固态检测器－ICP－AES中的计算机差谱改进技术（Ⅱ）──软件内容

采用计算机差谱技术校正光谱干扰，在无需知道基体浓度下，对高含量基体或多组分体系中微量元素能进行准确和快速的测定。详细介绍了Ｃ语言编写的实施差谱技术以及实验室例行分析的软件。利用ＰＤＡ或ＣＣＤ检测器同时记录ＩＣＰ－ＡＥＳ发射光谱一段波长范围内信号的优点，差谱法简单易行。对Ｖ基体中Ａｌ，Ａｌ和Ｍｇ基体中Ｖ的测定结果证明，差谱技术能有效地对光谱干扰和背景干扰进行校正。     

电感耦合等离子体原子发射光谱分析信息系统

研究开发了电感耦合等离子体原子发普分析（ＩＣＰ－ＡＥＳ）信息系统。该信息系统的光谱库系统包括了２８０００余条谱线的信息，光谱干扰校正模块中的Ｋａｌｍａｎ滤波和因子分析方法具有峰位优化功能，能够满足通常谱线查询、干扰模拟和校正的需要。光谱数据库系统用Ｆｏｘｐｒｏ编制，光谱干扰识别光谱模拟和光谱干扰校正部分用Ｖｉｓｒａｌ Ｂａｓｉｃ语言编制。该信息系统可从作者网页免费下载使用。     

ICP—AES中光谱干扰校正方法的研究

本文从信号处理的观点出发，提出了４种光谱干扰校正方法，即谱线拟合法，自适应滤波法，加权增量卡尔曼滤波法和基于数字化谱的方法，并讨论了光谱干扰的实时校正。     

全固态雷尼替丁传感器的研究

本文研制了一种全固态雷尼替丁传感器，这种传感器是以能将微量水、ＫＣ１粉末，Ａｇ／ＡｇＣｌ丝固化其中的脲醛树脂为基体，外涂ＰＶＣ活性膜而成。对该传感器的性能和应用进行了研究。结果表明该传感器具有良好的稳定性，其Ｎｅｒｎｓｔ响应范围为５×１０＾－４￣１×１０＾－１ｍｏｌ／Ｌ，斜率为５９．７ｍＶ／ｐＣ，检测下限为２．８×１０＾－４ｍｏｌ／Ｌ，使用寿命不少于６个月，能用于雷尼替丁制剂的含量测定。     

ICP—AES多元素同时测定中光谱干扰及基体效应的校正

本文将最优化组合设计与数据分析结合起来用于校正 ICP—AES 中的干扰效应。通过对组合设计进行改进,使设计过程及分析测定更加简化。以 APPLEⅡ微机通过 BASIC 程序对测得数据进行脱机处理,能够准确地对 ICP—AES 分析中复杂基体产生的光谱干扰和基体效应进行校正。     

铝的低温电解质体系基础研究之一：MCl—M3AlF6（M=Na,K）二元…

将双亚晶格模型应用于含络离子的铝电解质体系中，基于ＣＡＬＰＨＡＤ技术利用ＰＡＲＲＯＴ优化程序块对ＭＣｌ－Ｍ３ＡｌＦ６（Ｍ＝Ｎａ，Ｋ）伪二元系相图进行优化计算，得到了热力学数据自洽一致的结果，并对结果进行了分析讨论。     

平衡双注照相乳化过程中PBr值测定 和微机调控的研究

报导在平衡双注照相乳化过程中用ＡｇＢｒ，ＡｇＣｌ单晶电极测定Ｐ＾Ｂｒ（Ｐ＾Ｃｌ，Ｐ＾Ａｇ和ｐＨ）值，用微机调控银盐（ＡｇＮＯ３）和卤盐（ＫＢｒ或ＫＣｌ）的流量，采用电极流动注入分析法ＥＦＩＡ（ＥｌｅｃｔｒｏｄｅＦｌｏｗＩｎｊｅｃｔｉｏｎＡｎａｌｙｓｉｓ）保持在照相乳化中所设定的Ｐ＾Ｂｒ（或Ｐ＾ｃｌ）值，从而得到了颗粒分布均匀和立方晶形的ＡｇＸ晶体，增加了照相乳化的感光度。     

Ⅱ—Ⅵ族半导体的掺杂与补偿

采用离散变分－局域密度泛函（ＤＶ－ＬＤＦ）方法及团簇模型研究了Ⅱ－Ⅵ族半导体中的掺杂及补偿问题，研究了ＺｎＳｅ中的Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ等杂质不同的结构和电子性质。发现Ｎｓｅ在ＺｎＳｅ中没有Ｊａｈｎ－Ｔｅｌｌｅｒ形变，而Ｐｓｅ和Ａｓｓｃ存在这一形变，从而判定了Ｎ是其中最高效的Ｐ型掺杂剂。对于ｎ型的ＺｎＳｅ，研究发现Ｃｌ是最有效的施主杂质。根据对缺陷复合体的计算，发现ＮＳｅ－Ｚｎ－Ｖｓｅ及诸如     

融汇VIA最新技术的结晶：梅捷SY—6VCA

随着１３３ＭＨｚ、ＡＧＰ４×及ＵｉｔｒａＤＭＡ／６６等技术的不断完善与成熟。使得主机板进入了更新换代的时候，但由于Ｉｎｔｅｌ８２０芯片组因ＲａｍｂｕｓＤＲＡＭ问题一再的延期推出，使得人们逐渐的丧失了对它等待的兴趣。而ＶＩＡ却在这时连续推出了多款芯片组产品，其中以支持ＡＧＰ４×功能的Ａｐｐｌｌｏ　ｐｒｏ　１３３Ａ最为引人注目，同时，各大厂商也都相应的对此做出了积极的反映，台湾专业主机板制造厂商梅捷企业同时推出了采用最新ＶＩＡＡｐｏｌｌｏ　ｐｒｏ　ｌ３３Ａ芯片组产品──ＳＹ－６ＶＣＡ。从主板的整体布…     

暑假选购指南—DVD篇

何谓ＤＶＤ？ ＤＶＤ它的全称为 ＤＩＧＩＴＡＬ ＶＥＲ－ＳＡＴＩＬＥ ＤＩＳＫ,中文意思就是数字多用途的光盘,它集计算机技术、光学记录技术以及影视技术等位一体,能够满足人们对大存储容量、高性能的存储媒体 的需求。 ＤＶＤ系列产品发展至今,已经拥有以下五大类产品： １、ＤＶＤ－ＲＯＭ──电脑软件只读光盘,用途类似于 ＣＤ－ＲＯＭ; ２、ＤＶＤ－ＶＩＥＤＥＯ──家用的影音光盘,用途类似于ＬＤ或ＶＩＤＥＯ ＣＤ; ３、ＤＶＤ－ＡＵＤＩＯ──音乐盘片,用途类似于音乐ＣＤ; ４、 ＤＶＤ－ Ｒ（或称 ＤＶＤ－ ＷＲＩＴＥ…     

应用VB,VBA创建和编辑AutoCAD2000的菜单

本文通过对ＡｕｔｏＣＡＤ的菜单进行管理和编辑，具体介绍了利用ＡｕｔｏＣＡＤ的ＡｃｔｉｖｅＸ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ技术，通过ＶＢ，ＶＢＡ对ＡｕｔｏＣＡＤ菜单进行添加，修改，屏蔽等二次开发。     

两组CDV容限参数的流量强制与成形算法

信元时延变化ＣＤＶ对峰值速率警管有很大的影响，文中首先提出基于通用信元速率算法ＧＣＲＡ（Ｔ，δ）的ＣＤＶ成形算法，该算法能有效地成形ＣＤＶ使之符合ＧＣＲＡ（Ｔ，δ）算法对ＣＤＶ容限的要求；在对ＣＤＶ成形算法分析的基础上，进一步提出了两有ＣＤＶ容限参数的流量强制与成形算法ＴＰ－ＥＳＡ，ＴＰ－ＥＳＡ既能成形ＣＤＶ到任意预设的值，又能防止连接对流量的恶意滥用。文中对算法的实现和操作也进行了研究。     

两级CDV容限参数的流量强制与成形算法

信元时延变化ＣＤＶ对峰值速率警管有很大影响，文中首先提出基于通用信元速率算法ＧＣＲＡ（Ｔ，δ）的ＣＤＶ成形算法，该算法能有效地成形ＣＤＶ使之符合ＧＣＲＡ（Ｔ，δ）算法对ＣＤＶ容限的要求；在对ＣＤＶ成形算法分析的基础上，进一步提出了两级ＣＤＶ容限参数的流量强制与成形算法ＴＰ－ＥＳＡ，ＴＰ－ＥＳＡ既能成形ＣＤＶ到任意预设的值，又能防止连接对流量的恶意滥用。文中对算法的实现和操作也进行了研究。     

铝的低温电解质体系基础研究之一：MCl－M_3AlF_6（M＝Na，K）二元系的相图计算

将双亚晶格模型应用于含络合离子的铝电解质体系中，基于ＣＡＬＰＨＡＤ技术利用ＰＡＲＲＯＴ优化程序块对ＭＣｌ－Ｍ_３ＡｌＦ_６（Ｍ＝Ｎａ，Ｋ）伪二元系相图进行优化计算，得到了热力学数据自洽一致的结果，并对结果进行了分析讨论。     

基于ActiveX Automation的AutoCAD块处理技术

一、引言 ＡｕｔｏＣＡＤ从Ｒ１４开始提供ＡｃｔｉｖｅＸＡｕｔｏｍａｔｉｏｎ技术。一个应用程序支持的对象、方法和属性通常在应用程序的对象库中定义。通过Ｖｉｓｕａｌ Ｂａｓｉｃ（ＶＢ）的对象浏览器,可以观察到对象的属性、方法及全局公有变量和常量定义。块处理是ＡｕｔｏＣＡＤ经常使用的技术,应用ＡｃｔｉｖｅＸＡｕｔｏｍａｔｉｏｎ技术,可以方便地对块进行编辑或生成引用的块。 二、开发过程 为了使用ＡｕｏＣＡＤ的Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ对象。必须首先在ＶＢ中选择ＡｕｔｏＣＡＤ作为其对象,并对需要操作的具体对象按照Ａ…     

用NOAA—AVHRR资料监测红花尔基森林火灾

使用自行研制的林火实时监测软件对ＮＯＡＡ—ＡＶＨＲＲ资料进行林火信息增强、过火区增强、坐标精校正等分析处理，实时监测林火及其分布，快速测算火场和过火面积，及时得出林火遥感监测分析报告。展望今后相关技术的发展。     

多参数跟踪装置研究盐和复盐溶解动力学

采用微机与多台分析仪联机装置，测定了钠硼解石溶解过程中Ｎａ＾＋，Ｃａ＾２＋电位及ｐＨ值、电导率值的变化，改进联机装置为一机多用的采集系统，并对氯柱硼镁石在水中溶解的Ｍｇ＾２＋，Ｃｌ＾－，Ｈ＾＋电位等进行自动采样、储存、打印，编制了动力学所需数据处理程序，可进行电极校正，将测定值直接校为浓度，作出Ｃ－Ｔ的动力学曲线及计算动力学方程等，所得结果表明该装置对反庆快或体系均能同步而且准确地得出多种参数的实     

玉米大斑病菌毒素的钝化反应及其机理研究

用１８种化合物对ＨＴ－毒素进行钝化反应试验，结果表明：代森锰锌、Ｎａ２ＭｏＯ４，ＮａＮＯ，ＺｎＳＯ４，ＫＭｎＯ４，ＫＩ及４种糖可钝化毒素，使其对玉米的毒性降低；而ＣｕＳＯ４，ＮａＣｌ，ＫＣＩ２Ｏ５，Ｈ２Ｏ２可使毒素毒性增强。毒素处理玉米叶片后细胞膜透性、细胞的Ｖｃ氧化酶，ＣＡＴ，ＰＡＬ，ＰＰＯ活性都发生了一定的规律性变化，而毒素中加入Ｈ２Ｏ２和代森锰锌可抑制或加强这种变化。     

Ⅱ-VI族半导体的掺杂与补偿

采用离散变分局域密度泛函（ＤＶＬＤＦ）方法及团簇模型研究了ＩＩＶＩ族半导体中的掺杂及补偿问题。研究了ＺｎＳｅ中的Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ等杂质不同的结构和电子性质。发现ＮＳｅ在ＺｎＳｅ中没有ＪａｈｎＴｅｌｅｒ形变，而ＰＳｅ和ＡｓＳｅ存在这一形变，从而判定Ｎ是其中最有效的ｐ型掺杂剂。对于ｎ型的ＺｎＳｅ，研究发现Ｃｌ是最有效的施主杂质。根据对缺陷复合体的计算，发现ＮＳｅＺｎＶＳｅ及诸如ＮＳｅＺｎｉｎｔ的多Ｎ集团对于ｐ型ＺｎＳｅ的补偿有着重要作用。研究表明，对于ＺｎＴｅ来说，Ｃｌ不是有效的施主杂质，而Ｎ是有效的受主杂质。     

VBA在AutoCAD2000中对文本的操作

通过对ＡｕｔｏＣＡＤ文本操作二次开发几种方式的分析和比较，本文使用了ＶＢＡ对ＡｕｔｏＣＡＤ中文本操作的二次开发技术。