厚膜光刻工艺在PDP中的应用

简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论。     

LB膜抗蚀层在光刻中的应用

本文概述了LB超薄抗蚀层用于光刻研究的历史及现状，指出：发展实用化的LB超薄抗蚀层技术对于微电子工业中深亚微米乃至纳米水平的微细加工具有重要的意义。     

光刻技术在微细加工中的应用

介绍光刻技术中的曝光设备与技术,光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。     

投影光刻技术在大生产中的应用

一、引言1992年为了建立一条3μmr技术的试验线，双极事业部引进了两台PE－340HT投影光刻机，于1993年4月安装调试完毕，投入使用。由于3Pm试验线为正胶工艺，品种少，也不能形成大生产。为提高设备的利用率，同期着手将PE－340HT投影光刻机应用于负胶SPin工艺的大生产中，以克服接触式光刻图形尺寸均匀性差、缺陷多的缺点，从而提高采用负胶工艺的产品、尤其是象二片机之类的高要求产品的工艺一致性。二、设备简介PE－340HT是美国Perkin－Elm。r公司80年代初的产品，处理圆片最大尺寸为4英寸，当时广泛用于64K存贮器的生产，为标准…     

改变表面性质技术在光刻中的应用

一、引言在采用光刻的微细加工工艺中,抗蚀剂与衬底之间的粘附性是影响加工精度的重要因素。以前为了提高粘附性,对抗蚀剂涂复前的清洗、干燥、显影后的烘焙条件等进行了详细的研究。在这里,以多晶硅、二氧化硅为主,有意地控制这些表面性质的所谓改变表面性质技术应用于光刻当中,从界面化学的角度,发表了对粘附性研究的结果。     

电光调制技术在光刻对准中的应用

介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理，详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理，并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响。结果表明，使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度。     

气囊在光刻中的应用

介绍了气囊系统的功能、结构及减振原理,着重指出了“动态捷径”及重心移动对曝光系统所产生的影响,详细描述了气囊控制环如何保持位置受控并对动态捷径进行监控,从而可消除振动特别是动态捷径及重心移动对系统所造成的不利影响。     

光刻技术在铟柱制备工艺中的应用研究

简要介绍了光刻在128×128混合式非制冷热释电焦平面(UFPA)探测器制作中的重要地位,重点介绍了光刻在铟柱制备中的应用研究.对铟柱成形的几种方法进行了比较,确定了剥离法制备铟柱.并进行了光刻实验与分析,得到了满足128×128混合式非制冷热释电焦平面器件倒装互连的铟柱.     

化学放大胶在电子束光刻技术中的应用

化学放大胶(ChemicallyAmplifiedResists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质。介绍了化学放大胶在电子束光刻技术中图形制作工艺的关键步骤以及目前常用的几种化学放大胶,分析了将化学放大胶用于电子束曝光工艺应注意的问题和它将来的发展趋势。     

光刻技术在微电子设备中的应用及发展

近些年来,伴随着我国芯片集成水平的高度提升,其对光刻技术的要求也不断提高,在二十世纪末,科学界一致坚信光刻技术的的最低分辨率是0.5,但是伴随着扫描技术、分辨率增强技术水平的提升与抗蚀剂等技术的应用,当下光刻技术分辨率已经降低至0.1,甚至能够低于0.1,虽然还是存在较多人对光刻技术的发展前景并不看好,但是其依旧凭借着不断钻研的精神,屡屡打破确定的分辨率极限,因此,本文主要针对当下光刻技术在微电子设备的实际应用与相关的发展前景进行深入的分析,希望能为我国光刻技术水平的提升具有一定的帮助。     

光刻在微波电子器件中的应用

引言随着电子工业的发展,人们将印刷工业中制造印刷版的技术加以改进,移植到半导体的生产中成为光刻技术。光刻的目的就是在被加工物的表面上刻出与照相图案完全一致的几何图形或零件。我们将此技术加以改进用于微波器件的制造工艺中,用来制造微型零件或用机械加工及电加工方法难以制造的零件。     

高精度电子束光刻技术在微纳加工中的应用

对电子束光刻系统的原理以及在微纳加工领域的应用进行了讨论。首先对光刻系统的工作原理进行了阐述。然后讨论了电子束光刻的关键工艺,如光胶的选择、剥离工艺的优化以及邻近效应对图形的影响及修正方法。由于电子束光刻在科研领域展现了巨大的潜力,因此吸引了许多学者的注意。最后,举例介绍了电子束光刻在生物医学和硅光电子上的应用。     

非球面技术在浸没式光刻照明系统中的应用

NA1.35浸没式光刻照明系统是超大规模集成电路的核心设备,为了实现从ArF激光器发出的光束经过一系列模块传输后到达掩模面的能量满足光刻曝光系统的要求,需要在系统中引入非球面透镜,以减少镜片数量,提高能量利用率。为解决现在非球面透镜具有的加工难度和控制精度不足的缺陷,设计出一种优化控制保证非球面加工和检测的方法。在光学系统设计中优化非球面的形状,保证非球面度,满足非球面变化率在可加工和检测的范围内,并控制非球面拐点的产生。照明系统中镜片数量最多的模块是耦合镜组,通过非球面的优化,镜片数量从12片减少到9片,系统能量利用率提高近25%。此外,提高了系统像质NA一致性,像方远心度,弥散斑直径和畸变,满足了曝光光学系统对掩模面的能量要求,故该非球面控制技术具有良好的可加工性和可检测性。     

SDH在B—ISDN中的应用

在构建未来的宽带综合业务数字网中，ＳＤＨ和ＡＴＭ是两大关键技术，本文介绍了ＳＤＨ传送网的基本特点，ＡＴＭ的基本概念；指出ＳＤＨ是Ｂ－ＩＳＤＮ的传输主干网，讨论了ＳＤＨ和ＡＴＭ互通的必要性及其实现。     

卟啉分子L—B膜的非线性光学效应的研究

本文介绍了卟啉分子L-B膜在激光场作用下产生的非线性光学二次谐波效应以及利用这一效应探测卟啉分子取向特征的结果。这一实验结果为光学二次谐渡作为表面探测新手段提供了又一依据。     

应用光刻的加工技术

微机械的实现,很大程度上取决于微细加工技术、尤其是应用光刻的加工技术的发展.毋容置疑,除微细加工技术外,譬如象机械加工等也在向微细化方向发展,而以半导体微细加工技术为背景,最近利用光刻的结构体加工技术正在逐步实现前所未有的新型加工,本文就应用半导体加工技术所展开的微细结构体加工技术作以介绍.     

光刻术中的激光技术

依照惯例,集成电路器件中的最小线宽每隔六年缩小一倍,由实验技术转变为常规生产工艺一般需要十年。下一个十年看来也不会违背这个规律,目前的圆片产品最小线宽大约为1微米,每个芯片上的几何图形数也有相应的增长。正在投入生产的1兆比特数据随机存取器在最复杂的膜层上,每个芯片有几百万个图形。4兆比特的随机存取器也即将生产出来。印刷这些图形不仅要求准确,而且必须快速。