激光沉积硅膜的形成和微结构

前言 现代半导代技术中~[1]沉积薄膜的方法起着重要作用。激光可以为薄膜的沉积极提供一种独特的热源和光源，可以引起热或光化学作用。激光方法能够减少或消除其他方法的问题~[2]，能够沉积出高质量的薄膜，这种技术的主要优点是在沉积过程中可选择空间，薄膜生产可以限制在基板一个很小的点上。当然大面积沉积也是可能的。大的冷区同小的热区相比的情况有效地防止气相反应和基板还原。     

钛酸铅系陶瓷和薄膜

报道了九十年代通过组成和（或）工艺的调整在提高钛酸铅系陶瓷的工艺性、电性能方面的进展,以及用溶胶－凝胶、射频磁控溅射、脉冲激光沉积、激光消融技术、金属－有机物化学气相沉积和反应分子束外延制备薄膜的先进方法和检测手段。     

以氟化氩准分子激光消融角膜

以氟化氩准分子激光消融角膜本文用实时非接触方法研究了波长为１９３ｎｍ的准分子激光单脉冲对角膜的消融过程，结果显示各个脉冲的消融情况相同，说明在组织中没有光化学作用累积，但对每一脉冲则发生动态光学现象，而显著影响辐射传输过程。１．引言脉宽约１０ｎｓ的１...     

用脉冲激光沉积法制备类金刚石膜及金刚石薄膜

简要评述了用脉冲激光沉积技术制备类金刚石膜及金刚石薄膜的研究进展，总结了激光脉冲沉积制备薄膜的基本原理及其特点，分析了激光波长，能量，衬底温度等对薄膜质量的影响。     

利用酞菁铅气体传感器的瞬态特性提高传感器的选择性

通过真空蒸发沉积技术在叉指状电极上制备了酞菁铅薄膜气体传感器。实验发展，酞菁铅薄膜对甲醇和丙酮这两种蒸气具有很高的灵敏度。对于甲醇蒸气，酞菁铅薄膜具有很快的响应速度，吸附和脱附时间只要2-3s，信号随即趋于稳定。对于丙酮蒸气，在吸附的初试阶段酞菁铅薄膜的响应时间与吸附甲醇蒸气时的相差不大，但酞菁铅薄膜的电阻率在经过这个快速响应变化以后并不趋向一个稳定值而是缓慢上升，最后甚至比吸附前的电阻率略高。通过电阻率-气体吸附时间响应曲线的瞬态特性分析，方便、清楚地区分了甲醇和丙酮两种液体。     

激光微型加工及应用前景

目前激光微型加工主要用于微电子学、微型机械加工、微光学领域，本文对它在这几方面的应用情况及其他方面的前景作一介绍。1 微电子学在微电子学中，激光工艺广泛用于以下几类工序：●激光光刻、集成电路修复、编码和微标志等；●激光微调电子元件：电阻、石英谐振腔、滤波器和薄膜电路的功能微调等；●记录数字信息和模拟信息；●激光沉积薄膜和微结构；●半导体的退火和掺杂；●元件的微焊接、钻微孔、衬底切割和划片等；●激光局部热加工和光化学加工，如LCVD、腐蚀、无掩模集成电路布局等。作为例子，指出激光光刻时必须解决的问题…     

脉冲激光沉积工艺

脉冲激光沉积是一种新型沉积工艺，跟其它沉积工艺相比它具有许多的优点，这是因为在沉积过程中其靶材料的相对原子浓度可保持不变，从而可制备出理想配比的沉积薄膜。本文介绍了采用这种脉冲激光沉积工艺制备而成的新型ＺｎＯ：Ｇａ透明导电薄膜，以及Ｚｎ－Ｇａ２Ｏ４和Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｔｂ荧光薄膜。     

准分子激光离体心肌消融术

用XeCl准分子激光在空气、生理盐水和血液中对离体猪心脏进行了心肌消融.实验表明,以光化学分解为主体的有热效应和机械压力效应是心肌消融的主要机制.     

薄膜制备新技术及其应用研究

综述了近几年国内外在薄膜制备技术方面的研究进展，着重比较了蒸发沉积、溅射沉积、激光沉积、CVD、MBE和Sol-Gel等技术的优缺点，分析了这些技术在薄膜制备中应用前景。     

脉冲激光沉积高性能薄膜制备及其应用研究进展

随着脉冲激光器的飞速发展和成本下降,利用脉冲激光沉积制备高性能薄膜逐渐成为近年来的一个研究热点,被广泛应用于多个领域。本文首先概述了脉冲激光沉积的基本原理和特点;然后从材料体系的角度系统地综述了近年来脉冲激光沉积高性能薄膜的研究现状,详细地介绍了脉冲激光沉积制备的金属薄膜、合金薄膜、碳薄膜、化合物薄膜以及复合薄膜的工艺、结构、形貌和性能特点,继而对薄膜沉积技术在光电、新能源、生物、超导、电子封装等重点和新兴领域的应用现状进行介绍;最后对脉冲激光技术制备高性能薄膜进行了总结和展望。     

脉冲激光沉积Al膜的沉积模式及沉积速率研究

为了给脉冲激光沉积(PLD)法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据,以纯铝块作为靶材,采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究了Al薄膜的厚度均匀性。同时,在旁轴的沉积模式下分别研究了基片温度、激光功率和重复频率对A l薄膜沉积速率的影响规律。实验结果表明,采用PLD方法在旁轴的沉积模式下获得的Al薄膜的厚度更加均匀。随着基片温度的增加,薄膜的沉积速率反而降低。升高激光功率,薄膜的沉积速率也随之提高。而在激光重复频率的变化过程中,Al薄膜的沉积速率有一最大值。     

准分子激光化学反应淀积硫化物薄膜

提出了一种新的激光光化学三元反应体系，用于制备硫化铅薄膜。应用吸收光谱、扫描电镜和Ｘ射线光电子能谱等测试手段研究了膜的性质和组成，指出了该方法淀积硫化物薄膜的可行性。     

影响激光诱导等离子体喷射速度的因素

利用光学多通道分析仪（ＯＭＡⅢ）分析了脉冲激光沉积ＢａＴｉＯ３薄膜过程中激光诱导等离子体束的飞行时间谱。根据不同实验参数与条件下等离子体束的飞行时间谱的特征，讨论了条件对等离子体喷射速度的影响。结果表明，在脉冲激光沉积薄膜的情况下，喷射等离子体的飞行速度主要依赖于作用于靶面的激光能量密度。     

脉冲激光纳米薄膜制备技术

脉冲激光薄膜沉积（ＰＬＤ）是近年来受到普遍关注的制膜新技术。简要介绍了该技术的物理原理;探讨了脉冲激光沉积制膜的物理过程,激光作用的极端条件及等离子体羽辉形成的控制对薄膜成长的影响;评价了脉冲激光沉积技术在多种功能材料薄膜,特别是纳米薄膜及多层结构薄膜的制备方面的特点和优势,结合自行研制的设备,介绍了在ＰＬＤ基础上发展起来的兼具分子束外延（ＭＢＥ）技术特点的激光分子束外延技术（Ｌ－ＭＢＥ）,指出脉冲激光沉积技术在探讨激光与物理相互作用和薄膜成膜机理方面的作用,尤其是激光分子束外延技术在高质量的纳米薄膜和超晶格等人工设计薄膜的制备上显现出的巨大潜力。     

脉冲激光沉积工艺参数对生物活性薄膜的影响

脉冲激光沉积是近年来出现的一项制备薄膜的新技术,在制备生物活性薄膜方面显示出独特的优越性。介绍了脉冲激光沉积技术的原理及特点,详细综述了反应气氛、衬底温度、激光波长、能量密度、靶材性能、沉积速率及薄膜厚度等工艺参数对羟基磷灰石及生物玻璃薄膜组织及性能的影响,展望了该项技术的应用前景。     

功能梯度薄膜的脉冲激光沉积研究进展

介绍了功能梯度薄膜材料的特点和应用 ;比较了功能梯度薄膜常用制备方法 ;概括了功能梯度薄膜制备中的掺杂技术并给出了脉冲激光沉积功能梯度薄膜的模型 ;论述了脉冲激光沉积技术在制备功能梯度薄膜材料方面的应用与最新进展     

脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究

用脉冲激光沉积方法,以多靶交替溅射方式,在SiO2/Si基底上沉积镱铒共掺Al2O3光学薄膜,讨论了脉冲激光能量对薄膜沉积速率、表面形貌、光致发光强度的影响.在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好,脉冲激光能量较低条件下制备出的薄膜的表面形貌较均匀.综合放大器增益系数对光致发光强度和光刻工艺对薄膜表面形貌的要求,薄膜应该在合适的激光能量下制备.脉冲激光溅射沉积方法与中频磁控溅射方法相比,在抑制上转换发光方面具有优越性.     

脉冲激光沉积β-FeSi2/Si(111)薄膜的工艺条件

用FeSi2合金靶作为靶材,采用准分子激光沉积法在Si(111)单晶基片上制备了单相的-βFeSi2薄膜,并将飞秒脉冲激光沉积法(PLD)引入到-βFeSi2薄膜的制备工艺中;用X射线衍射仪(XRD),场扫描电镜(FSEM),能谱仪(EDS),紫外可见光光谱仪研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能。基片温度为500℃,采用KrF准分子脉冲激光沉积法可获得单相的-βFeSi2薄膜。衬底温度为550℃时,-βFeSi2出现迷津状薄层。采用飞秒脉冲激光法-βFeSi2薄膜的合成温度比准分子脉冲激光沉积法制备温度低50~100℃;薄膜的晶粒分布均匀连续,没有微米级的微滴;飞秒脉冲激光沉积效率比准分子激光的高1000倍以上,是一种快速高效的-βFeSi2薄膜沉积技术。     

AZO薄膜双靶PLD沉积及其光学性能分析

介绍了利用锌靶和铝靶在氧气气氛中进行掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜的脉冲激光沉积(PLD)新方法，并与利用ZnO陶瓷靶沉积AZO薄膜的方法进行了对比，分析了此方法的优势和特点。描述了利用该方法在玻璃和硅片上沉积AZO薄膜的实验过程。通过透射光谱分析了沉积的透明导电膜在可见光区的透射性能，用X-射线衍射谱(XRD)研究了薄膜的结构。     

脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展

主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和同内外研究进展,并与几种常规制备方法进行了对比,给出了脉冲激光沉积掺杂对VO2溥膜特性的影响,以及脉冲激光沉积制备VO2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备VO2薄膜存在的问题和发展方向.