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第四篇电解液与电解工艺 (三)
4.3生产设备与实践
4.3.1.辊式连续电解方法和设备
目前世界上大多数国家生产电解铜箔采用辊式连续电解方法,该方法是在电解槽内安装一个回转的阴极辊筒和不溶性材料制成阳极,辊筒底部浸在电解液中,通电后,溶液中的铜沉积到辊筒表面形成铜箔,再将此铜箔剥离,水洗、干燥、卷取,而后进一步进行表面处理。 相似文献
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阴极辊在电解铜箔生产中表面因受到电化学和铜箔剥离的正常腐蚀,造成磨辊外,还有很多不正常的因素造成磨辊。 相似文献
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电解制造铜箔采用旋转阴极辊,阳极则采用铅银合金制成的环形板,达到与旋转阴极辊平行,以保证电解过程的长期稳定连续进行,使铜箔源源不断地在阴极上析出。 相似文献
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1 概述 在覆铜板产品外观质量检查中,产品外观铜箔面氧化也是一种不容忽视的缺陷,严重时在PCB加工时容易产生贴膜不良等影响。通常,覆铜板产品外观铜箔面氧化有以下三种原因:第一种是原材料不良造成的,即铜箔未使用之前就存在外观氧化或即将氧化,生产时未能及时发现并更换,以致产生不合格品;第二种是在CCL生产过程中人为造成的,如操作人员违反规定在操作过程中没有戴口罩、胶手套,从而导致手上汗水或说话时口水落到铜箔光面上以致产生氧化;第三种是在生产过程中,受设备漏水或漏油污染而产生的。 通常,覆铜板产品外观铜箔面氧化的出现没有特别明显规 相似文献
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电解铜箔生产与技术讲座(四)(2) 总被引:1,自引:0,他引:1
第四篇、电解液与电解工艺(二)
4.2电解铜箔的性能与电沉积过程
电解铜箔的主要性能是在铜箔电解过程中决定的。铜箔性能与电解沉积层的结构紧密相联系,实际上人们正是通过控制不同的电解沉积条件来获得到晶态、微晶态甚至非晶态沉积层。各种新的电解沉积技术如脉冲,反向脉冲技术的引入,粗晶沉积层可以被转化成细品结构,甚至选择和控制固体微粒与沉积层基质共沉积可以得到复合表面处理层等来制造不同性能的铜箔产品。 相似文献
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以Pm 147测厚仪为例, 分析了影响双向拉伸聚丙烯膜在线厚度测量的主要因素, 如测厚仪自身的精度、测量头及放射源的传动皮带、薄膜的展平效果、环境条件等, 并提出了相应的控制方法。 相似文献
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采用两种简化的电化学模板(自制的多孔阳极氧化铝膜直接作为模板和铜箔复合的商品AAO模板)法制备了长度在微米级,直径为50和200 nm的Ni纳米线阵列.XRD及扫描电子显微镜(SEM)分析表明制备出的Ni纳米线具有面心立方结构且排列规则.上述两种简化的模板法工艺也可用于制备其他金属、合金等的有序纳米线阵列. 相似文献
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随着电子信息产业的发展,电子产品轻量化、集成化要求越来越高,电解铜箔作为电子行业的基础性材料,不仅对产品的抗拉强度、延伸率、抗剥离强度、防氧化性等物化性能指标提出了更高要求,而且要求铜箔微观晶粒组织和表面微观形貌结构更均匀精细。电解铜箔生产工艺复杂,涉及专业广泛,生产过程既有机械电子设备又有电化学过程,分系统之间相互关联相互影响,相关技术大多是交叉、 相似文献
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虽然由于应用铜箔制造企业不同,使得所生产出的电解铜箔在性能上各有特色,但制造工艺却基本一致。即以电解铜或具有与电解铜同等纯度的电线废料为原料,将其在硫酸中溶解,制成硫酸铜溶液,以金属辊筒为阴极,通过电解反应连续地在阴极表面电解沉积上金属铜,同时连续地从阴极上剥离,这工艺称为生箔电解工艺。最后从阴极上剥离的一面(光面)就是层压板或印刷线路板表面见到的一面,反面(俗称毛面)就是需要进行一系列表面处理,在印刷线路板中与树脂粘接的一面。 相似文献
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电解铜箔是通过使用阴极辊及阳极板对硫酸铜电解液进行电镀沉积获得的,电解铜箔生产过程不断从电解液中沉积出铜,就需要对电解液中补充铜离子(Cu2+)以维持电解液指标的平衡。在常规电解铜箔生产过程中,电解液中铜离子的补充是通过使用系统管道及储罐的低含铜量电解液流经储存有铜线或铜板的罐体,以获得富含铜量的电解液,此罐体称之为溶铜罐。铜线或铜板在溶铜罐中是一种氧化溶解的过程,由于铜的溶解过程会受溶解温度、与酸接触面积、铜材周边电解液饱和度等因素的影响,往往会出现溶铜罐中对铜材的溶解能力差 相似文献
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电解铜箔的特性、性能虽因各铜箔制造企业的不同而各有特色,但制造工艺却基本一致。即以电解铜或具有与电解铜同等纯度的电线废料为原料,将其在硫酸中溶解,制成硫酸铜的水溶液,以金属辊筒为阴极,通过电解反应连续地在阴极辊筒表面电解沉积上金属铜,同时连续地从阴极辊筒上剥离,这工艺称为生箔电解工艺。然后根据不同产品的性能要求,进行各种表面处理。 相似文献
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近年来挠性电路在电讯、计算机和汽车电子领域的应用逐步扩大,挠性电路已经发展到在精细电路和三维立体电路应用中代替刚性电路板和模塑电路板。对既要求刚性,又要求柔性的应用,刚-挠技术将刚性印制板和柔性印制板结合在一起。目前,挠性层合结构和刚-挠层合结构均在使用,本文仅介绍挠性结构。挠性电路中使用的材料有介质膜(dielectricfilms)、粘接剂和导体(见图1)。介质膜构成电路的基础层,粘接剂把铜箔粘结到介质材料上,在多层设计中,内层相互粘结在一起。介质膜也用作保护涂层(Protective coating),使电路免受灰尘和湿气影响;在挠曲过程中能降低应力。铜箔提供了导电层。在某些挠性电路中,铝或不锈钢加强板是 相似文献
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正第十节粘结片的储存与叠书2.回流线(接2014年第2期)2.2半自动回流线与手动生产线半自动回流线叠书(叠BOOK)时,粘结片料叠及铜箔是由人工操作送入叠BOOK台。不锈钢板、托板、盖板的移送仍然由移板机操作。采用半自动回流线虽然可以降低投资强度,但劳动强度比全自动回流线要大许多,产品外观质量的保证也比自动线差了好多。半自动回流线生产中必须把好下面几个工艺关口。2.2.1铜箔的裁切半自动回流线的铜箔裁切在另一个地方单独进行,环境净化度通常在10000级。铜箔裁切机可以切单卷,也可以同时切两卷。切两卷是通常让两张铜箔背背相对(即铜箔光面相对),这样可以防止在叠BOOK过程胶粉污染到铜箔的光面,这种铜箔切机最薄只能切到18μm铜箔。 相似文献
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夏季是电解铜箔生产最困难的时期,存在的主要问题是生箔表面极易氧化,在我国南方从五月至十月,北方从六月至九月是生箔表面易氧化的时侯。其它时间会好一些,最好是冬季,不但生箔不氧化,阴极辊表面腐蚀也十分缓慢,在电解槽里生产周期较长。 相似文献
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该文根据覆铜板生产过程中剥离强度低所显现出的不同表征来分析问题产生的主要原因,重点分析了铜箔和铜箔胶影响剥离强度的因素。 相似文献
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用溅射的方法来制备ITO膜已应用于平板显示技术,特别是高速磁控溅射技术的出现,又使ITO膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ITO膜生产线的设计要点,总体方案及其技术性能,并分析了各种工艺参数对ITO膜的透光率、面电阻等主要技术指标的影响。 相似文献