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用脉冲电沉积技术,在ITO玻璃基片上制备了SnS:Ag薄膜.用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的物相结构和表面形貌,结果表明SnS:Ag薄膜出现了新物相Ag6SnS6,结晶度好,颗粒度大.用光电流测试研究了其导电性能,表明SnS:Ag薄膜是p型半导体材料.霍尔测量表明掺杂后载流子浓度增大,电阻率降低. 相似文献
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用脉冲电沉积技术,在ITO玻璃基片上制备了SnS∶Ag薄膜. 用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的物相结构和表面形貌,结果表明SnS∶Ag薄膜出现了新物相Ag8SnS6,结晶度好,颗粒度大. 用光电流测试研究了其导电性能,表明SnS∶Ag薄膜是p型半导体材料. 霍尔测量表明掺杂后载流子浓度增大,电阻率降低. 相似文献
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真空蒸发法制备SnS薄膜及其光电性能研究 总被引:4,自引:1,他引:3
采用真空蒸发法,在载玻片上制备了SnS薄膜。分析表明,此法制备的SnS薄膜的导电类型为p型,在(111)晶面上有很强的择优取向;其晶粒呈棒状,平均长度约为0.2~0.3μm,薄膜中的S与Sn原子非常接近化学计量比,在吸收边附近薄膜的吸收系数约为105cm-1,光学能隙Eg约为1.35 eV,电阻率约为240Ω.cm,比其它方法制备的SnS薄膜,其在光学与电学性能上有较大的改善,更适合做薄膜太阳能电池的吸收层。成功制备出了ITO/p-SnS/n-Si/Ag结构的太阳电池,其光电转换效率达0.71%。 相似文献
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电沉积法制备SnS薄膜 总被引:13,自引:2,他引:11
采用了电沉积在SnO2透明导电玻璃上制备了硫化锡(SnS)薄膜,并对用电化学法实现Sn和S共沉积的条件参数进行了理论探讨,实验中,利用SnCl2和Na2S2O3的混合水溶液作为电沉积液制备了均匀的SnS薄膜,对实验参数进行了优化,对薄膜进行了X-射线衍射(XRD),扫描电子显微(SEM)测量及光学测试,。实验发现,制备的薄膜为多晶的斜方晶系结构,晶粒大小约为150nm,直接光学带隙在1.36-1.73eV之间可调。 相似文献
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采用电沉积法制备了硒化镉(CdSe)薄膜,讨论了Cd(NO3)2和H2SeO3摩尔比(n(Cd∶Se))、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)浓度、沉积电压和时间等条件对CdSe薄膜光电压的影响,并对样品进行X射线衍射(XRD)、能谱分析(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)等表征.结果表明,CdSe薄膜制备最优条件是在二甲基甲酰胺(DMF)体系中,以0.005 5 mol/L PVP、0.036 mol/L Cd(NO3)2、0.054 mol/L H2SeO3混合液为电解液,室温下3.0V直流电压沉积15 min,可得最高0.368 0 V光电压的CdSe薄膜.XRD表征显示,在2θ值为25.354°,42.010°,49.699°,67.083°和76.780°处出现了(111),(220),(311),(331)和(422)五个晶面衍射峰,与立方型CdSe标准衍射卡(PDF 19-0191)峰位相吻合.EDS分析表明,样品中Cd和Se质量分数分别为45.60%和51.65%,原子分数分别为36.84%和59.02%.SEM表征显示,样品中的CdSe呈多层链网结构,链直径尺寸为80~300 nm. 相似文献
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近年来化合物薄膜太阳电池得到迅猛的发展。SnS光电薄膜的禁带宽度与太阳光谱非常匹配,并且具有较高的吸收系数,所以它是一种理想的太阳电池材料。制备SnS光电薄膜的方法有电沉积法、热蒸发法、化学浴法、连续离子吸附沉积法、喷雾热解法和两步法等。不仅概述了不同掺杂元素以及掺杂浓度对SnS薄膜性能的影响,同时还讨论了目前国内外SnS薄膜太阳电池的研究状况,分析了当前SnS薄膜太阳电池效率偏低的原因。最后对SnS薄膜太阳电池的发展趋势与前景作了一些探讨。 相似文献
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以Cd(NO3)2·4H2O,Na2 SeO3和Na2TeO3的混合液为电解液,采用电化学共沉积法在氧化铟锡(ITO)玻璃基底上制备了CdSexTey薄膜样品.探讨了沉积电压、水浴温度、沉积时间以及Cd,Te和Se物质的量比等制备条件对样品在模拟太阳光下的开路电压的影响.结果表明,在沉积电压为3.0V,水浴温度为50℃,沉积时间为30 min,n(Cd)∶n(Te)∶n(Se)=5.6∶1∶1时制备的CdSexTey薄膜具有较高的开路电压,其值可达到0.464 1 V.X射线衍射(XRD)分析结果显示,CdSexTey样品中含单质态Se,CdSexTey的3个主要衍射峰对应的晶粒尺寸分别为43.07,44.56和44.03 nm.能谱分析(EDS)结果显示,样品中Cd,Te,Se元素的质量分数分别是6.53%,6.25%和14.52%,原子数分数分别为1.68%,1.42%和5.32%.对Cd元素原子数分数进行归一化处理,则样品CdSexTey中x为3.17(其中有化合态Se2-为0.15,单质态Se为3.02),y为0.85. 相似文献
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掺杂浓度对AZO薄膜结构和光电性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)工艺在普通玻璃基片上成功地制备出高c轴择优取向性、高可见光透过率和低电阻率的Al3+掺杂型的ZnO透明导电薄膜,对这种薄膜进行了X-射线衍射和扫描电镜分析,并对其光电性能作了详细的研究。结果表明,制备的薄膜为钎锌矿型结构,呈c轴方向择优生长;其可见光透过率可达85%以上;Al3+掺杂型的ZnO透明导电薄膜的电阻率在1.5×10-2~8.2×10-2Ω.cm。 相似文献
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ITO薄膜的溶胶-凝胶法制备 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了几种用溶胶 凝胶法制备ITO薄膜的工艺方法 ,用其中一种无机的方法成功制备了ITO透明导电膜。当薄膜厚度为 30 0nm左右时 ,所得ITO薄膜在可见光区域内的平均透过率在 85 %以上 ,电阻率最低可达 0 .1 5Ω·cm。 相似文献
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采用化学溶液沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上制备LaxSr1-xCoO3(简称LSCO)导电薄膜,对不同的La/Sr比以及掺入Ni的情况下LSCO导电薄膜的红外光学性质进行了比较研究.结果表明:LSCO薄膜的红外吸收与La/Sr的化学计量比值有关,当La/Sr为1∶1时,LSCO薄膜的红外吸收最强;在LSCO薄膜中掺入一定量的Ni后,其红外光吸收将会增强,这说明掺Ni有利于提高基于LSCO薄膜电极的铁电探测器的红外吸收能力. 相似文献
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《半导体光子学与技术》2010,(4):132-136,145
SnS∶Ag thin films were deposited on ITO glasses by pulse electro-deposition. By studying the effect of duty cycle on the properties of SnS∶Ag thin films, the optimum off-time(toff) is obtained to be 5 s, namely, the optimal duty cycle is about 67%. The primary phase of SnS∶Ag films deposited on optimum parameters condition is SnS compound with good crystallization, and the films prefer to grow towards (111) plane. The films are dense, smooth and uniform with good microstructure, and the grains in the films are densely packed together, and their direct bandgap is about 1.40 eV. In addition, the bandgap of the films first rises and then drops with the increase of the duty cycle. 相似文献
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