纯铝化学镀CoNiP磁记录介质的研究

本文研究了用化学镀制取CoNiP磁记录介质的工艺，结果表明，对纯铝进行化学除油，酸蚀，一次浸锌和二次浸锌后，再化学镀CoNiP合金，该合金的磁性能为：Hc∥＝26207．68A／m,Hc(⊥)=45408.64A;SQR(∥)=0.352,SQR(⊥)＝0．083，可作为高密度磁记录介质使用。     

高性能磁记录介质磁层的发展趋势

概述了BaFe磁粉的先进特性和MP／ME的快速发展，并得出一种看法：在今后几年MP磁层将得到更大的发展。     

FePt/B4C垂直磁记录介质薄膜的制备与表征

采用直流及射频磁控溅射结合真空退火的方法成功制备了（001）择优生长的FcPt/B4C多层薄膜并对其结构与磁性能做了初步的表征．结果表明，在每一个FbPt单元层中能得到较好（001）面择优的fet相FbPt合金，并且随着B4C含量的增大，薄膜的有序度提高．高分辨透射电子显微镜及其傅立叶变换表明，FePt层为具有（001）织构的fct相Fe55Pt45合金．样品的M-H曲线显示其垂直膜面方向矫顽力约为302.481kA/m；平行膜面方向矫顽力很小．     

FePt—MgO垂直磁记录介质的磁性和记录特性之间的关系

利用溅射和退火工艺制备了不同组分和厚度的FePt-MgO垂直磁记录介质,并用极化克尔效应测量了介质的磁滞回线,用spinstand测量了记录性能.研究结果表明,垂直记录介质中磁性晶粒间交换耦合的α值与退火前单层FePt的厚度成反比;信噪比与α值成反比;高频噪音与α值成正比.     

硬盘磁记录介质的现状与发展

讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状。并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来。指出高密度、高信噪比Ｓ／Ｎ的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴。     

国外颗粒磁记录介质最新发展状况

本文着重介绍了国外颗粒磁记录介质氧化铁、氧化铬、钴改性氧化铁、金属磁粉以及钡铁氧体目前发展趋势和市场状况。     

CoCrPtNb/CrTi/C玻璃盘基磁记录介质制备与性能

采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/Glass Substrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高达240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%(原子分数)时达到极大值360kA/m此时剩磁比S=0.90,矫顽力矩形比S*=0.92,从而制成了适于高密度或超高密度磁记录使用的薄膜介质.并详细分析了在室温条件下溅射,此种介质矫顽力与Nb含量变化的关系;并对退火后介质矫顽力与Nb含量变化的关系也进行了讨论.     

超高密度磁记录介质的研究进展与未来趋势

磁记录在过去的50年内经历了磁带、硬盘水平记录模式和垂直记录模式,其记录面密度达到～150Gbit/in~2,50年中记录面密度提高了约10~7倍。在未来5～10年内,磁记录面密度的目标是1000Gbit/in~2(即今天的6～7倍)。本演讲将从磁记录介质因素(磁晶各向异性能和磁有序诱发相分离)和记录模式两方面来评述磁记录面密度的发展过程和相关科学问题的解决、现在面,临的“瓶颈“困境以及未来的发展方向。首先从热力学的角度综述了最近几年对当前唯一可行的Co-Cr基合金介质发生的这种磁有序诱发相分离的认识和理解,通过实验证据和热力学计算来阐明该合金体系能形成纳米双相组织的成因,并解释有效合金化元素Pt、Ta、B对Co-Cr基合金薄膜提高其有效磁晶各向异性能和降低记录噪音的作用。详细分析该体系多元合金作为磁记录介质发展过程中的科学问题(磁晶各向异性能的改善、磁记录信噪比(SNR)的提高与双相组织的关系)以及目前面临的困境(超顺磁)和可能解决的方案。着重阐明未来可能的超高密度记录材料(相分离型合金Co-W和Co-Mo、有序化型合金CoPt和FePt,稀土型合金FeNdB和SmCo_5等)的研究进展和以上各种材料目前存...     

超高密度磁记录介质的研究进展

总结了近年来超高密度磁记录介质的研究概况,着重介绍了垂直磁记录介质中L10相FePt薄膜的研究方法,并认为L10相FePt薄膜将会成为高密度磁盘记录介质的主流.倾斜磁记录、热辅助磁记录、图案记录等存储技术,目前处于实验室研究阶段,但是有望突破垂直磁记录的超顺磁极限,实现超高密度磁记录.     

新型磁性蓄冷材料G—M制冷机的研制

对应用磁性蓄冷材料作为二级蓄冷器填料而研制的大制冷功率两级Ｇ－ Ｗ 制冷机的研究工作进行了总结,给出了理论分析及结构设计。并在一台样机进行了实验研究,通过优化制冷机结构参数和运行参数,使制冷机二级最低制冷温度达７．８ Ｋ、２０ Ｋ 时取得１４．５ Ｗ 的有效制冷量,从理论和试验上对应用磁性蓄冷材料改善Ｇ－ Ｍ 制冷机性能的有效性进行了有益的探索。     

三维连通网络陶瓷的电磁特性Ⅱ电磁参数的影响因素

通过对具有不同骨架L径、陶瓷浆料组分在不同温度下烧结的三维连通网络陶瓷的电导率和电磁参数的测量,研究了对这种网络结构材料电磁参量的影响因素.结果表明,当三维连通网络陶瓷的电导率为10-4＜σ＜101S/cm时,其电损耗及感应磁损耗较大.三维连通网络陶瓷在高温下有较大的介电损耗特性,使其成为耐高温电吸波材料的理想选择.     

磁制冷发展现状及趋势：Ⅰ磁致冷材料

简要介绍了磁制冷的原理、热力学构架,简述了磁热效应的表征和测试方法,总结了磁致冷材料的选择依据,概述了近120年来各温区磁致冷材料的研究进展及最新研究成果,并展望了磁制冷材料的发展趋势。     

三维连通网络陶瓷的电磁特性Ⅰ网络结构特性

分别用矩形谐振腔微扰法和波导传输线法测量了三维连通网络陶瓷及其同质粉末压片的电磁参数的温度特性和频率特性。结果表明，无论是磁性还是非磁性三维连通网络陶瓷在较宽的温度范围及整个测试频段内都比其同质粉末具有更大的电磁损耗，这种损耗差异来自它的三维连通网络结构特性，三维连通网络结构使材料电损耗的增加远远大于磁损耗的增加，三维网络陶瓷的这一特点，为研制兼具耐高温，宽频，廉价于一身的结构吸波材料提供了新思路。     

薄膜热应力的研究

讨论了薄膜热应力的产生原因及其计算方法。热应力与薄膜和基片的热膨胀系数、基片温度及其分布密切相关。利用溅射沉积在基片表面上的Fe－Ni薄膜热电偶测量薄膜沉积过程中的基片温度及其变化。Fe－Ni薄膜热电偶具有易于制作、稳定性好和动态响应快等优点，热电势率也较高（0．022mV／℃）。最后，简要介绍了磁控溅射Co－Cr合金膜的热应力和本征应力的研究结果。     

Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性

用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜，研究了Ni含,源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构，磁性及热稳定性的影响。选择合适的工艺条件，可制得在（100）面方向有100％晶粒取向度的单一γ′（Fe,Ni)4N相，Ni含量为6．7％（摩尔分数）的Fe-Ni-N薄膜具有较的软磁性能，其饱和磁化强度Ms为2．04T，矫顽力Hc为0.68kA/m。但是随着Ni含量的提高，Fe-Ni-N薄膜的热稳定下降，在主源气压比PN2／PAr较低时，有利于氮含量较低的γ′相的形成，在较高的PN2／PAr条件下，则形成氮含量较高的ε-（Fe,Ni)2-3N相和ξ－（Fe,Ni)2N相。     

用于超短激光脉冲检测的新型光电薄膜的量子产额

超短激光脉冲的研究已经成为基础科学与应用科学研究的重要内容，对用于检测这种信号的光电发射功能薄膜材料的研究也受到人们极大重视。Ag－Ba－O薄膜是一种可以经历暴露大气，用于超短激光脉冲检测的新型光电发射材料。光电薄膜在超短激光脉冲作用下的量子产额测量与普通可见光作用下量子产额的测量有很大不同。当激光波长为1．06μm，激光的功率密度为107～108W／cm2，选单光脉冲宽度为40Ps时，经历暴露大气的Ag－Ba－O薄膜光电量子产额为10-6数量级。这种薄膜经历暴露大气后，可见光的积分灵敏度全部损失，但在1．06μm激光作用下恢复，光电量子产额不比未暴露大气的样品低。这为Ag－Ba－O薄膜应甲于红外超短激光脉冲的检测奠定了基础。     

倾斜磁场中条形传导薄板的磁弹性振动

以磁弹性基本假设为出发点,给出了倾斜磁场中无限长条形薄板的磁弹性运动方程及电动力学方程,并推得了两长边简支薄板的磁弹性振动特征方程式。算例表明,磁场因素的存在,将不同程度地影响着传导薄板的振动情况,从而可达到控制该磁场环境中薄板振动的目的。     

垂直截面法测量的断口分形维数与7475 Al 合金超塑性的关系

本文利用垂直截面法测量了7475Al 合金在不同温度、不同应变速率及不同晶粒尺寸条件下超塑拉伸变形时断裂表面的分形维数。结果表明:断裂表面的分形维数越高,合金超塑拉伸破断时的延伸率越大。     

阳极复膜法制备铝箔金相试样及组织观察

介绍了一种阳极复膜法观察铝箔显微组织的方法，用此方法可以观察到寒带的晶粒组织，并可同时显现出位错坑和晶粒形貌，利用位错坑方向、数量和晶粒的色彩还可以分析铝箔表面的织构取向。