用金刚石薄膜制造X射线掩模版

用金刚石薄膜作为支撑层，金作为吸收体；同时，采用Ｎｉ合金过渡层来解决金刚石与金之间结合力小，热匹配性能差等问题。制作的掩模版具有较好的反差效果。同时，还具有工艺简单，成品率高等特点。     

光刻掩模版的低温气溶胶清洗探究

介绍了CO₂低温气溶胶干洗技术的机理和清洗效果。描述了基于动量传递的颗粒去除理论模型,验证了亚微米颗粒的去除效率高于较大颗粒。用Si₃N₄颗粒在硅片上的实验结果表明,亚微米颗粒的去除率比30μm以下的较大颗粒高10%。介绍了该技术在光刻掩模版清洗中去除各种污染颗粒的实验结果。光刻掩模版的机械修复后清洁结果表明,石英颗粒被有效去除,而不会损坏相邻图形的线条。无机污染物,如硫酸铵,通过低温气溶胶清洗去除,效率达到99%,如使用光学检测工具所见。通过多次清洗测量清洗对掩模相位和透射的影响。结果表明,在16次清洗循环中,传动比变化为0.04%,相位变化为0.37°。因此,可以使用CO₂低温气溶胶可以对来自掩模版的亚微米颗粒进行非侵入性清洁。     

成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法

提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.     

成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法

提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.     

采用PMMA LB膜作为电子束抗蚀层进行100mm高分辨率铬掩模版的制作研究

在发展流动亚相法制备高粘度聚合物分子单层膜装置的基础上，研究制备大面积，高质量的ＰＭＭＡ ＬＢ膜抗蚀层，并用于１００ｍｍ Ｃｒ掩模版的电子束光刻制造技术中，采用现行标准的湿法工艺获得了分辨率为０．５μｍ，特征线宽为０．３８μｍ的高分辨率１００ｍｍ铬掩模版，为深亚微米掩模版制造的研究探索了一条新路。     

上海光源软X射线谱学显微光束线的进展与应用

介绍了国外与国内同步辐射装置及第三代同步辐射光源进展,回顾了国内软X谱学显微光束线的发展过程,叙述了上海同步辐射光源及软X谱学显微光束线的进展.展望了软X谱学显微光束线的应用,其为开辟新科学、新领域发挥了积极推动作用.     

基于FRFT的风廓线雷达间歇杂波抑制

风廓线雷达回波信号中的间歇强杂波严重干扰了大气湍流回波信号的识别和频谱估计。为了抑制该类杂波,提出了基于分数阶Fourier变换（FRFT）的杂波抑制方法,该方法利用间歇强杂波在分数阶Fourier频率域的能量聚集特性,通过窄带带阻滤波器在分数阶Fourier频率域滤除杂波,且对杂波滤除后的信号进行时域重构进而得到杂波抑制后回波信号的频谱图。与未进行杂波抑制回波信号的频谱图相比,间歇杂波部分被抑制明显。理论及仿真实验结果证明了该方法的有效性。     

基于回归的X线胸片肺野自动分割算法

X线胸片中肺野的精确定位与区分是X线胸片辅助诊断系统的必要步骤，它在准确定位不同肺野位置后可以与病灶检测模块相结合并输出自动化报告，从而辅助医生进行诊断。基于此，提出一种基于回归的肺野分割算法，能够快速准确地完成肺野分割。在临床试验中，对比多种分割及分类算法，该算法具有更高的准确率和灵敏度。     

基于边界追踪从胸部X线图象中抽取肺区的算法

提出一种基于边界追踪法的从胸部X线图象中抽取肺区的新算法。该方法能从肺区边缘与背景邻接部分的象素灰度变化非常平缓的X线图象中以最大阀值分离肺区与背景。     

基于BP和RBF神经网络的C-V2X无线资源管理

为了提升蜂窝车联网（Cellular Vehicle-to-Everything,C-V2X）资源复用的有效性和降低终端间的干扰,提出通过神经网络对未来时刻车流量的预测辅助无线资源管理方案。依据车载单元（On Board Unit,OBU）与路侧单元（Road Side Unit,RSU）间的车联网消息,获取RSU覆盖区域内各时刻的车流情况,分别采用BP（Back Propagation）神经网络和RBF（Radial Basis Function）神经网络进行短时交通流预测。RSU根据预测结果进行自适应分簇,簇间复用相同资源,簇内进行资源池的划分,RSU覆盖内的OBU在划分的资源池中选择发送资源,从而减少终端间的干扰,并保证热点区域车辆拥有更多的资源。仿真结果表明,在道路交通拥塞的场景下,所提方案的数据包接收率较标准中的方案提升14%,较典型文献方案提升10%,保证了通信的可靠性。     

相移掩模对曝光图形空间像光强分布影响的计算机模拟

本文讨论了提高曝光分辨率的一种主要方法：相移掩模方法。分析了相移掩模提高分辨率的原理，提出了相移掩模成像的模拟思想，推导了数学公式，并实现了计算机模拟，给出了一些初步结果。     

相移掩模模拟软件研究

本文将报导我们编制相移掩模模拟软件有关工作，分析其中几个重要参数的影响，同时在非相干，部分相干，以及干相光照明下对曝光线条边角的圆化建立了数学模型，并与实验结果加以比较。     

基于多重变换的一种雷达目标识别方法

利用多重变换，提出了一种雷达上述识别方法，将雷达回波信号与本振信号混频处理后采样，进行FFT，得到目标的一维距离像，计算其马氏距离，利用小波变换对马氏距离序列进行数据压缩，得到目标的特征向量，由相关识别法进行目标识别，由3类飞机模型测量数据的识别结果表明，该方法具有较高的识别率。     

基于三维图像快速分层滤波的聚焦梯度模拟方法

基于透镜成像模型推导出模糊函数σ与物距及透镜焦距的关系．采用对深度三维图像自适应分层滤波方法，引入差异度函数，按差异度函数把深度图像分解成Ｋ个ｚ方向上不相交的子图像，通过对子图像的滤波合成，降低算法的复杂度，并使滤波后的误差控制在给定范围内，引入ａｌｐｈａ值、按层合成等手段解决滤波后的遮挡及边界问题．为计算机渲染（ｒｅｎｄｅｒ）算法提供了一种新的后期处理途径     

一种基于左手介质的新型介质栅漏波天线的理论分析

提出了一种基于左手介质的新型介质栅漏波天线,并采用多模网络与严格模匹配相结合的方法,对该左手介质栅天线的辐射特性进行了仔细严格的分析.文中给出了漏波系数随天线结构参数变化的关系以显示该左手介质天线特有的性质.数值结果表明这种新型漏波天线比传统介质栅天线具有更强的辐射能力.讨论了产生这种现象的原因.     

半导体光刻技术及设备的发展趋势

随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小,光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。     

一种新型左手介质栅波导滤波特性的分析

提出了一种新型的基于左手介质的介质栅波导阻带滤波结构,并采用多模网络与严格模匹配相结合的方法,对该左手介质栅波导阻带滤波特性进行仔细严格的分析;给出了主模的Brillouin图,以及滤波结构的归一化中心频率、阻带的宽度和带内最大衰减等特性和结构参数的关系,并与传统右手介质栅波导作了比较,说明了产生两者不同特性的原因.数值结果表明左手介质栅波导的阻带带宽和带内衰减要比通常介质栅波导的阻带带宽和带内衰减大得多.这些计算结果对于所提新型带阻滤波结构的设计有指导意义.     

光刻技术的现状和发展

着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.     

用复射线展开法分析目标的雷达截面

本文根据复射线分析和场的高斯波束展开,提出了一种计算复杂目标电磁散射特性的简便方法。由于复射线法不受目标形状的限制,因此该方法可用于任意形状的目标。本文以矩形进气道为例,进行了雷达截面分析计算,并将计算值与测试值比较,结果表明这种方法是可行的。     

基于校正率的红外焦平面阵列非均匀性校正评估新方法

提出一种新的能对非均匀性校正效果进行定量计算的评估测度“校正率”,并进行了实验验证.校正率以时域噪声为参考标准来衡量图像非均匀特性,不仅可以反映图像显示效果,还可以反映图像测温精度.该方法可用于IRFPA系统的性能评价和非均匀性校正方法校正效果评价,对非均匀性校正的研究具有重要意义.