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<正>(接2020年第2期第96页)B锐角运动当磁场与阴极表面斜交时,阴极斑点并不是在垂直于B∥的方向上运动,而是从垂直于B∥方向又向磁场与阴极平面成锐角方向偏离一定的角度方向运动,即在反向运动上还叠加一个漂移运动。漂移运动的方向指向磁力线与阴极表面所夹的锐角区域。由上述规律,进行阴极弧源设计时,有两种形式:一是在阴极表面形成环拱形 相似文献
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正(接2018年第3期第72页)假设轰击离子将全部能量都转移给沉积膜层原子,由式(1)和式(2)可知每个沉积膜层原子的能量E_p为E_p=eU_in_i/n=(M_r.j_i/R_v)e·U_i×6.3×10~(-3)eV(5)因此可得离子流密度j_i为j_i≈159(R_v·ρ·E_p/M_r·eU_i)mA/cm~(-2)(6)式中Mr为膜层原子的相对平均摩尔质量,g/mol;R_v为沉积原子在基体表面的成膜速率, 相似文献
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正(接2018年第4期第80页)(1)等离子体鞘:基片(工件)放进等离子体云中,不与等离子体直接接触。基片与等离子体之间隔了一层电中性被破坏了的薄层,是一个负电位区,称等离子体鞘,或称鞘层。在等离子体与容器壁之间,放置在等离子体中的任何绝缘体表面,或插入等离子体中的电极近旁都会形成鞘层。轰击基片的离子的能量部分或大部分是在离子鞘内获得,所以在离子镀中调节离子鞘的电位 相似文献
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f圆形平面可控电弧蒸发源圆形平面可控电弧蒸发源的原理如图40所示。其磁场由静止的外磁环和往复运动的中心磁柱构成。靶材上方的磁场可分解为水平磁场B//和垂直磁场B⊥。B∥束缚部分电子并使其作圆周运动,致使阴极辉点作圆周运动。B⊥迫使作圆周运动的电子作径向运动,导致阴极辉点的径向运动。 相似文献
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(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可调,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展运动均匀,靶面刻蚀均匀。 相似文献
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(接2021年第6期88页)
3.4 中频磁控卷绕镀膜
中频磁控卷绕镀膜是利用中频磁控溅射技术来实现卷绕镀膜的方法.中频交流磁控溅射通常采用两个尺寸大小和外形相同的靶并排布置或相对摆放,称为孪生靶.将双极脉冲中频电源的二个输出端连接到二个靶上,如图18所示. 相似文献
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(接2021 年第3 期88 页)
2.5.1 真空镀铝工艺
塑料薄膜表面真空镀铝是应用最早也是最常见的一种蒸发卷绕镀膜工艺.纳米级厚度的铝膜牢固地附着在柔软的塑料基膜上,因其优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针状孔和裂口,无柔曲龟裂现象,因此阻隔性也更为优越,这对包装敏感和易失味的食品以及保持外观美是很重要的. 相似文献
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(接2021年第1期88页)
(2)上底漆 当材料具有贮气(惰性气体或蒸汽)特性或含有一定比例的挥发性物质,如各种增塑剂及化学试剂等,将严重影响镀膜效果.首先应在该基材表面涂底漆,以填塞和封闭柔性基材上的微孔,杜绝其吸留或放出气体,避免对真空度和镀层质量的不利影响;其次,是为了消除材料表面上的微小不规则物和缺陷,使镀层... 相似文献
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(接2020年第6期86页)
2.2.1 原理
电阻加热蒸发镀膜原理如图3所示.将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷辊上,薄膜穿过导向辊和镀膜冷鼓卷绕在收卷辊上.抽真空,使蒸镀室中的真空度达到4×10-2Pa以上,加热蒸发舟或蒸发坩埚使高纯度的金属或化合物在气化温度下融化并蒸发.启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行速度达... 相似文献
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(接2021 年第4 期104 页)
A 镀铝层厚度的测量
由于真空镀铝薄膜的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,通常在线可以通过电阻测量辊测量表面电阻,测量透过镀层的光密度和测量镀层的高频涡流感应电流等三种方式现实.离线用四探针电阻仪或欧姆表测量表面电阻. 相似文献
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(接2022年第1期88页)
3.5.2 海绵导电化
真空磁控溅射技术是海绵卷导电化处理非常行之有效的方法,也是目前国际上最先进的工艺方法.它可以解决采用化学镀或涂导电胶的方法在海绵镍中产生微量元素污染的问题,提高电池充电次数和使用寿命,同时又可以消除原方法产生的环境污染.其产品的主要特点是泡沫镍杂质少、面电阻小、抗拉... 相似文献