400nm—2000nm椭偏光谱仪的研究

建立了计算机自动控制测量400nm-2000nm椭偏光谱仪系统。经过实验检测了系统的重复性及准确度，证明系统可用于高精度薄膜厚度的检测。     

400 nm～2 000 nm椭偏光谱仪的研究

建立了计算机自动控制测量 40 0nm～ 2 0 0 0nm椭偏光谱仪系统。经过实验检验了系统的重复性及准确度 ,证明系统可用于高精度薄膜厚度的检测     

外差椭偏纳米薄膜测量技术

提出一种可同时测量膜厚和折射率的新型快速高灵敏度薄膜测量方法－外差椭偏纳米薄膜测量技术,并给出了理论分析与设计、实验结果和误差分析、采用弱磁场塞曼激光器,用相位直接比较法得到０．１８°分辨率,是迄今结果最简单的新型椭偏仪设计,测量过程高速全自动化,适合于现场连续测量。理论上可达到较高的测量精度。     

用Blanie Johs法校正椭偏光谱仪的样品选择

用Blanie Johs方法使用三种不同的样品对旋转检偏器类型椭偏光谱仪(RAE)进行了系统校正。校正实验结果表明：对于设计建立的系统,在其各元件设备处于非最佳状态下,Blanie Johs方法仍然成功完成了系统的校正任务,证明该方法具有普适性。但在校正过程中也发现：为了获得高精度的系统校正结果,使用的校正样品并非如BlanieJohs方法介绍的没有限制,而是需要进行一定的选择。     

基于椭偏法的烟尘粒子复折射率测量

粒子复折射率是计算粒子光散射特性的重要参数.传统的KBr样片透射测量粒子复折射率的方法过程复杂,对颗粒物粒径要求满足Mie散射条件.提出了基于椭偏法的烟尘粒子复折射率测量方法,推导了椭偏法测量复折射率的理论公式,将现场采集的烟尘粒子制备成以玻璃为基底的烟尘粒子薄膜,搭建了基于椭偏法的烟尘粒子复折射率测量实验装置,获得了烟尘粒子多光谱复折射率.实验结果表明,与KBr样片透射法的测量结果吻合较好,这为其颗粒物复折射率的测量提供了新的途径.     

单层薄膜的五次多项式椭偏方程的数值分析

采用椭偏法测试的单层均匀透射薄膜的介电常数满足一个五阶多项式方程,来求解 薄膜的折射率和厚度,并且进行了详细的计算和讨论。椭偏仪的测量精度除了与它本身的结构参数以及读数精度有关外,还与被测系统本身有关,精度还取决于衬底的折射率ｎ２,Ψ和Δ的区域及入射角。采用此方法编程可以既快又精确地计算出薄膜的折射率和厚度,取得了令人满意的结果。     

石英晶体最大双折射率色散特性的椭偏测量

为了测量石英晶体最大双折射率的色散特性,在椭偏光谱仪的水平透射测量模式下,通过对确定厚度的石英波片相位延迟量的精确测量,计算出了石英晶体的最大双折射率值,并进行了误差分析。结果表明:这种方法光路简单、操作方便,屏蔽了光源的不稳定性;双折射率测量精度达到了10-6,比连续偏光干涉法的测量精度提高了1个数量级;实现了对石英晶体的最大双折射率色散特性的连续光谱测量;此方法对其它双折射晶体材料的双折射率色散特性的研究也同样适用。     

PT—1型椭偏仪用于教学实验的研究

本文介绍了ＰＴ—１型椭偏仪的设计思路。与其它同类仪器相比，该仪器的结构有了较大的改进。实测结果表明，该仪器完全能够满足教学和一般科研的需要。     

基于粒子群算法的椭偏法测量数据反演

为解决椭偏法测量薄膜厚度和折射率实验数据处理较为复杂的问题,采用一种新的基于群体智能的优化算法—粒子群算法处理实验数据.以单层吸收薄膜的测量为例,利用该算法进行数据处理.实验结果表明,三个薄膜参数(折射率n,消光系数k和薄膜厚度d)可以同时获得,而且在未知参数确切范围情况下,大范围内进行搜索仍然能保证快速收敛到最优解.文中算法和遗传模拟退火算法以及利用椭偏仪数据处理软件得出的结果相比较,表明该算法计算精度高,收敛速度快.     

用椭偏谱法研究硅（111）表面的化学处理

用ＲＡＰ型椭圆偏振光谱仪对不同化学处理的硅（１１１）表面的赝介电函数虚部ε２进行测量。结果表明：赝介电函数虚部ε２的Ｅ１（３．４０ｅＶ）、Ｅ２（４．２２ｅＶ）临界点峰值，尤其是Ｅ２对硅表面状态非常敏感；对不同腐蚀都有一个最佳腐蚀时间；对ＨＦ缓冲溶液处理的硅（１１１）表面，其稳定性不仅和溶液的ＰＨ值有关，还和后处理方法有关。     

电解有机溶液法制备类金刚石薄膜

本文讨论了电解有机溶液法制备类金刚石薄膜，对所得到的类金刚石薄膜的性质进行分析，并提出了初步的沉积机理。     

类金刚石薄膜电极在污水处理中的应用

以类金刚石(DLC)薄膜作为电极进行污水处理时,具有比IrO2/Ta2O5钛涂层电极、PbO2等电极更好的氧化效果,这是由于DLC具有更宽的电势窗口和更低的背景电流.此外,DLC还具有耐酸、耐腐蚀以及低吸附特性等特点,不会在酸性、腐蚀性的污水中破损,因此比其他的电极更适合在污水中长时间工作.为此,对DLC的制备、DLC电极电化学性能的影响参数,以及DLC在污水处理中应用的研究成果进行了综述总结.     

降低DLC薄膜应力的方法研究

为了沉积出高硬度、低应力、高膜-基结合强度的类金刚石硬质薄膜,利用脉冲电弧离子镀技术在高速钢基底上制备类金刚石薄膜,采用退火、增加Ti过渡层、Ti离子轰击等方法减小DLC薄膜应力.结果表明:单层DLC薄膜的应力可达7.742 GPa;以Ti为过渡层的DLC薄膜的应力减小为2.027 GPa;对Ti/DLC薄膜进行退火热处理,薄膜应力减小到0.359GPa.利用Ti作过渡层,并且对薄膜进行退火处理,可以使DLC薄膜产生的高应力在Ti层中得到明显减小,提高膜-基结合力,增加硬度.     

不锈钢(3Cr13)镀类金刚石薄膜的研究

利用脉冲真空电弧离子镀技术在3Cr13不锈钢基底上制备类金刚石(DLC)薄膜,采用X射线光电子能谱技术分析DLC薄膜中sp3键及sp2键含量和组分.采用显微硬度计测试了薄膜的显微硬度,利用扫描电镜测试了膜的表面形貌.划痕仪测试了薄膜与不锈钢基底的结合强度.结果表明:所镀制的类金刚石薄膜品质优良,类金刚石中sp3键含量较高,sp3/sp2=1.63,具有良好的表面形貌,在不锈钢上沉积DLC膜后明显提高了不锈钢的硬度,Ti过渡层的引入明显的改善了膜与不锈钢之间的结合强度.     

Au/SiO_2复合薄膜的紫外光还原制备与光吸收性能

通过溶胶-凝胶法,利用紫外光辐射还原金(Au)得到了高均匀性Au/SiO2复合薄膜,并用SEM、TEM、XRD、UV-Vis光谱等手段对薄膜样品进行了性能表征,讨论了紫外光对金纳米粒子的还原机理。XRD结果表明,均匀分散于非晶SiO2中的Au纳米粒子呈现出面心立方多晶相;SEM结果表明,所得到的Au/SiO2复合薄膜中,纳米颗粒的尺寸较小,分布均匀;复合薄膜的UV谱表明,Au纳米粒子的表面等离子共振吸收峰随着焙烧温度的增加以及nAu/nSi的改变,从585nm附近逐渐红移至600nm附近,并逐渐增强,同时,nAu/nSi较大的3个薄膜样品分别在820,900和830nm附近的近红外区出现了吸收。     

活性炭吸附法处理废水的数学模型

针对活性炭处理电镀工业废水的吸附过程,运用导数的实际意义建立了描述废水的质量浓度的相对变化率和活性炭的相对变化率的微分方程模型.本模型解决了活性炭吸附法处理废水过程中需要考虑的几个问题,如活性炭的投加量、活性炭达到吸附平衡时所需的时间及废水中金属离子去除率的问题等,对实际工艺过程具有很好的指导作用.     

类金刚石薄膜对Low-E玻璃可加工性能的影响

采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD),在Low-E玻璃表面沉积了类金刚石(DLC)薄膜作为保护层。通过摩擦磨损实验研究DLC膜对Low-E玻璃耐磨性的影响;对沉积了DLC膜的Low-E玻璃进行热处理,研究热处理后Low-E玻璃低辐射性能和光学性能的变化。结果表明,DLC膜沉积速率为2.5~4nm/min,沉积时间4min以上时,Low-E玻璃摩擦系数开始降低到0.5以下,玻璃表面无破裂迹象,说明一定厚度DLC膜能够有效降低Low-E玻璃摩擦系数,提高Low-E玻璃耐磨性;热处理后,沉积不同时间DLC膜的Low-E玻璃与未沉积DLC膜的Low-E玻璃相比,方块电阻最大相差0.04Ω/□,E值最大相差0.001 9,膜面反射、玻面反射、透过颜色ΔE值均小于3CIELAB,说明DLC膜可以通过热处理去除,且热处理后的Low-E玻璃低辐射性能和光学性能未受到影响。     

GaAs中碳受主局域振动模光吸收特性

在ＧａＡｓ中碳受主局域振动模光吸收主带的低能侧发现一个吸收边带。研究了该边带的起因及其对主吸收带积分面积测定和主吸收带积分面积温主关系的影响。     

活性炭纤维对凝结水中 Fe3＋的吸附研究

通过静态吸附和动态吸附实验,考察了活性炭纤维（ ACF）对Fe3＋的吸附性能,研究了不同实验条件下的动态吸附穿透曲线;通过扫描电镜,观察了吸附前后ACF的表面形貌。结果表明：ACF对Fe3＋的吸附既有物理吸附又有化学吸附;随着ACF比表面积增大或吸附溶液温度升高,对Fe3＋的吸附容量增大;动态吸附时,当流速为10 mL／min,最有利于出水达标。     

微波等离子体化学气相沉积法制备的新型纳米片状碳膜

在甲烷和氢气的混合系统中,利用石英管型微波等离子体化学气相沉积方法,在硅片上制备了新型的纳米片状碳膜．利用场发射扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对碳膜的结构进行了表征,结果表明碳膜是由长1μm、宽100nm的纳米碳片相互缠绕而成．最后简单讨论了新型碳纳米片的形成机理．