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采用两步烧结工艺制备Sr0.3Ba0.7Bi3.7La0.3Ti4O15铁电陶瓷,研究了烧结工艺对陶瓷的晶相和介电性能的影响。结果表明:适当提高最高温度、保温温度和保温时间可改善陶瓷的介电性能。当最高温度为1180~1200℃,在1050~1080℃保温5~15h时,其εr为238~262,tanδ小于10–2,σ为1.0×10–11~10–12S·m–1。该烧结工艺可减少铋的挥发,降低氧空位浓度,因而减弱了陶瓷的高温低频耗散现象。随着保温时间的增加,高温电导得到有效抑制,在1050℃保温15h样品的σ降低了一个数量级,在280℃时为5.2×10–9S·m–1。 相似文献
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取向硅钢常化处理微观结构的TEM研究 总被引:1,自引:0,他引:1
常化工艺是取向硅钢生产工艺的重要一环,合理的常化工艺为随后的冷轧,退火工序创造有利条件,是提高成品磁性的关键工艺.本工作用电子衍衬方法研究3%Si-Fe常化处理后微观结构的变化。采用本工作制订的两段保温常化制度,有助于获得抑制相的理想析出和有利分布,对于抑制初次再晶晶粒长大,完善二次结晶,得到良好磁性,有着重要意义。两段常化工艺,一段是高温1120℃保温2.5分钟,一段是920℃~960℃保温3分钟。主要结果是: 一、抑制相AIN和MnS的析出行为。采用上述两段式保温常化工艺,可明显降低合金的铁损W_(17/50),B_(10)可提高0.01T以上。从920℃到960℃的较宽温度范围内,均可获得大体相同的性能水平,这也正是电镜观察中看到AIN质点析出较多,尺寸比较理想(200~400A)的温度区间,部分热轧试样中也观察到弥散的AIN质点,推测它们是热轧 相似文献
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射频磁控溅射法制备(111)取向Pt薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
以稀土元素Pr薄膜为缓冲层,采用低功率射频磁控溅射法在室温玻璃衬底上成功制备了(111)强烈取向的Pt薄膜,研究了退火热处理工艺对Pt薄膜择优取向及晶粒尺寸的影响规律,并对Pt(111)取向生长机制进行了初步探讨。结果表明,所采用的退火工艺能够促进Pt纳米晶粒的逐步长大,但对Pt薄膜沿(111)择优取向生长的影响并不明显;保温5 h时晶粒生长较快,延长保温时间对晶粒生长速度的影响不大,但随着退火时间的增加,薄膜质量会越来越好。稀土Pr对Pt(111)择优取向生长可能有一定的促进作用。从简化工艺及降低成本角度考虑,该工艺优于以往的制备工艺,可望用做制备高取向PZT铁电薄膜所需的(111)强烈取向Pt底电极。 相似文献
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一种基于标准CMOS工艺的单片光互连 总被引:2,自引:2,他引:0
探索了采用标准CMOS工艺实现单片光互连的可行性。采用特许(Chartered)半导体公司3.3V、0.35μm标准模拟CMOS工艺设计并制造了一种单片光互连系统,并用两种结构研究了衬底噪声耦合对互连性能的影响。测试结果表明:该光互连系统可工作于几×103Hz,验证了基于标准CMOS工艺的单片光互连系统是可行的。 相似文献
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英飞凌科技(InfineonTechnologies)日前在MTT国际微波研讨会上,展示了下一代LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)工艺。该工艺可用于制造适用于无线网络基站和中继器的功率放大器等产品的高功率RF(射频)晶体管。据介绍,采用这种工艺制造的设备其工作频率可以满足高速无线接入网络的要求,在功率密度方面,比采用英飞凌现有工艺生产的设备高出25%。此外,随LDMOS一起采用的新型塑料封闭技术,可降低系统总体成本。这种解决方案能够让无线网络系统开发商降低成本,提高系统性能,增强系统质量和可靠性。英飞凌副总裁兼射频功率产品部总经理Helm… 相似文献
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用添加晶种的方法制备了掺钕钛酸铋(BNT)铁电陶瓷靶材。通过XRD及SEM研究了烧结工艺对铁电陶瓷BNT晶相结构的影响,用RT66型铁电测试仪测定铁电材料BNT的电滞回线。结果表明,采用在800℃预烧、保温2h,1100℃烧结、保温12h的烧成工艺,所得的BNT铁电陶瓷具有良好的c轴取向,具有较好电滞回线(Pr-Ec)。在应用电压为5V,测试频率为1MHz下,BNT铁电陶瓷的剩余极化强度(Pr)及矫顽场强(Ec)可分别达到2.2×10–6C/cm2和5×103V/cm。 相似文献
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研制了双栅GaAs MESFET的计算机辅助测试系统,可广泛应用于一般四端(或小于四端)器件.该系统包括硬件部分——四端器件直流特性的计算机读入设备FMR,和通用软件部分——FMR-BASIC.同时研制了工艺参数最优化分析程序——DGF TPOA,从而能够自动测报常规直流特性,并由所测结果按最优化技术(单纯形调优法)分析给出工艺参数n、a、L_1、L_2. 相似文献
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《电子工业专用设备》2008,37(7)
领先的晶圆处理技术及设备供应商WaferMas-ters Inc.近日宣布推出激光光学表面光度系统OSP-300。该系统可提供内嵌式非接触表面轮廓表征,用于各个工艺步骤问,该产品可用于研发和生产。 相似文献
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采用0.18μm CMOS工艺设计了一种用于高速锁相环系统的压控振荡器(VCO)电路,该电路的中心频率可根据需要进行调节.电路采用SMIC 0.18 μm工艺模型,使用Cadence的Spectre工具进行了仿真,仿真结果表明,该电路可工作在2.125~3.125 GHz范围内,在5 MHz频偏处的相位噪声为-105 dBc/Hz. 相似文献
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《电子工业专用设备》2014,(4):59-60
正得可2014 Nepcon中国电子展上首次推出最新印刷平台-Gemini。该背靠背(B2B)印刷系统可按需提供工艺处理模块,帮助大批量电子制造商显著提高产出水平,同时又能确保卓越的精度、质量和良率。以久经市场验证的Horizon iX系列为基础, 相似文献
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介绍某系统发射阵列天线的加工工艺。该天线具有多单元、叠加式、配合面多、尺寸精度要求高、超薄片嗽叭加工易变形、加工难度大等特点。通过试验和论证总结出一种可投入批量生产的工艺方法,阐述了该方法的具体工艺实现和加工过程。 相似文献