着堆焊电流降低,涂层硬度上升。在大焊接电流(210 A)下,随着镍基涂层中WC含量增加,样品磨损量逐渐增大;在小焊接电流(195 A)下,随着WC含量增加,样品磨损量降低;当涂层中WC含量相同时,随着堆焊电流降低,样品磨损量降低。     

微波辅助加热浸出废荧光粉中稀土氧化物实验研究

采用微波辅助加热, 研究了硫酸从废弃荧光粉中浸出稀土元素的工艺, 考察了硫酸浓度、液固比、浸出温度及浸出时间对浸出稀土的影响。实验结果表明;采用微波辅助硫酸浸出废荧光粉, 稀土元素的回收率分别为;Y₂O₃ 90%~98%, Eu₂O₃ 80%~90%, CeO₂ 26.16%, Tb₄O₇ 22.5%。CeO₂、Tb₄O₇、Al₂O₃和MgO浸出率较低, 变化规律一致。液固比和浸出时间对Y₂O₃和Eu₂O₃浸出率的影响较大, 硫酸浓度和浸出时间对CeO₂和Tb₄O₇浸出率的影响较大, 浸出温度对各组分的浸出率影响不显著。     

膜技术处理铜电解液最佳条件试验

通过实验研究了影响离子交换膜电解脱铜效率的各种因素, 包括电流密度、极距、阳极室内硫酸起始浓度、电解温度、脱铜程度, 确定了离子交换膜电解脱铜的最佳工艺条件为: 极距20 mm, 阳极室内硫酸浓度10 g/L, 电解温度45 ℃, 当铜离子浓度大于5 g/L时, 采用大电流密度(220 A/m²)电解, 当铜离子浓度小于5 g/L时, 采用小电流密度(160 A/m²)电解。     

C/SiC复合材料表面抗氧化涂层的制备与性能表征

为了提高航空发动机用C/SiC复合材料抗氧化性能,采用溶胶-凝胶法合成了Ba_0.25Sr_0.75Al₂Si₂O₈粉末,利用等离子喷涂技术在C/SiC复合材料表面制备了Si/莫来石/Ba_0.25Sr_0.75Al₂Si₂O₈复合涂层;利用X射线衍射仪、扫描电镜等测试手段分析涂层的物相组成和涂层表面及截面的微观形貌;测试了涂层在1 000 ℃大气条件下的抗氧化性能。结果表明:1 000 ℃下氧化5 h,无涂层C/SiC复合材料基体失重率为30.8%,具有Si/莫来石/Ba_0.25Sr_0.75Al₂Si₂O₈复合涂层的C/SiC复合材料基体失重率为16.0%,表明Si/莫来石/Ba_0.25Sr_0.75Al₂Si₂O₈复合涂层能有效提高C/SiC复合材料的高温抗氧化性能。