Al_2O_3/B-Al-NiO薄膜电致变色性能的研究

采用溶胶-凝胶法制备了B-Al-Nio和Al2O3/B-Al-NiO复合薄膜.采用扫描电镜,电化学测试和透过率测试分析Al2O3薄膜并对B-Al-NiO的变色性能和稳定性进行分析和表征.结果表明Al2O3薄膜对NiO基薄膜的变色效果影响不大,同时有效提高NiO基薄膜的稳定性.     

添加聚乙烯醇改善三氧化钨电致变色薄膜性能的研究

为改善三氧化钨薄膜的电致变色性能,采用钨粉过氧化聚钨酸溶胶-凝胶法制备了添加聚乙烯醇的三氧化钨电致变色薄膜.采用扫描电镜、紫外可见分光光度计和CHI电化学工作站分别测定和分析了三氧化钨薄膜的微观结构、光透过性能和循环伏安特性.结果表明,添加一定量的聚乙烯醇可使薄膜的结构更加平整,变色更为均匀;在着色态、褪色态下的光透过率之差达到60%以上,变色可调范围变大.电致变色可逆性能和光谱性能较不添加聚乙烯醇有所提高.     

锡掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响

采用溶胶法和旋涂技术制备了NiO薄膜和一系列锡掺杂的NiO薄膜,对其进行了形貌、成分表征和电致变色性能测试。结果表明：锡镍摩尔比为1/10的1Sn-Ni O薄膜光调制79.1%,比Ni O薄膜的光调制增大31.3%。适量的锡掺杂能有效提高Ni O薄膜的变色性能。     

溶胶-凝胶电泳WO_3膜的电致变色特性

采用溶胶-凝胶电泳法制备非晶态WO_8电致变色膜,经过适当条件热处理后,由于H~+(或/和Li~+)离子和电子的双注入,该膜能呈现无色至深蓝色的电致变色效应。其性能为:对应于响应时间t_(res)≈1S时,变色对比度C_R>2:1;开路存贮时间τ_(?)≈64h;变色循环寿命n≈8×10~4次。实验在C/二甲基亚砜+LiClO_4(液体电解质)/WO_8/ITO构成的可逆电池中进行。 讨论了热处理条件、试验电压、膜厚等对胶体膜结构、含水量、光密度变量、循环寿命、着色可逆性及保持特性的影响。     

电致变色薄膜研究进展

本文概述了电致变色薄膜材料、变色机理、工作原理等方面的研究进展,并探讨了目前存在问题的解决途径。     

氧化镍薄膜的制备与分析

以硝酸镍为起始原料,采用溶胶-凝胶法制得高稳定性的溶胶体系,用浸镀法在玻璃表面镀膜,研究了不同物质配比对溶胶稳定性和成膜性的影响,利用DTA、IR、XRD分析了凝胶和薄膜的结构,确定了氧化镍薄膜的制备条件;溶胶制备温度为60～80℃,pH=4,镀膜热处理温度为300～350℃,时间2h。     

La3+掺杂TiO2薄膜制备及其电致变色特性研究

基于提高TiO2薄膜的光学属性和着色效率,以钛酸四丁酯和氧化镧为主要原料,采用溶胶-凝胶法,在ITO玻璃表面制备La3+掺杂TiO2薄膜.通过XRD、SEM、EDS、TG-DTA等手段对制备La3+掺杂TiO2凝胶粉末进行表征,使用电化学工作站CHI660E和紫外-可见光分光光度计UV-5500PC对La3+掺杂TiO2薄膜的电致变色性能进行测试.结果表明:凝胶在加热的过程中发生一系列的物理和化学反应,且当温度升高至400 ℃时,系统达到相对热稳定状态.经600℃热处理,La3+掺杂TiO2转化为金红石相.外加电压为-2V时,薄膜显示为深蓝色,反向施压至+2V时,蓝色褪去.金红石相TiO2无定形程度随La3+掺入量增加而提高,对应其着色效率提高.La3掺杂TiO2薄膜在可见光范围内透过率均在70％ ～ 80％,光学性能良好.     

电致变色玻璃研究及应用

电致变色玻璃可减少办公大楼和民用住宅等建筑物在夏季降温和冬季取暖而必须耗费的大量能源,是目前最有应用前景的智能材料之一。本文介绍了电致变色的材料及相关研究进展,对电致变色玻璃的应用进行了展望。     

溶胶-凝胶法制备NiO薄膜及影响因素

NiO薄膜可作为电致变色材料、电容器材料、气敏材料、电极材料等而受到人们关注。溶胶凝胶法(sol-gel)制备NiO薄膜材料因其无可比拟的优点成为研究的热点。简要介绍了sol-gel法制备NiO薄膜的特点及基本原理,重点论述了成膜方式、溶胶性质以及热处理条件对薄膜形貌、结构和电化学性能的影响,展望了NiO薄膜材料的发展方向,旨在为NiO薄膜材料的研究和开发提供一些借鉴和启发。     

乳聚法制备聚苯胺复合膜及其电致变色性能研究

以十二烷基苯磺酸(DBSA)为掺杂剂,在非有机溶剂的两相体系中以聚乙烯醇(PVA)为成膜助剂,采用乳液聚合法合成了可直接用于制备电致变色膜的聚苯胺PAn/PVA乳液,用提拉成膜法制备了复合膜。研究了PVA含量、苯胺(An)与DBSA的量比、氧化剂过硫酸铵(APS)与An的量比及反应温度对膜的电致变色性、导电性的影响。结果表明:在w(PVA)为4.3%、n(An)∶n(DBSA)∶n(APS)=0.80∶1.00∶0.80、反应温度为5℃时,PAn/PVA复合膜具有较好的电致变色性及粘结性能。其本征态电化学活性的氧化峰电位范围出现在0.43V。     

Kinetics and Mechanism of the Reduction of Nickel Oxide in Aligned Nickel Oxide-Zirconia and Nickel Oxide-Yttria Eutectic Structures

Unidirectional solidification experiments were carried out at the eutectic composition of the systems NiO-ZrO₂ and NiO-Y₂O₃, yielding materials made of regularly aligned lamellar structures. Eutectic samples were submitted to a chemical reduction treatment at 1075°C under CO/CO₂ mix tures corresponding to Po ₂ values for which only NiO should be reduced to the metal. The rapid formation of nickel be tween the zirconia or yttria platelets and the morphology of the nickel layer resulting from reduction establish that the reduction kinetics were controlled predominantly by the dif fusion of CO to the Ni/NiO interface through the porous Ni product. Experimental data of the variation of reduction depth of NiO as a function of time are qualitatively inter preted using a simple model of interdiffusion of CO in N₂/ CO/CO₂ mixtures. This model also explains the observation of an influence of the dilution of CO on the reduction depth.     

Point Defects and Surface Diffusion in Iron Oxide and Nickel Oxide

Diffusion of the ⁵⁷Co isotope on Fe₃O₄ (110) and NiO (100) surfaces was investigated by the edge-source method. The surface diffusion parameter, α D _sδ, where α is the segregation factor, D _s the surface diffusion coefficient, and δ the thickness of the high-diffusivity layer, was determined at 750°C for different partial pressures of oxygen. In both cases point defects strongly influenced surface diffusion. For Fe₃O₄ the vacancy mechanism is dominant at high oxygen activities and interstitial (or interstitialcy) mechanism dominates at low oxygen activities. For NiO the surface diffusion at low oxygen activities is influenced by aliovalent impurities and at high oxygen activities the strong influence of the intrinsic defects, nickel vacancies, on surface diffusion was observed. It was concluded that similar mechanisms operate during surface diffusion in the near surface layer and during diffusion in the lattice.     

镁合金电沉积镍形成机理及电镀工艺的研究

分析了浸锌层的作用机理,利用恒电势下电流密度随时间的变化和开路电势随时间变化的曲线,研完了镍在浸锌层上的形成机理.研究发现:镍的电沉积形核过程为连续形核,超电势增加时,晶核数迅速增加;镍层的生长过程遵循VolmerWeber模式;浸锌层能明显改善镀层结合力.在镀镍溶液中加入晶粒细化剂,细化了镀层晶粒,提高了镀层性能.X射线衍射表明:晶粒细化剂加入后,镍层晶粒明显细化,平均柱径约为26 nm,镍层表现为(111)择优取向.纳米晶镍层具有优良的性能,15μm厚的镀层24 h中性盐雾实验的保护等级为9级,热震和划痕试验表明结合力良好.     

铝阳极氧化膜及生长机理的研究进展

简要的介绍了铝阳极氧化膜层组成结构及其相关的物理化学性能.综述了铝阳极氧化膜的生长过程及多孔层的形成机理.     

高活性氧化镍对搪瓷气泡结构的影响

本文研究了不同的烧成时间,添加活性氧化镍后搪瓷底釉的气泡结构所产生的变化,并对活性氧化镍作用机理作了一定的探讨,它有助于搪瓷均匀气泡结构的形成。     

高分子辅助沉积法在镍基片上制备的钛酸钡薄膜的漏电机制

采用高分子辅助沉积法在多晶镍衬底上,以氧化镍作为缓冲层,生长了多晶钛酸钡(BaTiO3,BTO)薄膜。对其漏电特性测试及分析发现,在测试电压区间和极性不同时,分别具有不同的漏电机制,可分别用Frankel-Pool emission,space charge limited current(SCLC)与Schottky emission等机制来描述。由于界面缓冲层分解以及界面扩散等原因,BTO/Ni界面呈现Ohmic接触,而Au/BTO界面呈现Schottky势垒接触。通过测量不同温度下的漏电流大小,得到Au/BTO界面的有效势垒为0.32eV,从而得到Au/BTO/Ni能带结构图。利用一阶线性电路模型对其界面电阻与体电阻进行计算,得到的界面电阻与体电阻大小及变化趋势与实验及理论相符合。     

铝合金交流电阳极氧化膜电镀黑镍的研究

研究以常用的工业纯铝L2为实验材料,采用硫酸交流电阳极氧化和电镀黑镍工艺来降低成本,着重分析温度、电流密度、镍离子的质量浓度等对黑色膜层性能的影响。通过SEM表征、EDS及性能测试表明:在优化的电镀黑镍工艺条件下可以获得与工业纯铝L2基体结合力良好,且耐蚀性、耐热性、吸光性均较好的黑镍镀层。