脉冲偏压电弧离子镀CrAlN薄膜研究

在高速钢和不锈钢基体上用脉冲偏压电弧离子镀技术制备了CrAlN薄膜,研究了脉冲偏压对薄膜成分、结构和性能的影响,并进行了900℃下的高温抗氧化性能检测。结果表明,薄膜中Al的相对含量随着脉冲偏压的增加而降低;薄膜的相结构由立方CrN和Al相组成;薄膜的硬度随脉冲偏压的增加而增大,在偏压幅值为-500 V时,硬度可达21.5 GPa;薄膜具有高达70 N的膜基结合力;此外,薄膜在900℃的大气中保温10 h,没有出现明显的氧化现象;在合成的三种薄膜中,在脉冲偏压为-500 V×40 kHz×40%时的薄膜具有最好的综合性能。     

脉冲偏压对多弧离子镀TiAlN薄膜的成分和结构的影响研究

采用多弧离子镀在高速钢基底上沉积Ti Al N薄膜。利用扫描电镜(SEM)观测薄膜的表面形貌;用EDS分析薄膜表面的成分;用表面轮廓仪测试薄膜的厚度并结合沉积时间计算出沉积速率;用维氏硬度仪测量薄膜的硬度;用XRD表征薄膜的微观结构。结果表明,随着偏压峰值的增大,表面大颗粒逐渐减少,致密性逐渐变好,薄膜硬度也随之增加。沉积参数对薄膜成分有影响,偏压峰值对薄膜中Al含量有较明显的影响,而占空比则主要影响Ti含量。本文对实验结果进行了较详细的讨论和分析。     

负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响

采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响.实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小.     

脉冲偏压对电弧离子镀TiNbN硬质薄膜相结构的影响

用电弧离子镀设备,在其他工艺参数相同的条件下,通过仅改变脉冲偏压幅值的方法分别沉积TiNbN硬质薄膜,考察脉冲偏压对薄膜相结构的影响.结果表明,TiNbN硬质薄膜的相结构随脉冲偏压幅值的变化而变化:当幅值为-300 V时,得到TiN类型的(TiNb)N的固溶体;-600 V时,得到TiN和δ-NbN的混合相结构;而在-900 V时,则得到TiN和δ-NbN以及β-Nb2N三相混合结构.分析表明,脉冲偏压能够改变薄膜相结构,这与不同偏压提供的离子沉积能量,能够分别满足各个化合物生成自由能的热力学条件有关.     

脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的特性

利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积出非晶的类金刚石薄膜。薄膜的折射率为 2 8左右 ;沉积速率与主回路电压以及脉冲频率有关 ;膜层致密 ,但薄膜表面不光滑 ;薄膜电阻率接近 1× 10 10 Ω·cm数量级 ;薄膜的硬度及附着力与基底温度、主回路电压以及脉冲频率密切相关 ;薄膜中存在强的内应力 ,内应力是影响膜层附着力的主要因素。     

304不锈钢磁控溅射TiNx薄膜不同偏压时的结构和耐蚀性能

基体偏压是影响磁控溅射TiNx薄膜结构和性能的关键因素,且TiNx薄膜的结构与其耐蚀性有极大的关系.利用直流反应磁控溅射技术,通过改变基体偏压在304不锈钢表面制备了具有结构缺陷和不同化学计量比的TiNx薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电化学技术研究了TiNx薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系.结果表明:TiNx薄膜的表面结构与偏压明显相关,适当的偏压有利于获得细小、均匀、致密和光滑的TiNx薄膜;TiNx薄膜为B1-NaCl型面心立方结构,其择优取向为(111)面,增加偏压有利于获得符合化学计量比的TiNx薄膜;致密、光滑和符合化学计量比的TiNx薄膜具有更低的腐蚀倾向;不同化学计量比的TiNx薄膜的腐蚀均为局部剥离,且与该处高密度结构缺陷相关;减少TiNx薄膜的针孔等结构缺陷对于提高其耐蚀性极为重要.     

多弧离子镀CrN薄膜的耐腐蚀性能

单相CrN薄膜较难制取,国外已形成商用,而国内相关研究尚处于起步阶段。采用多弧离子镀技术在45钢表面沉积CrN薄膜,通过扫描电镜观察了CrN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对其相结构进行了分析,分别讨论了CrN薄膜在3.5%NaCl溶液、1 mol/L NaOH溶液和1 mol/L H2SO4溶液中的电化学腐蚀性能,在其他制备参数不变的条件下,考察了氩氮流量比对薄膜组织结构以及性能的影响。结果表明:随着氩氮流量比的减小,CrN薄膜表面的液滴尺寸和数目逐渐减小;薄膜主要以CrN相为主,随着氩氮流量比的增大,CrN(110)的峰值逐渐减弱,CrN(200)的峰值逐渐增强;随着氩氮流量比的减小,CrN薄膜在3.5%NaCl溶液、1 mol/L NaOH溶液和1mol/L H2SO4溶液中的耐蚀性均得到提高,在氩氮流量比1∶3时,薄膜的耐腐蚀性最佳。     

多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响

采用平面探针测试了衬底附近的电流密度，弧电流和衬底偏压的增加均有助于增加到达衬底附近的离子的数量。弧电流增加引起村底的温升，衬底偏压对衬底温度影响较小。采用多弧离子镀技术沉积Cr-N薄膜，衬底偏压对薄膜的硬度影响较小；弧电流增大，薄膜的硬度随之降低。XRD分析表明，弧电流较高时，不利于Cr—N相的形成，薄膜中以Cr的宏观液滴为主，薄膜硬度较低。     

氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究

本文利用多弧离子镀设备沉积了 ＴｉＮ薄膜，对不同工艺条件下沉积ＴｉＮ的薄膜用 Ｘ射线衍射方法进行了研究，给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结果，测定了薄膜 的显微硬度．用ＳＥＭ方法观察了 ＴｉＮ涂层的组织形貌。指出：氮分压为多弧离子镀 的一个重要工艺参数，我们适当地控制氮分压，可以制作出性能良好的ＴｉＮ薄膜。     

《复合材料学报》征稿简则

正1征稿范围本刊主要刊载复合材料基础研究和应用研究方面具有创新性、高水平和具有重要意义的原始性研究学术论文,以及由该领域专家亲自撰写的反映本学科最新发展状况的文献综述和信息性文章。刊载范围:纤维、颗粒或晶须等增强体增强聚合物基、金属基、陶瓷基等复合材料及其复合薄膜或复合涂层材料(包括:结构、功能、生物骨结构、电子、建筑等复合材料)的制备、性能、设计等。     

《低温工程》期刊稿件撰写要求

正1、向本刊投稿可通过本刊网站稿件采编系统(网址:http://www.dwgc.net),也可将稿件通过电子邮件发送到dwgc@263.net,同时将作者姓名、性别、出生年月、职称、学位及详细联系方式(电话、通信地址及邮编)、论文所属项目或基金名称及编号等信息列于稿件正文最后。2、稿件须有学术性、创新性,论点明确、数据可靠、逻辑严密,5000字左右。内容应包括:中英文标题、作者     

信息动态

为探究羧甲基壳聚糖对模拟含Nd3+废水的吸附性能,探讨了溶液pH值、吸附温度、吸附时间等因素对羧甲基壳聚糖吸附Nd3+行为的影响.结果表明:在室温(25℃),pH值为6,吸附时间30 min时,羧甲基壳聚糖对Nd3+的吸附量、吸附率达到最大值,分别为14.84和37.1％.羧甲基壳聚糖对Nd3+的吸附符合Langmuir吸附等温式,且是单分子层吸附.     

铁镀层在集束拉拔法生产金属纤维中的应用

为了减少酸洗过程对环境的污染,并很好地解决铁铬铝及镍基合金纤维制备过程中基体与隔离层高温下相互扩散的问题,采用电镀法在316L不锈钢丝表面沉积镀铁层,经过穿管、拉拔、退火、电解等工序,制备出12μm不锈钢纤维,并与铜镀层制备的同规格纤维进行了对比。结果表明:该纤维化学成分符合GB/T 20878-2007规定,未引入杂质元素;纤维表面质量较差,存在明显的析出物及沟槽;纤维断裂强力与延伸率较小,需要通过对电镀丝进行退火处理及改用带水冷装置的线材连续退火炉进行退火等措施加以改进。     

基于Jack软件的单双肩背包工效分析

目的研究不同背包方式和背包重量对健康影响,为背包出行提出有益于人体健康的背包对策;方法运用Jack软件创建不同百分位数字人背包模型,在不同背包方式和负载下,分析人体L4/L5关节和脚踝的受力特点以及能量消耗情况,并采用多元线性回归分析,建立双肩背包下L4/L5关节受力与负载和体重指数之间数学关系模型;结果 L4/L5关节受力与背包方式和背包负载相关。脚踝受力与背包负载相关,而与背包方式无关。人体的能量消耗与背包方式和背包负载相关,且双肩背包下能量消耗最少。结论为了降低人体关节受力和能量消耗,低负载下(≤2kg),建议使用单肩背包,在中高负载(2kg)时,使用双肩背包,而斜跨式背包相对于这两种无明显优势。     

《材料科学与工程学报》投稿指南

正一、范围及内容《材料科学与工程学报》是由国家教育部主管,浙江大学主办的材料领域学术性中文科技期刊(双月刊)。本刊主要刊登材料科学与工程科学研究领域的评述论文、研究论文和研究简报。除评述论文外,本刊也欢迎用英文撰写的论文,一经录用,将优先刊登。评述论文是指关于某个专题国内外研究现状与进展情况的综合评