共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
采用化学刻蚀法在钠钙硅平板玻璃表面制备具有减反增透性能的膜层.利用Na2 SiO3、EDTA二钠、AlCl3溶液对预处理后的玻璃表面进行化学刻蚀,使玻璃表面的化学键断裂,在玻璃表面形成疏松的纳米孔状结构,利用扫描电镜对刻蚀后玻璃表面和断面形貌进行观察,通过对玻璃表面空隙及断面膜层厚度的调控实现入射光在传递过程中产生相消干涉,获得减反增透效果.固定刻蚀液浓度和刻蚀时间,样品透过率随刻蚀温度的升高先增大后降低;固定刻蚀液浓度和刻蚀温度,样品透过率随刻蚀时间的增加先增大后降低.通过调节刻蚀液浓度,刻蚀时间和温度,可制备得到不同透过率和微观结构的减反射样品.使用EDS能谱和红外光谱对玻璃的刻蚀机理进行了研究和验证.在80℃实验条件下,经6h的溶液刻蚀后,在玻璃表面形成宽为20 ~ 30 nm,厚度为100 ~ 200 nm分布比较均匀的纳米孔状结构,玻璃的平均透过率达98.5%,比原始基片提高了8%,雾度由原来的0.20%增加到4.97%,蚀刻前后玻璃成分基本无变化,玻璃的光学性能得到了有效的提高. 相似文献
2.
随着光伏产业的高速发展,与之配套使用的减反射玻璃重新进入了研究者们的视野。本文采用湿化学二步刻蚀法制备了具有减反射性能的Na2O-CaO-SiO2平板玻璃,采用分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜和X射线能谱仪等测试样品的透过率、表面形貌和断面膜层厚度、表面化学成分、耐酸性和硬度,研究了反应温度和反应时间、玻璃膜层结构与透过率的关系。通过使用弱碱性的混合盐溶液对Na2O-CaO-SiO2玻璃表面进行化学刻蚀,使玻璃表面Si—O键断裂,在玻璃表面形成纳米膜层结构,当膜层厚度达到一定厚度时,一定波长的光在玻璃表面发生相消干涉,透过率最高可达到97.8%,刻蚀前后玻璃成分基本无变化,铅笔硬度达到3H。 相似文献
3.
4.
5.
6.
采用射频-直流磁控溅射法,首先通过不同沉积时间在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅过渡层,然后在过渡层上沉积DLC薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、全自动显微硬度仪、紫外可见分光光度计,研究了不同沉积时间下碳氧化硅层对DLC薄膜的结构组成、表面形貌、表面硬度、可见光区域内透过率性能的影响.结果 表明,随着沉积碳氧化硅层时间的增加,DLC薄膜样品硬度先增大后减小,可见光区平均透过率逐渐下降;当沉积过渡层时间为5 min时,DLC薄膜样品的玻璃硬度值最大(795 HV),相比未镀膜的玻璃基片(610 HV),硬度值增加了30.33%,可见光区域内平均透过率为58.47%. 相似文献
7.
采用不同功率、压力和时间的空气冷等离子体对超高相对分子质量聚乙烯(UHMWPE)纤维进行处理,测试其力学性能和摩擦性能,并对处理前后纤维的形貌进行观察。结果表明,经空气冷等离子体处理后,纤维的断裂强力有所降低,静摩擦系数和动摩擦系数均得到大幅度提升,纤维表面出现横向均匀刻蚀层,粗糙度增加。 相似文献
8.
本文采用不同浓度和温度下的铬酸溶液对超高分子量聚乙烯纤维进行表面处理。通过DSC、DMA、X-衍射和SEM分析纤维的结构,测试了纤维接触角、断裂强度和层间剪切强度。实验结果表明,随着处理液酸浓度的增加,纤维表面刻蚀程度增加,层间剪切强度增大,而纤维表面极性不变;处理时间和溶液温度须控制在一个合适的水平。 相似文献
9.
10.
11.
12.
13.
14.
《玻璃钢/复合材料》2017,(7)
为增强玄武岩纤维(BF)在沥青中的加筋及增强效果,采用1.0 mol/L及2.5 mol/L的Na OH溶液对BF进行表面处理,通过环境扫描电镜和红外光光谱试验对其表面细观形貌进行了细观观测,原样BF表面光滑,Na OH处理后的BF呈现明显的皮芯结构,且随着Na OH的浓度及处理时间的增加,BF的羟基含量越高;通过软化点、5℃延度、车辙因子及环境扫描电镜试验等,研究了玄武岩纤维沥青的高、低温性能及拉拔断口形貌,随着BF的侵蚀程度越大,玄武岩纤维沥青性能越好,且得到了Na OH对BF侵蚀的最佳处理时间和浓度分别为45 min、2.5 mol/L。 相似文献
15.
16.
17.
在微电子封装领域,采用等离子体处理聚酰亚胺(PI),主要考察粗糙度、润湿性及刻蚀速率3个指标。改变PI层粗糙度主要依靠粒子的物理轰击而改变表面微观形貌来实现。随着时间累加,Ar等离子体对PI层轰击作用逐渐增强。改变PI层润湿性主要依靠O2等离子体与PI反应,在PI表面产生OH,进而提高PI层亲水性。随着O2等离子体处理时间增大,水滴角先是逐渐下降,90 s后水滴角基本保持不变。提高PI层的刻蚀速率主要通过在O2中添加四氟化碳(CF4)实现。随着O2中CF4的含量增加,PI的刻蚀速率逐渐增大,并在CF4含量达到20%时,刻蚀速率达到最大,随后刻蚀速率逐渐降低。 相似文献
18.
19.