非晶薄膜晶化的频谱研究

选择一定的退火温度和退火时间，ＣｏＭｎＮｉＯ非晶薄膜可以晶化为晶粒尺寸几个至几十个纳米的微晶薄膜．复阻抗频谱和电导频谱研究表明，这种微晶薄膜的粒间效应增强，在一定频率范围内微晶薄膜的电导低于非晶薄膜的电导．认为这种微晶薄膜的粒间组成是许多个原子尺度大小的无规网络，微晶薄膜的结构为纳米晶粒和非晶网络组成的两相结构，电导符合多渠道导电模型．     

Fe40Ni40P12B8非晶合金冲击波诱发晶化的研究

冲击波可造成极高的压力和温度,具有高应变率、高速传播和高速淬火等重要特征。冲击波作用下,物质在微观和宏观的不同层次上都将发生变化。本实验用二级轻气炮发射高速弹丸撞击靶产生冲击波,应用SEM和EDS研究了不同冲击波强度加载下Fe_(40)Ni_(40)P_(12)B_8非晶合金的晶化行为,结果见图1、2。 SEM观察表明,13.4GPa压力下合金仍然保持着非晶态的形貌(图1a),这说明合金还没有产生晶化。随着压力增加,当压力增加到29.3GPa时,合金的表面形貌开始出现变化,这时候可以发现合金的中央区域形貌还为非晶态(图1b),但在边缘区域已表现出了晶状析出物的形貌(图1c),因此可以认为     

Fe-C-Si-B合金连续激光非晶化层的组织构成研究

在铸铁表面Ｆｅ－Ｃ－Ｓｉ－Ｂ激光共晶合金化层上获得了许多表征非晶态的白亮层，其中最大的占整个熔池面积的８０％以上。共晶基体外延生长层的突然中断是得到白亮层的首要条件。经透射电镜和高分辨率扫描电镜分析发现，白亮层由结构不同的三个亚层组成：表层为均匀的纳米晶，中部为非晶态，底层是不均匀的纳米晶。     

非晶含锡有机膜的热处理行为

射频辉光放电等离子体聚合四丁基锡制备了非晶含锡有机膜，研究了该膜在大气中的热处理行为。表明在不同热处理温度下，发生了锡的氧化、有机物脱除、晶化和相变等过程。     

退火Ge／Bi叠层膜的特殊晶化及扩散行为

本文研究了Ｇｅ／Ｂｉ叠层膜在不同退火温度的晶化及扩散行为。通过Ｘ射线衍射和拉曼散射的结果发现：在２００℃至３４０℃之间退火的样品，其Ｂｉ晶粒的结晶取向经历了一个由择优取向变为随机取向，最后又变顺择优取向的过程；而与此同时，Ｇｅ晶粒的结晶取向变化不大。     

非晶Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9合金的激光纳米晶化研究

在相同激光扫描速度(20mm／s)和不同激光功率(150W，200W，250W，300W)工艺条件下，利用CO2激光对铁磁Fe73．5Cu1Nb3Si13．5B9非晶带进行了辐照处理，诱导非晶带样品发生纳米晶化。应用穆斯堡尔(Mossbauer)谱(MS)、透射电镜(TEM)和X射线衍射(XRD)对实验样品的晶化工艺、纳米晶相的组织结构、晶化量和纳米晶化机理等进行了研究。结果表明，晶化析出相是α-Fe(Si)单相固溶体，具有4种超精细结构；其晶粒尺寸约为10～20nm；纳米晶均匀分布在非晶基体上，形成非晶相与纳米晶化相的双相组织结构。随着激光功率的增加，纳米晶化量随着增加，可通过控制激光处理工艺参量，来实现纳米晶化量的控制。     

Bi代石榴石膜晶化机理研究

通过对Ｂｉ代石榴石膜的成核、晶体生长速率和法拉第效应的分析，给出最大成核温度范围（６３０℃～６８０℃）和细化晶粒的途径，膜的磁光性能、结构和成份测试结果与理论分析一致。     

分形Ge团簇的晶化行为

Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜中各种图案的形成是一种远离平衡态的非平衡生长现象。近年来，随着非线性科学的发展，这方面工作引起了人们极大的兴趣，具有代表性的工作是侯建国等人［１－４］在各种膜厚比和各种退火温度下的Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜的分形生长行为。由于非线性系统...     

Ge—Au合金膜的微结构及电子束诱导晶化

ＧｅＡｕ体系是典型的二元共晶系，在室温平衡状态下，二者不相溶。在蒸发沉积制成的薄膜样品中，其非平衡结构对沉积条件敏感，低金属含量和低衬底温度，促进沉积形成非晶薄膜。通过研究不同条件下沉积的合金膜的微结构，可以了解成膜机理；利用电子束诱导晶化，可以为研究晶化动力学过程提供实时观察，并且在ＧｅＡｕ非晶薄膜中实现微区晶化，为其在微电子和信息领域提供应用的可能     

Al—Cu—Fe准晶中位错引起的HOLZ线的位移与分裂

随着准晶研究的深入,准晶中的位错也引起了人们的关注。我们用会聚束电子衍射(CBED)高阶Laue带(HOLZ)线实验方法,结合衍衬象技术,在EM420电镜上,对Al-Cu-Fe准晶二十面体相中的位错进行了初步研究。图1是含有位错的Al-Cu-Fe准晶二十面体相的明场象,箭头指出所研究的位错。由使此位错线不可见的两个衍射矢量,可以初步判断其Burgers矢最b致平行于[110000](二次轴),与文献[1]的结论一致。当直径为4nm的电子束聚焦在该位错线上时,一些HOLZ线发生分裂。本     

Er~+注入单晶硅中非晶层晶化过程的TEM研究

剖面透射电镜的变温观察及高分辨电子显微镜(HREM)象表明,Er~+注入(注入能量350kev,注入剂量1×10~(15)cm~(-2))硅单晶后,在表面可形成一连续非晶层。热退火过程中,非晶层可以从非晶/单晶界面处进行固相外延和在内部成核两种方式进行再结晶以至形成多晶层。再结晶的晶粒中存在大量微孪晶和堆垛层错。     

非晶膜在铜的氧化过程中的行为

从原子水平研究金属氧化过程的微观机制,很自然地会想到,当金属氧化成金属氧化物时,是气态的氧直接与金属反应一步生成氧化物,还是存在着某种作为反应的过渡态呢?对这个问题的研究报道还不多。我们在大块铜薄膜和超微铜粒子表面的氧化过程的HREM观察中,研究了铜表面的非晶膜在氧化过程中的作用。     

分形晶化的Au／a—Ge双层膜的非线性V—I特征

本报道了Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜的分形晶体现象，并首次测量了Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜分形晶化的Ｖ－Ｉ特性，实验结果表明：分表晶化后的Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜具有反常的非线性Ｖ－Ｉ特征，应用隧道结网络（ＲＴＪＮ）模型对实验结果给予了合理的解释。     

CO2激光辐照Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶合金的微量晶化

利用透射穆斯堡尔谱 (TMS)对原始态和晶化后非晶软磁合金Fe73.5Cu1 Nb3Si1 3.5B9进行了结构分析。实验结果表明 ,利用连续CO2 激光处理 ,可使样品的非晶带表面产生少量晶化 ,晶化析出相为Fe Si;在样品的非晶相中发生了磁矩重排 ,原子磁矩在面内取向占优。在一定激光辐照工艺条件下 ,可以控制样品的磁矩变化并实现微量晶化     

新型软磁材料—非晶超微晶合金及其应用

一、非晶超微晶合金软磁材料 非晶态金属与合金是70年代问世的一个新型材料领域。它的制备技术完全不同于传统的方法,而是采用了冷却速度大约为每秒100万度的超急冷凝固技术,从钢液到薄带成品一次成型,比一般冷轧金属薄带制造工艺减少了许多中间工序,这种新工艺被人们称之为对传统冶金工艺的一项革命。由于超急冷凝固、合金凝固时原子来不及有序排列结构,得到的固态合金是长程无序结构。没有晶态合金的晶粒、晶界存在,称之为非晶合金,     

Ge／Au和Ge／Ag双层膜中非晶Ge加热晶化的动态观测

本文在JEM—1000高压电镜中对Ge/Au和Ge/Ag双层膜进行了加热动态观测,并与真空退火的结果进行了比较。结果表明,双层膜中非晶Ge的晶化不仅取决于加热温度,而且取决于加热时间。加热条件的不同引起不同的晶化机制。本文讨论了非晶Ge晶化时等轴状缩聚区的形成与长大,并提出了这类区域内的能量平衡条件。     

非晶TiO2薄膜激光晶化

以中频孪生非平衡磁控溅射沉积设备制备的非晶氧化钛薄膜为前驱体,采用激光晶化技术实现了从非晶氧化钛到纳米氧化钛的相变过程。研究结果表明,在所选取的激光功率范围内,晶化氧化钛薄膜主要是由纳米尺度的锐钛矿和金红石所组成。随着激光功率的增大,晶化薄膜中金红石相的含量逐渐增多,晶粒尺寸逐渐增大,硬度、弹性模量及耐磨性逐渐提高。     

激光晶化制备Fe基纳米软磁材料的研究进展

综述了激光非晶晶化制备Fe基纳米软磁材料的国内外研究进展和现状.介绍了Fe基纳米软磁材料的双相组织结构和性能特征及应用领域;对比分析了传统退火晶化和激光晶化制备技术的优缺点;阐述了研究激光纳米晶化技术的重要意义和理论价值.提出了激光晶化技术制备Fe基纳米软磁材料需要重点系统研究的课题和方向.     

用扫描电子显微分析仪研究铁基非晶合金的晶化

本文用配有X射线能量色散谱仪、电子背散射衍射系统的场发射扫描电子显微镜研究了铁基非晶合金的晶化。试验选用Fe、Ni、P、Cu元素粉末及FeNb、Fe-B中间合金按原子分数配成Fe52、Ni15、CuNb2P14B6成分进行机械合金化试验。分析所用仪器为FEI公司的Sirion型场发射扫描电镜、EDAX公司的GENISIS X射线能量色散谱仪及TSL电子背散射衍射分析系统。