亚微米电子束曝光机数控电流源系统

本文介绍了亚微米电子束曝光机电流源系统。该系统在国内首次使用计算机实现了自动化调节,系统内关键部位使用了大量先进器件,多达20路独立可调的电流输出,稳定度均达到2×10~(-5)/1小时。其中对稳定度要求最高的物镜电源,由于首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源系统,形成了一个闭环反馈控制电路,使它达到5×10~(-6)/4小时的稳定度。该系统还具有很强的抗干扰能力,纹波<1×10~(-5)V_(P-P)。这些指标保证了0.1μm束斑的精度要求,它的研制成功为电子束曝光机的自动化调机奠定了基础。     

电子束曝光机束斑的自动测控系统

根据亚微米电子束曝光机束斑直径、束流大小与各磁透镜电流之间的关系以及刀口法测试束斑的原理，设计了一套总线式的束斑自动测控系统。该系统以ＩＢＭ—ＰＣ／ＡＴ作为主控机，系统包括用于总线扩展的总线驱动板、电子束扫描控制板和束流信号数据采集板。     

有限长单位脉冲响应滤波器在电子束电源系统中的应用

本文介绍了应用于亚微米电子束曝光机电源系统中的ＦＩＲ滤波器。在高稳定状态下提供严格的线性相位特性，使系统指标确保了０．１μｍ束斑的精度要求。     

亚微米电子束曝光机工件台控制系统

激光工件台是电子束曝光机关键部件之一。它主要任务是完成图形的拼接。本文描述双频激光干涉仪为测量系统的计算机控制的数字伺服系统以及真空条件下的Ｘ－Ｙ工件台。该系统用于亚微米圆形矢量扫描电子束曝光机中。     

场发射电子枪第一阳极电源的研制

用场发射电子枪作为高分辨率扫描透射电子显微镜的电子源有亮度高、束斑小、能散度低等优点。本文的工作就是研制用于扫描透射电子显微镜的场发射电子枪的第一阳极电源V_i,对此我们做了以下工作。1.电源V_i控制着场发射电子枪的场致发射电子束流的大小。本文根据电子显微镜实际运用要求,从场发射理论出发。计算了电源V_i的各项指标,得出其输出电压为500→5000伏,输出电流为0→200微安,稳定度应优于9×10~(-4)。2.电源V_i为置于第二阳极电源V_0(-50kV)之上的一正高压直流电源。为了能在低压端调节置于高压V_0上的电源V_1的输出电压,并使之达到所需的稳定度,本文对现有资料文献进行了归纳和分析,根据差     

一种高精度微电流测量放大器的研制

介绍了用于电子束曝光机束斑和束流测量的高精度电流/电压转换放大器。根据束流极其微弱这一特定情况,为了得到超低漂移、超低噪声和强抗干扰的高精度性能指标要求,采用了对称补偿电路设计方案,合理选用高精度集成电路作为电路的核心器件。为了加强抗干扰能力,对关键技术进行了针对性的有效处理。通过实际工作运行,证明效果良好工作可靠,满足了电子束曝光机束斑和束流的高精度测量要求。     

电子束曝光系统中的物镜像差和最佳电子束电流

本文讨论微米及亚微米级电子束曝光系统中各种透镜像差对合成透镜弥散斑的影响,分析了最佳电子束电流与末级透镜束会聚半角的关系。计算结果表明,计算模拟技术用于求取电子束曝光系统最佳参数是方便的,该方法很适合于求取个别系统的精确答案;电子枪电源及透镜电源稳定性的提高可以减小透镜像差弥散斑并提高可获得的最大电子束流;衍射像差在亚微米电子束曝光系统中有不能忽略的影响。     

亚微米电子束曝光机镜筒光路与结构

介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计，该电子光学系统采用透镜内偏转设计，系统象差小，偏转灵敏度高，工件面上电流密度大，通过调试和使用，电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。     

亚微米图形曝光机

最近日本加农公司发表了一种用于超大规模集成电路的高精度投影曝光机,并已出售商品,以前人们普遍认为投影曝光方式,在大规模集成电路等微米领域的图形制作中是很有效的。但若用于超大规模集成电路等亚微米领域是不太可能的。加农公司采用综合透镜技术制出了超高分辨率透镜,进而打破了投影曝光方式不能用于亚微米技术的错误结论,成功地制出了亚微米图形曝光机。 用电子束或接触方式制作亚微米半导体器件一般是很有效的。但是,以激光和X线为光源的电子束方式,曝光时间太长。接触方式制备掩模太困难,成品率也低,因此都具有局限性。而投影曝光方式曝光时间短,又由于光掩模不与片子直接接触,所以成品率大大提高。 加农公司的这种新的亚微米图形曝光机不仅可以用作超大规模集成电路,也为超高频晶体管、CCD(电荷耦合器件)等新器件的研制开拓了新的途径。     

《微细加工技术》一九九二年 第1—4期目次汇编

题 目d“毒—h1.毒●。毒电子柬技术; 。≈●占I毒●甚●t●O对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析热场致发射电子源曝光系统的技术现状和应用前景电子束曝光机吊装结构工作台的分析研究亚微米电子束曝光机数控电流源系统LaB。阴极在电子束曝光机中的应用研究。尊‘如“岳●如·毒离子束技术善 。et鹄●也●e●4●。关于离子注入中温升的探讨LY一3A型冷阴极离子源氩离子束辅助反应溅射沉积氧化锆薄膜的微观分析铌酸锂的反应离子刻蚀第四届离子源国际会议简介离子注入机的国内外现状离子注入模型薄膜加工用考夫曼离子源的几个问题离…     

应用热管技术研制的精密采样电阻器

一、引言本文介绍的精密采样电阻器,是为电子束曝光机镜筒光路系统透镜电源研制的,透镜电源稳定度的高低,对电子束光路系统束点的稳定性和再现性,同样起着重要的作用;而透镜电源本身的稳定度要求在10~(-5)以上,精密采样电阻器的精度就要求达到100~(-5)数量级,当然这样高精度的采样电阻器亦可用于其它高稳定度电源。通过本采样电阻的工作电流一般在0.5～1A之间,并可适当调整,电阻器要求长时间的连续使用,而且本身的稳定度不大于3×10~(-6)v的数量级,要做到这些是有很大的困难的。对于透镜电源精密采样电阻器的处理方法是很多的,如有的用变压器油散热,油箱恒温;有的电阻基体采用螺旋管式中间通自来水冷却散热,然后再浸入油箱里恒温处理;还有的采用风冷等,这些所采取的各式各样的媒质散热的控温方法,都有着共同的弱点:结构复杂,使用不方便,从已达到的效果来看,是不很理想。     

MEBES－4型电子束曝光机简介

ＭＥＢＥＳ－４型电子束曝光机简介１前言随着半导体集成电路制造技术向着亚半微米和超大规模集成（ＵＬＳＩ）时代的跨进，作为半导体微细加工技术核心的电子束曝光技术，以其高精度、高分辨率、高生产率、高自动化程度和灵活的图形设计，短的制版周期等显著优点，而倍受...     

DJ—2可变矩形电子束曝光机

电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。     

高稳定度电子束透镜系统电源的研制技术综述

本文介绍了为我室新型电子束主机研制的高稳定度透镜系统电源。该透镜系统电源在关键技术的处理上,采用了精密稳压管零温度系数工作电流的检测方法、研制出温度互补的基准电压发生器,使用了高增益、低漂移的运算放大器功能块,并应用热管技术研制出精密取样电阻器及整机采用了屏蔽浮地措施等,使该透镜系统电源取得了较高的技术指标,特别是系统的Ⅲ物镜电源的长时间稳定度达到7×10~(-6)/8小时的指标。 该系统电源的长时间稳定度指标优于英国剑桥科仪公司1981年研制的EBMF—6.5型电子束机的物镜电源指标。     

电子束曝光机中成形束斑的获得和极限束流

现代扫描电子束曝光机中,能使靶上束斑形状和尺寸改变的方式最有发展前途和具有高效的生产能力。然而,除开各种技术原因之外,电子光学的限制,也密切影响着可变束曝光机的工作效率。首先是因为一般阴极的最大发射电流都较小;其次,到达靶上的成形束流,只是全部阴极电流的很少一部分。因此,需要对成形束斑中的束流提出某些原则性的约制,以同时满足下述两点要求:     

大功率半导体激光器驱动电源的设计

高能激光系统通常需要多种输出模式的驱动电源,现有电源存在输出模式单一的问题。采用能量压缩技术和电流串联负反馈技术实现了多输出模式半导体激光器驱动电源。分析了特殊设计高输入阻抗差分运算电路作为负反馈网络的工作原理,推导出了精确的参考电压与输出电流的关系式。最后,将所研制的驱动电源应用于国内首台400W工业级光纤激光器系统中,驱动电源实现了0~26A连续可调、稳定度优于0.15‰的连续电流和准连续电流输出。测试结果验证了设计思路的可行性,实现了半导体激光器驱动电源的多输出模式和高电流稳定度。     

应用于无源超高频射频识别标签的嵌入亚阈值参考源电流模稳压电路

本文设计了一种应用于无源超高频射频识别标签的电流模稳压电路。无源标签的能量必须通过整流电路从射频能量中获取。由于输入射频功率的巨大变化,整流电路的输出需经过稳压后才能为标签提供稳定的电源。通过嵌入亚阈值参考源对流向负载的电流进行精确控制,稳压电路的输出在-20-80℃温度范围内稳定在1-1.3V,并实现了约100kHz的带宽,保证了电源的快速恢复。电路在UMC 0.18um混合CMOS工艺下流片实现,电流功耗为1uA。     

电子束投影复印曝光机

本文介绍电子束投影复印曝光机的结构和性能。此复印曝光机的特点是采用电子束能够同时曝光大面积的图形,复印图形的面积为φ50毫米,最高分辨率为0.5微米。此复印曝光机可在半导体技术中用于复制高分辨率的掩模版和制作声表面波器件,光栅器件等。     

抗30kV高压反馈脉冲的灯丝电源设计

通过采用高压隔离变压器和大功率脉冲扼流圈等措施,解决了某大功率装置的大电流开关动作时,灯丝电源装置抗30 kV高压反馈脉冲的冲击问题,为大电流开关的灯丝加热提供了4路独立可调、高稳定度输出的电源。     

面向超短脉冲激光器泵浦源的驱动系统设计及应用

设计并实现了一种用于超短脉冲激光器泵浦源的驱动系统。该系统可以同时为五路半导体激光器提供高精度、高稳定度、高灵活性的恒温控制和恒流驱动。为了提高驱动系统的灵活性和可集成度,硬件部分采用上位机、控制、驱动、供电分开的模块化设计方案;基于嵌入式实时操作系统μC/OS-III开发了系统驱动程序,提高了实时性和扩展性,输出校正部分采用遗传算法优化的增量式PID算法,减少了系统的超调量和到达动态平衡的时间;驱动系统具有完备的保护措施,如软启动和关闭、驱动回路检测、过温保护等功能,确保了泵浦源的稳定运行。在实际应用中,半导体激光器温度稳定度优于0.035%,驱动系统输出电流稳定度优于0.001%。将研制的驱动系统集成到1.5 μm飞秒光纤激光器中驱动五路半导体激光泵浦源,获得的种子激光、放大器的输出激光脉冲光谱、脉冲序列和单脉冲均可稳定运行;经过连续3 h的测试,1.5 μm飞秒光纤激光器的输出功率稳定度为0.16%。