首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 171 毫秒
1.
薄膜SOI/CMOS的SPICE电路模拟   总被引:1,自引:0,他引:1  
鉴于SPICE是目前世界上广泛采用的通用电路模拟程序,具具有可扩展模型的灵活性,我们通过修改SPICE源程序把新器件模型--SOIMOSFET模型移植入SPICE中,通过我们的模拟工作,证实了我们模型的正确性和电路实用性,分析了器件参数对SOI/CMOS电路速率的影响,这些结论可以很好地指导电路设计和工艺实践。  相似文献   

2.
甘学温  奚雪梅 《电子学报》1995,23(11):96-98
SOI-MOSFET主要模型参数得一致的提取,因而该模型嵌入SPICE后能保证CMOS/SOI电路的正确模拟工作,从CMOS/SOI器件和环振电路的模拟结果和实验结果看,两者符合得较好,说明我们所采用的SOI MOSFET器件模型及其参数提取都是成功的。  相似文献   

3.
张兴  石涌泉 《电子学报》1996,24(2):96-99
开发了适用于薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟软件,该模拟软件采用集成数值模型,将薄膜SOI器件的数值模拟与电路模拟有机地结合在一起,实现了薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的精确数值模拟,利用这一软件较为详细地分析了硅层厚度为50 ̄400nm、沟道长度为0.15 ̄1.0um的CMOS/SOI环形振荡器电路,使我们对深亚微米薄膜CMOS/SOI环振的特性及工作机理了较  相似文献   

4.
丁保延  江科 《微电子学》1997,27(2):90-93
作为一种重要的神经元网络的竞争电路,以往的电路实现结构往往有电路复杂度大和相互联接过多的缺点,不利于VLSI实现。在rail-to-rail放大器结构的基础上,提出了一咱新的CMOS电路实现方法,解决了这些问题。HSPICE的模拟结果证明了设计的正确性。  相似文献   

5.
本文简要地回顾了CMOS电路芯片上ESD保护电路设计技术发展概况,给出了在中小规模、大规模及超大规模各阶段的CMOS电路芯片上ESD保护电路的主流技术,双寄生的SCR结构VLSI CMOS芯片上ESD保护电路的最新设计技术,就其ESD保护原理、设计技术及取得的成果做了较详细分析和探讨。对于研制高密度、高速度的VLSI CMOS电路。开展高ESD失效阈值电压,小几何尺寸及低RC延迟时间常数保护电路的  相似文献   

6.
薄膜全耗尽SOI门阵列电路设计与实现   总被引:1,自引:1,他引:0  
魏丽琼  张兴 《电子学报》1996,24(2):46-49
在Daisy系统上设计出通用性强、使用方便的SOI门阵列母版及门阵列电路,并采用1.5umCMOS/SOI工艺在薄膜全耗尽SIMOX材料上得以实现,其中包括多种分频器电路和环形振荡器,环振可工作在2.5V,门延误时间在5V时为430ps。  相似文献   

7.
pH—ISFET器件及其电路的SPICE模拟方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文提出了用SPICE软件模拟pH-ISFET器件及其电路的方法。通过SPICE内部的MOSFET参数和引入一些信号源来实现对pH-ISFET传感器及其电路的pH灵敏度关系,瞬态响应以及温度特性的模拟,所得结果与实验观测结果基本相符。  相似文献   

8.
亦然 《微电子学》1994,24(3):69-71
SiGe与SOI:模拟/混合信号电路的先导技术亦然摘编在当今众多模拟/混合信号工艺技术中,又出现两种新兴技术。这就是正在崭露头角的硅-锗异质结双极晶体管(SiGeHBT)工艺和已经在大多数先进的互补双极(CB)工艺中大显身手的绝缘体上硅(SOI)技术...  相似文献   

9.
本文叙述基于0.18μmCMOS工艺的10GHz时钟恢复电路的核心电路采用了辅以PLL的注入同步窄带环形压控振荡器(ISNR-VCO,injection-synchronized narrowband ring-VCO)。模拟结果表明,该电路能够工作在10GHz频率上,注人信号峰值0.42V时,同步范围可以达到360MHz。  相似文献   

10.
《电子产品世界》2001,(2):39-39
假若在半双工数据传输网络 中监视串行数据,在把交织在一起的双向字符串分离之前,必须知道数据的传输方向。 在这种场合,如果协议尚未知,或者实时检测任何同步字符太复杂以至不可行,一种解决办法是用硬件确定数据方向。图1的电路可提取数据的方向信号,然后用此信号把串行数据送入适当的通道以便监控。图中的电阻器RI-R5值适合工作在CMOS/TTL电平并成功地通过了最高9600波特SmartCard(ISO7816)串行数据通信的测试。 电路工作如下:当数据方向是从I/O端口 ANI/O端口 B时,假若传送逻辑1…  相似文献   

11.
一种12位开关电流型Σ-△调制器   总被引:3,自引:0,他引:3  
许刚  沈延钊 《微电子学》2000,30(4):234-237
开关电流电路(SI)是近年兴起的一种模拟电路。文中引用了新型的两步采样开关电流技术(S^2I),对该电路中减小时钟馈漏效应的几种方法进行了分析。利用差分平衡结构的S^2I存储单元设计了平衡S^2I积分器,并在此基础上设计出一种平衡差分结构的二阶∑-△调制器。该调制器能够完全与标准CMOS数字工艺兼容。利用标准1.2μm数字COMS工艺的HSPICE模型参数进行了分析,该电路信噪比达到73.3dB,  相似文献   

12.
一种新的高性能开关电容排序电路   总被引:2,自引:2,他引:0  
林谷  石秉学 《半导体学报》1998,19(8):620-624
本文首次提出了一种高性能的开关电流型排序电路.它采用开关电流镜跟踪/保持输入信号,通过全对称的WTA(Winner-Take-Al)电路网络求最大,最后分时输出排序结果.该电路结构简单、灵活,规模易扩展.PSPICE模拟结果表明,该电路的输出电流相对于输入电流的偏差小,最大偏差为5μA;排序电路有较高的分辨精度,在5μA以内.由于采用开关电流技术,该电路完全同数字CMOS工艺相兼容,易于VLSI实现  相似文献   

13.
一种新的高性能开关电流排序电路   总被引:5,自引:5,他引:0  
林谷  石秉学 《半导体学报》1998,19(2):144-150
本文首次提出了一种高性能的开关电流型排序电路.它采用开关电流镜跟踪/保持输入信号,通过全对称的WTA(Winner-Take-Al)电路网络求最大,最后分时输出排序结果.该电路结构简单、灵活,规模易扩展.PSPICE模拟结果表明,该电路的输出电流相对于输入电流的偏差小,最大偏差为5μA;排序电路有较高的分辨精度,在5μA以内.由于采用开关电流技术,该电路完全同数字CMOS工艺相兼容,易于VLSI实现  相似文献   

14.
本文概述了电视发射机白峰限幅电路的工作原理,对法国THOMSON-LGT型发射机的白峰限幅电路进行了简要分析并给出了调整方法。  相似文献   

15.
德国西门康(SEMIKRON)公司生产的SKHI21/22混合双路IGBTMOSFET驱动器具有先进的监控电路,可有效防止IGBT损坏,本文着重了介绍了其内部结构功能和部分典型参数。  相似文献   

16.
帧中继网络提供永久虚电路(PVC) 和交换虚电路(SVC) 两种业务, 但目前已应用的帧中继网络中, 只采用PVC 业务, 帧中继的基本功能是在OSI第2 层以简化的方式传送数据, 而纠错、重发流量控制等留给智能终端去处理;帧中继的带宽管理涉及虚电路带宽控制和网络容量配置; 帧中继的国际标准有ITU- T 标准、ANSI标准和帧中继论坛标准。  相似文献   

17.
冯耀兰 《电子器件》1997,20(4):21-24
根据薄膜SOI MOS器件的特点和高温应用的特殊考虑,采用计算机模拟技术,得出最大耗尽层宽度xdmax和衬底掺杂浓度NB及温度T的关系曲线。研究结果表明,在常温下xdmax随NB的增大而减小当NB一定时,xamax随温度的升高而减小。因此,为满足薄膜器件的硅膜厚度dSi小于xdmax的条件及温度应用的特殊要求,高温薄膜SOI MOS器件dSi的设计必须考虑NB和温度的综合影响。  相似文献   

18.
开关电流电路中的时钟馈入效应   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文采用MOS开关的集总时变RC模型,对开关电流(SI)电路中的时钟馈入效应进行了详细的理论分析,导出了开关电流镜中钟馈电压和钟馈电流的表达式,从而揭示出了钟馈电压/电流与工艺参数、MOS器件尺寸、时钟信号幅值及其下降沿斜率等之间的内在关系。用它可对SI电路中时钟馈入的影响进行快速预测。文中的理论分析与SPICE仿真结果相一致。所提供的结果对于设计高精度低功耗SI电路有应用价值。  相似文献   

19.
自对准硅化物CMOS/SOI技术研究   总被引:2,自引:2,他引:0  
在CMOS/SIMOXSOI电路制作中引入了自对准钴(Co)硅化物(SALICIDE)技术,研究了SALICIDE工艺对SOIMOSFET单管特性和CMOS/SOI电路速度性能的影响.实验表明,采用SALICIDE技术能有效地减小MOSFET栅、源、漏电极的寄生接触电阻和方块电阻,改善单管的输出特性,降低CMOS/SOI环振电路门延迟时间,提高CMOS/SOI电路的速度特性.  相似文献   

20.
在SOI/CMOS电路制作中引入了自对准钴硅化物(SALICIDE)技术,研究了SALICIDE工艺对SOI/MOSFET单管特性和SOI/CMOS电路速度性能的影响。实验表明,SALICIDE技术能有效地减小MOSFET栅、源、漏电极的寄生接触电阻和薄层电阻,改善单管的输出特性,降低SOI/CMOS环振电路门延迟时间,提高SOI/CMOS电路的速度特性。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号