高纯六氟化钨的生产

六氟化钨在电子工业中有着广阔的应用前景,论述了目前工业化生产高纯六氟化钨（WF6）的方法、六氟化钨的质量标准、分析检测方法和六氟化钨的发展前景。     

六氟化钨的合成与开发

介绍了国外六氟化钨的制备和精制工艺进展，重点描述了电子工业中应用的高纯度六氟化钨的制备工艺。同时介绍了六氟化钨的性质、产品规范、应用及经济等方面的状况，评述了六氟化钨在国内外的发展前景。     

六氟化钨的合成与开发

介绍了国外六氟化钨的制备和精制工艺进展，重点描述了电子工业中应用的高纯度六氟化钨的制备工艺。同时介绍了六氟化钨的性质、产品规范、应用及经济等方面的状况，评述了六氟化钨在国内外的发展前景。     

六氟化钨制备工艺及产业前景分析

对六氟化钨制备方式,产品质量标准以及测定方式进行研究,并就该物质在工业中的应用前景进行简要分析。希     

高纯六氟化钨的纯化工艺研究

采用吸附-精馏-鼓泡联用纯化系统对WF6进行纯化.通过吸附除去WF6中的氟化氢杂质;设计精馏塔进行精馏实验除去其他轻组分杂质,并同时进行鼓泡纯化.研究表明吸附法对于WF6中的HF有很好的去除效果,可将WF6中HF的体积分数降到1×10-6以下;精馏-鼓泡联用能将气相杂质的含量降到1×10-6以下,经此纯化操作可以得到纯度为99.999%的WF6.将精馏-鼓泡应用于WF6的纯化有分离效果好、经济性好等优点,适用于工业化生产.     

高纯六氟化钨去除氟化氢的工艺研究

对高纯六氟化钨制备过程中,采用综合措施抑制电解制氟时氟化氢的挥发、球状氟化钠吸收氟化氢、液氮冷冻固化氟化氢而提纯氟气、六氟化钨低温冷冻抽真空除去氟化氢等物理过程,以及利用六氯化钨与氟化氢发生反应而去除氟化氢的化学过程。结果表明,电解产生的氟气中质量分数4.5%的HF,经过多步聚去除氟化氢后,精馏产品六氟化钨达到HF的质量分数小于5×10-6的高纯要求。解决了氟化氢与六氟化钨2者难以分离的技术问题。     

六氟化钨中微量氟化氢的红外光谱分析

采用红外光谱法对六氟化钨(WF6)中的氟化氢(HF)进行定量分析,HF共有8个吸收峰,考虑定量的灵敏度及避免测定干扰,选择波数4 039.2 cm–1作为HF的定量峰位。通过测定不同含量的HF标准气体,建立其含量与定量峰位的吸光度相对应的标准曲线。标准曲线的线性范围(体积分数)为1.60×10–6~10×10–6,相关系数为0.999 4。该方法简便快捷,结果重复性好,可应用于工业化生产的分析。     

高纯六氟化钨中微量杂质的气相色谱分析

介绍了一种利用脉冲放电氦离子化检测器(PDHID)分析六氟化钨(WF6)中气相杂质的方法。该法利用阀切割技术对WF6主组分进行反吹,避免其进入分析柱及检测器,可准确分析出其中杂质的含量。     

ICP-MS测定饮用水中汞

采用盐酸作为样品基体,应用ICP-MS对饮用水中汞进行检测。本方法的检出限为0.0038 ng/mL,对1.0和0.050ng/mL的标准溶液进行7次测定,相对标准偏差分别为0.7%和1.4%。样品加标回收率在92.0%～110.0%之间。     

ICP-MS在土壤元素分析中的应用进展

由于土壤重金属污染防治和土壤中稀土元素开发应用的需要,测量土壤中金属和半金属元素的测量技术具有极高的社会价值和经济价值。ICP-MS作为日趋成熟的元素测量先进技术,在各领域得到广泛应用。本文主要对ICP-MS测定土壤中元素的分析方法进行了综述,着重总结了土壤消解的方式、消解酸体系的选配和内标的选择三个方面的研究成果,为使用ICP-MS进行土壤元素分析的技术提供参考。     

六氟化硫生产及应用中低氟化物的生成机理和消除方法

分析了六氟化硫生产和应用中氟硫化合物、氟氧化合物等低氟化物的生成机理和物化性质,并探讨了高温裂解、水洗、碱洗和吸附等消除低氟化物的方法。     

湿化学法制备钨纳米粉体的团聚研究

纳米钨粉具有颗粒细小、活性高、制品硬度大、强度高、抗磨损等系列优点。高比表面积的纳米钨粉易团聚,易与空气发生氧化、氮化,严重影响钨制品的性能。本文采用湿化学制备了钨纳米粉体,运用压力密度关系和杂质元素分析方法对钨纳米粉体的团聚进行研究。     

钨冶炼渣中有价金属回收利用研究现状

钨矿的冶炼势必伴随产生大量钨冶炼渣,作为危险固废的冶炼渣含有丰富的有价金属,直接堆积于尾矿库不仅会污染环境、占用土地,还会造成金属资源的浪费。因此,很有必要采用合适的选别工艺技术处理回收钨冶炼渣中Sn、W、Sc、Fe、Mn、Ta和Nb等有价金属,一方面能从源头减少钨冶炼渣排放量,另一方面增加有价金属循环利用率。文章详细阐述钨冶炼渣中不同有价金属选别回收的工艺方法,并对比了不同方法各自存在的优势和弊端,同时也指出了钨冶炼渣被用于生产不同特殊材料的现状。在此基础上,展望了未来钨冶炼渣处理技术的发展方向,为更好综合利用钨冶炼渣提供借鉴。     

化学法去除碳化钨–钴涂层的工艺

采用化学法分别去除GH4169合金及TC4合金基材表面的WC–Co等离子喷涂层。通过正交试验对去除液配方和处理温度进行优化。GH4169基WC–Co涂层的最优去除工艺条件为:HNO3 30 m L/L,H2O2 550 m L/L,处理温度35°C。TC4合金基WC–Co涂层的最优去除工艺条件为:HNO3 70 m L/L,H2O2 550 m L/L,处理温度30°C。采用上述工艺可有效去除GH4169和TC4表面的WC–Co涂层,对基体无明显的化学腐蚀,不会导致基体吸氢。1 L去除液可处理约10 dm2 0.3 mm厚的WC–Co涂层。     

脱硝催化剂专用钛钨粉中钨盐前驱体的选择研究 脱硝催化剂专用钛钨粉中钨盐前驱体的选择研究

以工业偏钛酸为原料,分别选取三氧化钨（WO3）、钨酸铵（ATT）、偏钨酸铵（AMT）、仲钨酸铵（APT）等4种钨盐前驱体,采用浸渍法制备了SCR脱硝催化剂载体材料钛钨粉。采用XRD、SEM（EDS）、BET等检测手段对样品进行表征,并对由钛钨粉制成的催化剂进行活性测试。实验结果表明：由偏钨酸铵（AMT）制备的钛钨粉晶粒度小,晶格畸变较小,性能比较稳定;颗粒聚集程度最低,形貌较为均一,钨的分布最均匀;比表面积最大,而比表面积在一定范围内越大对催化剂的活性越有益;且由其制备的催化剂脱硝活性最高,接近进口产品。因此,比较而言,AMT是制备钛钨粉较为理想的钨盐前驱体。     

钨酸型乳化液膜提取钨的研究

根据乳化液膜分离技术的原理，对含有钨酸根料液中的钨的萃取分离进行研究，找出合适的工艺条件，分离效率比较高。