高电导有机金属聚合物的制备及性质研究

利用TTFTT为桥合成了一系列的有机金属聚合物(MTTFTTx- ) n(M =Ni,Cu ,Fe) ,研究了它们的电性质 ,结果表明 ,在室温下 ,它们的电导出现在 10 - 5～ 0 .4Ω- 1 ·cm- 1 范围内。[TEAxNiTTFTT]n 是室温下聚合物中电导最高的 ,我们测定了它的电阻对温度的依赖关系 ,呈半导性质 ,同时对该样品还采用了VSC的测量方法 ,结果表明该聚合物的电阻对温度的依赖关系在 2 83～ 150K区间内呈金属性。另外还对样品进行了热处理及ESR的测定。     

交换耦全嗓层膜NiO／Ni81Fe19的基片温度效应研究

用频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备ＮｉＯ单层膜、ＮｉＦｅ单层膜和ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜,研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响,用振动样品磁强计（ＶＳＭ）分析了膜的磁特性,结果表明：基片温度２６０℃时淀积的ＮｉＦｅ膜矫顽力ＨＣ为１８４Ａ·ｍ＾－１,小于室温淀积ＮｉＦｅ膜的ＨＣ（５８４Ａ·ｍ＾－１）,且磁滞回线的矩形度更好,室温下淀积ＮｉＯ（５０ｎｍ）／ＮｉＦｅ（１５ｎｍ）双层膜的ＨＣ     

不同退火的纳米晶Fe73.1Cu1.2Nb3.2Si12.5B10合金的结构和磁化率的温度关

在室温下，用Ｍ：＾ｏｓｓｂａｕｅｒ谱和透射电子显微镜考查了纳米晶Ｆｅ７３．１Ｃｕ１．２Ｎｂ３．２Ｓｉ１２．５Ｂ１０合金的显微组织，给出了α－Ｆｅ（Ｓｉ）晶粒的体积分数、平均直径以及非晶基体粒间层的平均厚度的数值。仔细地考查了不同退火态样品加热时交流起始磁化率的温度关系。结果表明，在非晶相Ｃｕｒｉｅ温度以上，随温度上升磁化率近似线性减小，在明显高于非晶Ｃｕｒｉｅ温度情况下达到极小值，而后再增大。用Ｈ     

Fe73.5Cu1Mo3Si13.5B9非晶合金的晶化动力学

用ＤＴＡ，结合ＸＲＤ，ＴＥＭ研究了Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｍｏ３Ｓｉ１３．５Ｂ９软磁非晶合金的晶化动力学，结果表明，该合金在４７８℃时析出ａ－Ｆｅ相，晶化初期激活能量最小（１４８ｋＪ．ｍｏｌ＾－１），它随晶化学量的增加而增大，在ＸＣ为５０－７８％时，呈极大值（５１０ｋＪ．ｍｏｌ＾－１）随退火温度的升高，α－Ｆｅ相的数目增多，但尺寸基本不变。为１４－１６ｍｍ。     

La1-xCaxMn1.03O3外延薄膜的巨磁电阻效应

研究了用溶胶－凝胶（ｓｏｌ－ｇｅｌ）方法在ＬａＡｌＯ３（１００）衬底上制备的Ｌａ－１ｘＣａｘＭｎ１．０３Ｏ３外延薄膜的磁电阻效应。ｘ在０．２～０．６２１范围内变化,外延薄膜的电阻率与温度的关系从类半导体行为向金属导电行为转变。在ｘ≥０．５的４个样品中没有发现电荷有序绝缘体（ＣＯＩ）和反铁磁绝缘体（ＡＦＩ）现象。ｘ＝０．２样品在１．５Ｔ磁场下磁电阻率ＭＲ的最大值为１０＾４％、磁转变温度为２３０Ｋ。     

Fe（OH）3中微量金属离子对水热合成α—Fe2O3粒径的影响

本文研究了某些金属离子（Ａｌ＾３＋、Ｍｎ＾２＋、Ｚｎ＾２＋、Ｃｒ＾２＋、Ｎｉ＾２＋、Ｃｏ＾２＋）Ｆｅ（ＯＨ）３凝胶经水热法合成的α－Ｆｅ２Ｏ３微粉颗粒大小的影响。研究结果出现，随着金属离子的浓度在一定范围内（０．０１０－０．０５０ｍｏｌ·Ｌ＾－１）的增加，α－Ｆｅ２Ｏ３颗粒有减小的趋势。其中加入Ｃｏ＾２＋（０．０５０ｍｏｌ·Ｌ＾－１）、Ｍｎ＾２＋（０．１００ｍｏｌ·Ｌ＾－１）可以得到粒径为７５ｎｍ     

炭轩填充降偏氟乙烯PTC复合材料研究

研究了炭黑（ＣＢ）浓度、热历史和辐照对ＰＶＤＦ－ＣＢ复合物电阻行为的影响。结果表明，最大ＰＴＣ强度发生在临界浓度Φｃ处，Φｃ略大于渗流阈值Φｐ，渗流区以外玩ＰＴＣ效应。热处理对电阻率－温度行为的影响由结晶状态（结晶度和结晶形态）造成的。结晶形态愈复杂，临界温度以下的正温度系数效应愈明显。结晶度越大，ＴＴＣ强度越大。并用ＤＳＣ温度结果解释了这一现象，４０Ｍｒａｄ以下剂量γ－＾６０Ｃｏ辐照能削弱ＴＮＣ     

电镀

９９０８０２６　室温电沉积马氏体Ｆｅ－Ｃ合金——ＨａｓｅｅｂＡ．ＭｅｔａｌＦｉｎｉｓｈｉｎｇ,１９９７,９５（３）∶３０（英文）开发了一种常温电沉积马氏体Ｆｅ－Ｃ合金工艺,该工艺规范为：ＦｅＳＯ４１５０ｇ／Ｌ、柠檬酸１０ｇ／Ｌ、左旋抗坏血酸１０ｇ／Ｌ、电流密度２～６Ａ／ｄｍ２、温度、室温。采用该工艺能获得致密、光滑、含Ｃ量在１％以上、硬度为７８０ＨＶ的Ｆｅ－Ｃ合金镀层,讨论了沉积层中含Ｃ量与柠檬酸浓度、左旋抗坏血酸浓度以及电流密度之间的相互关系。９９０８０２７　钢和铸铁的锰系磷化——Ｇｕｅｇｕｅ…     

亚甲基蓝和Ag^＋在活性炭纤维上的共吸附

研究了水蒸汽活化和化学活化两类活性纤维（ＡＣＦ）对水溶液中单组分亚甲基蓝和Ａｇ（ＮＨ３）＾＋２以及两者共存时的吸附特征，ＡＣＦ对水溶液中亚甲基蓝的吸附量主要取决于其表面积和孔分布，ＡＣＦ对Ａｇ＾＋的还原一吸附能力则主要取决其表面的化学性质，相同条件下，化学活化的ＡＣＦ对银离子的还原吸附量（３００ｍｇ．ｇ＾－１）比水蒸活化的ＡＣＦ的还原－吸附量（１００ｍｇ．ｇ＾－１）高，溶液中亚甲基蓝的存在显著改变     

钙钛矿型复合氧化物催化剂中过渡金属离子的状态及其间的相互作用

讨论了Ｂ位二元复下钛矿型复合氧化物ＬａＭｙＭ＇１－ｙＯ３（Ｍ，Ｍ＇＝Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ；ｙ＝０．０￣１．０）中过渡金属离子的状态及其间的相互作用。在Ｍｎ－Ｃｏ复合体系中，富锰区（ｙ〉０．５）Ｍｎ＾３＋－Ｏ＾２－－Ｍｎ＾４＋的铁磁超交换作用对样品的磁性起决定作用。富钴区（ｙ〉０．５）Ｃｏ＾２＋和Ｃｏ＾ＩＩＩ离子的存在及其浓度是影响磁性和电导性的主要因素。ｙ＝０．５时样品的结构决定了样品的强铁磁性质。在     

涂层与薄膜

２０００１２０１ 原位退火时磁控溅射Ｎｄ１Ｂａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ薄膜的影响——Ｍｏｒｉ Ｚ．Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ,１９９９,３５４（１～２）：１９５（英文） ＮｄＢａ２Ｃｕ３３Ｏ７－δ（ＮＢＣＯ）薄膜经原位退火后,薄膜质量得到改善。用单靶直流磁控溅射方法在 ＭｇＯ（１００）上制备 ＮＢＣＯ薄膜,沉积后将薄膜冷却至室温,然后在４００ＰａＯ２气氛中,将沉积室温升高至３５０－６００℃,保温０．５～８０．０ ｈ。经此处理后,薄膜的超导性能以及电阻率、粗糙度明显改善。原位退火后可提高薄膜Ｃ轴向零电阻温度…     

Nd0.67(Sr,Ca)0.33Mn(O,F)3磁电阻材料的结构与性能

通过掺ＣａＦ２制得了Ｎｄ０．６７（Ｓｒ,Ｃａ）０．３３Ｍｎ（Ｏ,Ｆ）３（ＮＳＭＯ）磁电阻材料,并对它们作了结构分析和磁性能测量。Ｘ射线衍射结果表明,ＮＳＭＯ化合物保持Ｎｄ０．６７Ｓｒ０．３３ＭｎＯ３的钙钛矿结构,空间群为Ｐｂｎｍ,Ｚ＝４,Ｆ＾离子占据８ｄ位置,随着ＣａＦ２掺和量的增加,晶格常数减小,居里温度降低,而磁电阻性质呈明显的递增趋势。     

交联型聚醚聚氨酯的表征、力学性能及其碱金属盐络合物的导电性能

采用三羟甲基丙烷（ＴＭＰ）作交联剂与聚乙二醇（ＰＥＯ－１５４０）和甲苯二异氰酸酯（ＴＤＩ）反应，得到了具有较好力学性能的交联型聚醚聚氨酯（ＰＥＵ），该聚合物与ＬｉＣｌＯ４的结合物具有较高的室温电导率（σ３０℃＝１．８７×１０￣（－４）Ｓ／ｃｍ）。采用全反射红外光谱（ＡＴＲ－ＩＲ）对聚合物的结构进行了表征。对聚合物的组成、不同ＴＤＩ类型及络合盐浓度对聚合物力学性能及其络合物电导率的影响进行了探讨。低度交联聚合物的络合物，其电导率与温度的关系符合建立在自由体积理论上的ＶＴＦ方程，表明络合物中离子的传导主要是在无定形区域进行，与自由体积有关。     

X射线影像存储材料BaF_xCl_（2－x）Eu~（2＋）的制备及其热释发光和

本文采用了不同温度下两次烧结的新方法，制备了系列Ｘ射线影象存储材料ＢａＦ＿ｘＣｌ＿（２－ｘ）：Ｅｕ￣（２＋）（ｘ＝０．９０，０．９５，１．００，１．０５，１．１０１．１５）。通过改变Ｆ／Ｃｌ比值，研究了在Ｘ射线辐照后ＢａＦ＿ｘＣｌ＿（２－ｘ）：Ｅｕ￣（２＋）的热释发光性质，给出了热释发光峰的温度与缺陷种类的关系。最后，我们研究了ＢａＦ＿ｘＣｌ＿（２－ｘ）：Ｅｕ￣（２＋）的光激励发光性质，给出了Ｆ／Ｃｌ比值与光激励发光强度的关系。     

M（C3S5）2型分子导体的制备及其电磁和电荷转移性质

制备了晶态分子导体Ｎｉ（Ｃ３Ｓ３）２，Ｐｄ（Ｃ３Ｓ３）２，Ｐｔ（Ｃ３Ｓ３）２和无定形分子导体Ｃｕ（Ｃ３Ｓ３）２，测定它们的电阻－温度曲线，磁化率－温度曲线，结合ＥＨＭＯ理论计算与波谱分析，得出导电组元的分子轨道形式，计算了Ｎｉ（Ｃ３Ｓ５）２晶体的能带，在此基础上阐明了Ｎｉ（Ｃ３Ｓ５）２的导电机组理和半导体→导体相变的机理，讨论了Ｍ（Ｃ３Ｓ３）２＾２－与（Ｍ（Ｃ３Ｓ３）２＾－，（Ｍ（Ｃ３Ｓ２）２）＾     

DMF中脉冲电沉积Nd—Co合金膜

研究了室温下在含有少量水的ＮｄＣｌ３－ＣｏＣｌ２ＤＭＦ溶液中Ｎｄ－Ｃｏ功能合金膜的电沉积。应用脉冲电镀制备出不同质量的合金膜。试验结果表明：Ｄ ０．４５ｍｏｌ／ＬＮｄＣｌ３＋０．０５ｍｏｌ／ＬＣｏＣｌ２＋适量乙二胺的ＤＭＦ电镀液中，控制脉电流密度为１００－１５０Ａ／ｍ＾２，可得到有金属光泽的灰色稀土合金膜。     

金红石TiO2晶体中F和F+心电子结构及其吸收光谱研究

本文运用嵌入原子簇的电荷自洽离散变分方法（ＳＣＣ－ＤＶＭ－Ｘα方法）分别对ＴｉＯ２晶体中Ｆ和Ｆ＾＋心的能级结构进行计算,得到了Ｆ和Ｆ＾＋心的光学吸收跃迁模式,其跃迁能量分别是０．９８,１．７８ｅＶ,我们认为,经还原后的ＴｉＯ２晶体,在光吸收实验中测到的１．２μｍ（１．０２ｅＶ）,７６０ｎｍ（１．７５ｅＶ）两个峰分别是由于还原过程中形成的Ｆ和Ｆ＾＋心的吸收峰,并存在着Ｆ→Ｆ＾＋的转型过程。     

新型超微晶Fe_（81）P_（12）C_3Si_（2．5）Cu_1Mo_（0．5

在室温下，借助Ｍｏｓｓｂａｕｅｒ谱技术，研究非晶合金Ｆｅ_（８１）Ｐ_（１２）Ｃ_３Ｓｉ_（２．５）Ｃｕ_１Ｍｏ_（０．５）晶化过程中局域结构的变化。发现整个晶化由两个阶段组成：第一个阶段（３００－３６０℃之间退火）为α－Ｆｅ相的形核与长大阶段；第二个阶段主要为Ｆｅ_３Ｐ相的形核与长大阶段。同时该合金在３６０℃退火获得最佳软磁性能。还讨论了软磁性能与结构变化之间的关系。     

离子束溅射沉积羟基磷灰石涂层钛种植体材料的制备和表征

采用Ａｒ＾＋离子束溅射沉积技术和钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层,Ａｒ＾＋离子束的能量分别为０．９ｋｅＶ、１．２ｋｅＶ和１．５ｋｅＶ。利用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电（ＳＥＭ０、透射电镜（ＴＥＭ）和红外光谱（ＦＴＩＲ）等检测方法,对制备的羟基磷灰石薄膜涂层进行了表征。Ｘ射线衍射和透射电结果表明该薄膜涂层为非晶态;红外光谱中无羟基（ＯＨ）特征峰存在,ＣＯ３根吸收峰的出现说明制备过程中会引入ＣＯ３根;扫     

DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜

研究了于室温下含有少量水的ＹｂＣｌ３－ＣｏＣｌ２－ＤＭＦ溶液中电沉积制备Ｙｂ－Ｃｏ合金膜。ＥＤＡＸ和ＸＲＤ分析表面：在０．１０ｍｏｌ／Ｌ ＹｂＣｌ３－０．１０ｍｏｌ／Ｌ ＣｏＣｌ２的ＤＭＦ电镀液中,以控制电位为－２．７５Ｖ（ＳＣＥ）进行恒电位电解,以控制电流密度为１００Ａ／ｍ＾２进行恒电流电解或以控制脉冲电流密度为１５０Ａ／ｍ＾２进行脉冲电解,可以得到不同形态和Ｙｂ含量的共沉积合金膜,且膜层光滑、