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仿金电镀新工艺该工艺采用低氰电镀液以获得铜—锌—锡三元金色镀层,镀液稳定,成分容易控制,工艺范围宽。该工艺所镀镀层外观光亮可达14～18K金色(可调节),能在金属及非金属材料上施镀。镀层经电化学或化学钝化处理并涂覆透明有机膜,可经久不变色。该项目可广泛用于灯具、仪表、工艺品及证章等的高级表面装饰。凡具     

庄周技术市场

仿金电镀新工艺 该工艺采用低氰电镀液,以获得铜—锌—锡三元金色镀层。镀液稳定,成分容易控制。该工艺应用范围宽,镀层外观光亮可达14～18K金色(可以调节),能在金属及非金属材料上电镀。     

氰化镀铜—双层镍—镀铬工艺的应用

本文介绍氰化镀铜-双层镍-镀铬电镀工艺和精密过滤机、助滤剂、光亮剂及光亮剂自动添加机、电镀自动线。实践证明该工艺镀液稳定、维护方便、镀层光亮、结合力好、耐腐蚀性能强。     

光亮电镀结合不良的原因及解决方法

光亮电镀是指采用一步法获得平整、有光泽镀层的电镀方法。它具有代替机械抛光、节约劳动力、降低成本、可提高产品外观质量等优点。目前,国内比较常用的光亮电镀一步法工艺,系指镍/铜/镍/铬工艺或镍/铜/双层镍/铬工艺。这种工艺只要有严格的工艺规范和操作规程,并能对镀液进行科学的测试,是容易获得理想的外观和牢固的结合力的。尽管如此,     

酸性光亮锡铈铋电镀

酸性光亮锡铈铋电镀工艺由机电部十四所工艺部研制成功,经两年多的实践,证明工艺稳定、操作方便。经测试,各项性能指标超过国内外现有锡铅、光亮锡铈、光亮镀锡等镀层的指标,超过了国家一级品的规定。该工艺采用的镀液价格低,镀层不需热熔工艺,但表面却光亮美观、平整、可焊性好,抗氧化、抗腐蚀性好,适合双面孔化印制板、微波印制板的接地层的批量生产。对表面安装印制板更     

钾盐光亮镀锌工艺

钾盐光亮镀锌工艺是目前工业上较为理想的电镀新工艺。现根据生产实践经验和有关资料，将该工艺的主要技术特性、镀锌镀液的配制、镀液成分和操作条件的影响、镀液的维护以及镀液中有害成分的去除等内容介绍如下。一、钾盐光亮镀锌工艺的主要技术特性1．阴极电流效率不低于98％。2．镀液的沉积速度镀层厚度可达32μm／h，最厚能达35μm/h。3．分散能力20℃赫尔槽试总电流1A，赫尔槽两点测定分散能力是，亚号光亮剂为24％，2号光亮剂为28．4％。4．深镀能力采用φ10mm通孔钢管，外部绝缘并正对阳级，在30℃倾斜放置的条件下，当电镀时间为20…     

氯化物体系三价铬电镀工艺研究

开发了一种氯化物体系三价铬电镀工艺。讨论了Cr（Ⅲ）、配位剂、导电盐、硼酸、润湿剂、去极化剂、pH和温度等工艺参数的影响。通过Hull cell试验和小槽挂镀试验,制备了氯化物体系三价铬电镀用石墨阳极。并确定了全套工艺规范。测定了镀液及镀层的性能,结果表明,该体系具有良好的稳定性。在10-20A／dm^2光亮电镀范围内,分散能力为70％-84％,覆盖能力为100％,所得镀层颜色白亮。耐蚀性优良,综合性能与国外同类产品相当。     

镀铜—锌—锡三元合金仿金工艺

本文介绍一种在 HEDP 溶液中电镀铜—锌锌—锡三元合金的新型无氰仿金工艺。实验证明:该工艺不仅具有成份简单、性能稳定、操作方便、能耗低、适用性广等突出优点,而且镀液使用寿命长,对设备腐蚀性小,无环境污染。能获得色泽均匀、结晶细致、耐蚀性好的理想仿金半光亮镀层,是一种有使用价值的无氰仿金工艺。     

Ni-B_4C复合涂层制备工艺及性能的研究

通过正交设计,研究了Ni-B4C复合电镀工艺,在充分分析各不同镀液组成和工艺条件下,得出了其最佳镀液组成和工艺参数。研究了镀液中B4C含量对Ni-B4C复合镀层的显微硬度、高温抗氧化性能和耐蚀性能的影响。结果表明,随着B4C颗粒加入量的增加,镀层的显微硬度明显增加,由于B4C微粒加入到电镀Ni复合镀层中可显著地提高基体的抗氧化性,还可降低镀层的耐腐蚀性。     

铝合金表面电沉积Ni-SiC复合镀层的研究

针对铝合金表面的电镀特点,采用化学侵锌、预镀镍等预处理方法,在铝合金表面得到了表面光洁平整,内部质量优良,与铝合金基体结合紧密的Ni-SiC复合镀层。研究了镀液中SiC浓度、电流密度、搅拌速度、镀液pH值和镀液温度等电镀参数对复合镀层厚度、镀层中的SiC体积分数及镀层显微硬度的影响。结果表明,电镀工艺条件的改变影响Ni-SiC复合镀层的共沉积速度与SiC粒子在镀层中的体积分数。当镀液SiC浓度为120g/L时,镀层中的SiC体积分数为8.5％,硬度为504.6HV,较纯铝(82.5HV)提高5倍,较纯镍(242.5.HV)提高l倍。     

复合低铬光亮镀铬工艺

产品装饰性镀铬采用复合低铬镀层工艺,具有镀层均匀、光亮,镀液稳定,工作电流密度范围大,电流效率高,沉积速度快,成本低,污染小等优点。工艺流程: 冷水→去油→冷水→热水→镀铬→冷水→热水→烘干→交检。多层电镀流程: 冷水→化学去油→冷水→酸洗→镀镍→弱     

全光亮镀镍新工艺 以丁炔二醇与环氧烷基化合物的缩合物为发光剂

在防护-装饰性电镀层的体系中,光亮镀镍工艺应用最广,效果最显著。凡属精密机床、汽车、机车、仪器仪表、各种机械的外部装饰零件,绝大多数采用以光亮镀镍为骨干的铜-镍-铬、双层镍、三层镍等工艺。以丁炔二醇(2-丁炔1,4二醇)和糖精为主要添加剂的光亮镀镍工艺,早在国内各个领域里广泛应用,但镀液稳定程度不够理想,镀层质量也时高时低,不能满足日益发展的工业需要。由于镀液难于控制,有时甚至影响生产,从而成为提高质量和产量的障碍。     

锌酸盐电沉积锌镍合金工艺研究

本文重点研究了锌酸盐电沉积锌镍合金的镀液组成及工艺条件；各因素对镀层合金成分的影响，并测试了镀液和镀层性能；最后得到了比较理想的电镀镍合金工艺。     

用“联合净化法”处理光亮镀镍溶液

在Cr/Ni和Ni/Cu/Ni/Cr等防护-装饰性多层电镀体系中,很多单位采用光亮镀镍为中间镀层,代替抛光工序,节约电镀及抛光材料,实现电镀一步法生产,因此光亮镀镍得到了普遍地重视和应用。光亮镀镍溶液在使用一段时间后,因挂具、零件带入少量其他溶液的污染;零件落入镀槽中而未及时捞出;添加的化工原料纯度不够;有机添加剂的分解等,均会造成镀液中铜、铁铬等金属杂质和有机分解物质的积累。当杂质     

电镀耐蚀性锌镍合金工艺研究

介绍了一种新的锌镍合金电沉积工艺和镀液配方,采用了新的钝化液配方及相应的工艺对锌镍合金进行钝化处理,描述了锌镍合金镀液及镀层中锌、镍含量的测定、镀液的维护方法以及对该镀层进行了性能测试。该配方具备工艺简单、操作方便、镀层易钝化等优点。     

技术市场

1.宽温度全光亮整平酸性镀铜本工艺可在各种金属和塑料等非金属制品上获得镜面光亮、整平性能和韧性良好的铜镀层,可省去机械抛光工序。光亮剂温度范围为15～38℃,其镀液镀层主要性能指标,如光亮范围、整平性能、均镀能力、深镀能力和硬度等均达到国际先进水平。本成果1979年获机械工业部科学大会奖。     

电镀超硬磨料工艺的改进及参数优化

电镀磨料法是制造超硬磨料工具的常用方法,电镀质量直接影响到电镀超硬磨料工具的寿命和使用性能,而电镀工艺是影响电镀质量的主要因素.文中首先对原有的电镀基础工艺中镀前处理及镀底镍工序进行了改进,提出了镀前处理中增加去毛刺、电化学除油、阳极处理等过程及镀底镍工序中带电入槽和冲击电流的一套新的电镀工艺,并进行了实验研究,结果表明:新的工艺增强了镀层的结合力,提高了电镀质量;其次实验研究了电镀液配方及电流密度、镀液温度、PH值等工艺参数对电镀质量的影响,并得到了优化结果.     

高速电镀

随着生产的发展和科学技术的进步,为了提高生产效率和经济效益,在电镀工艺方面高速电镀受到了人们的重视。为了实现高速电镀,主要采用以下几种措施: (1)提高镀液中沉积金属离子的浓度。 (2)在镀液中加入大量导电盐类。 (3)将电镀液强烈搅拌或利用泵快速循环。 (4)提高镀液温度。高速电镀与常规电镀相比,对镀层性能有一定影     

电镀锌镍合金工艺

本文简要地介绍开展Zn-Ni合金电镀新工艺的必要性。讨论了镀液成分、工艺参数对镀层性能的影响,着重地报道了Zn-Ni合金镀层优异的抗腐蚀性和良好的物理特性,指出该镀层是改善镀锌层抗蚀性、代替镉镀层的理想镀层。     

用测量镀层光泽度方法研究镀镍电解液中添加剂的出光速度

现代的光亮镀镍工艺,不仅要求镀层全光亮、高整平,还要求有很高的出光速度。所谓出光速度,指镀液在很短的时间内使镀层达到很高光泽度的能力,即是说,在一定粗糙表面或较低光泽度的基体表面上,用一定的工艺条件电镀数分钟后所能达到的光泽度值。本文采用赫尔槽试片,电镀10分钟,每隔2分钟在一定的电流密度位置上测量镀层的光泽度。用这个方法研究镀镍电解液中某些添加剂,包括光亮剂、整平剂对镀层光泽度的影响。确定电沉积层光泽度的主要因素。1960年,威尔(R.Weil)就用测量光泽度的